显示装置及其制造方法与流程

本发明是有关于一种显示装置及其制造方法，且特别是有关于一种具有多个斜向导电结构的显示装置及其制造方法。

背景技术：

在具有可挠性基板的显示装置中，可挠性基板可能会因为应用上的需求而需要施力而使其被产生对应的卷曲或挠曲。而在可挠性基板被卷曲或挠曲时，如何降低其上的线路损伤或损坏的可能，或是其上的线路整体上仍可以具有良好的传输能力，实已成目前亟欲研究的课题。

技术实现要素：

本发明提供一种显示装置及其制造方法，其具有较佳的品质。

本发明的显示装置包括可挠性基板、第一导线、第二导线以及多个斜向导电结构。可挠性基板具有第一表面及相对于第一表面的第二表面。可挠性基板包括显示区及可挠曲区。第一导线位于可挠性基板的第一表面上。第一导线自显示区延伸至可挠曲区。第二导线位于可挠性基板的第二表面上。第二导线至少配置于可挠曲区。多个斜向导电结构至少配置于可挠曲区且至少贯穿可挠性基板。多个斜向导电结构电性连接第一导线及第二导线。

本发明的显示装置的制造方法包括以下步骤：提供可挠性基板，其具有第一表面及相对于第一表面的第二表面，且可挠性基板包括显示区及可挠曲区；形成第一导线于可挠性基板的第一表面上，且第一导线自显示区延伸至可挠曲区；形成贯穿可挠性基板的多个斜向通孔，且多个斜向通孔至少位于可挠曲区；以及于第二表面上及多个斜向通孔内形成导电材料，以至少形成第二导线及多个斜向导电结构。

基于上述，在显示装置或其制造方法中，借由配置于可挠曲区且贯穿可挠性基板的多个斜向导电结构，且多个斜向导电结构电性连接于位于可挠性基板相对两表面的第一导线及第二导线。如此一来，可以使显示装置具有较佳的品质。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1a至图1c是依照本发明的第一实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分上视示意图。

图2a至图2c是依照本发明的第一实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分剖视示意图。

图3是依照本发明的第一实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

图4是依照本发明的第一实施例的一种显示装置的部分下视示意图。

图5是依照本发明的第一实施例的一种显示装置的上视示意图。

图6a至图6b是依照本发明的第二实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分上视示意图。

图7a至图7b是依照本发明的第二实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分剖视示意图。

图8是依照本发明的第二实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

图9a及图9b是依照本发明的第三实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

图10是依照本发明的第四实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

图11是依照本发明的第五实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

图12a是依照本发明的第六实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

图12b是依照本发明的第六实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

图13是依照本发明的第七实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。

其中，附图标记

100、200、300、400、500、600、700：显示装置

110、111、112、113：第一导线

110w：线宽

119：第一图案化导电层

120、121、122、123：第二导线

129：第二图案化导电层

120w：线宽

130：第三导线

130w：线宽

140、141、142、143、240：斜向导电结构

341、441、541、641：第一斜向导电结构

342、442、542、642：第二斜向导电结构

140a、140b、240a、240b：径宽

140d、240d、441d、442d、641d、642d：延伸方向

641e、642e：投影方向

140e：投影

140s、240s：侧壁

541w：第一径宽

542w：第二径宽

p1：第一间距

p2：第二间距

150：可挠性基板

150a：第一表面

150b：第二表面

150c：剖面

151：显示区

152：第一连接区

153：可挠曲区

154：第二连接区

160：绝缘层

180、280：斜向通孔

180a、180b：口径

180d：延伸方向

91、92：雷射装置

a1、a2、a3、a4、a5、a6：夹角

c1、c2、c3、c4、c5、c6：中点

d1：方向

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明技术方案进行详细的描述，以更进一步了解本发明的目的、方案及功效，但并非作为本发明所附权利要求保护范围的限制。

在附图中，为了清楚起见，放大了各元件等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在“另一元件上”、或“连接到另一元件”、“重叠于另一元件”时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理及/或电连接。

应当理解，尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等在本文中可以用于描述各种元件、部件、区域、层及/或部分，但是这些元件、部件、区域、及/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一个元件、部件、区域、层或部分区分开。因此，下面讨论的“第一元件”、“部件”、“区域”、“层”、或“部分”可以被称为第二元件、部件、区域、层或部分而不脱离本文的教导。

这里使用的术语仅仅是为了描述特定实施例的目的，而不是限制性的。如本文所使用的，除非内容清楚地指示，否则单数形式“一”、“一个”和“该”旨在包括复数形式，包括“至少一个”。“或”表示“及/或”。如本文所使用的，术语“及/或”包括一个或多个相关所列项目的任何和所有组合。还应当理解，当在本说明书中使用时，术语“包括”及/或“包括”指定所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件的存在及/或部件，但不排除一个或多个其它特征、区域整体、步骤、操作、元件、部件及/或其组合的存在或添加。

此外，诸如“下”或“底部”和“上”或“顶部”的相对术语可在本文中用于描述一个元件与另一元件的关系，如图所示。应当理解，相对术语旨在包括除了图中所示的方位之外的装置的不同方位。例如，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其他元件的“下”侧的元件将被定向在其他元件的“上”侧。因此，示例性术语“下”可以包括“下”和“上”的取向，取决于附图的特定取向。类似地，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其它元件“下方”或“下方”的元件将被定向为在其它元件“上方”。因此，示例性术语“下面”或“下面”可以包括上方和下方的取向。

本文使用的“大致上”或“基本上”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差的特定数量(即，测量系统的限制)。例如，“约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。

除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本发明的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。

本文参考作为理想化实施例的示意图的截面图来描述示例性实施例。因此，可以预期到作为例如制造技术及/或公差的结果的图示的形状变化。因此，本文所述的实施例不应被解释为限于如本文所示的区域的特定形状，而是包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙及/或非线性特征。此外，所示的锐角可以是圆的。因此，图中所示的区域本质上是示意性的，并且它们的形状不是旨在示出区域的精确形状，并且不是旨在限制权利要求的范围。

图1a至图1c是依照本发明的第一实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分上视示意图。图2a至图2c是依照本发明的第一实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分剖视示意图。举例而言，图2a可以是对应图1a中i-i’剖线上的剖视示意图，图2b可以是对应图1b中ii-ii’剖线上的剖视示意图，图2c可以是对应图1c中iii-iii’剖线上的剖视示意图。

请参照图1a及图2a，提供可挠性基板150。可挠性基板150具有第一表面150a及相对于第一表面150a的第二表面150b。可挠性基板150包括显示区151、第一连接区152、可挠曲区153及第二连接区154。第一连接区152可以位于显示区151与可挠曲区153之间。可挠曲区153之间可以位于第一连接区152及第二连接区154之间。

请继续参照图1a及图2a，于可挠性基板150的第一表面150a上形成第一导线110。第一导线110可以自显示区151经由第一连接区152延伸至可挠曲区153。

在一实施例中，可以借由溅镀的方式在可挠性基板150的第一表面150a上形成第一图案化导电层119。第一图案化导电层119中的部分图案化线路可以构成第一导线110。

在一实施例中，第一图案化导电层119可以具有开口119a。在一实施例中，开口119a可以贯穿部分的第一导线110。

在一实施例中，可以在可挠性基板150的第一表面150a上形成适于驱动发光元件的驱动元件(未绘示)。举例而言，可以借由常用的半导体制程，以在位于显示区151的第一表面150a上形成适于驱动发光元件(如：发光二极管；未绘示)或电极(如：驱使液晶转向的画素电极；未绘示)的薄膜电晶体(thinfilmtransistor；tft)。

在一实施例中，位于显示区151的部分第一导线110可以电性连接于对应的驱动元件(未绘示)或发光元件(未绘示)。举例而言，第一导线110可以借由对应的扫描线(scanline)、对应的数据线(dataline)或对应的电源线(powerline)电性连接于对应的驱动元件或发光元件。

在本实施例中，第一导线110与可挠性基板150之间可以具有绝缘层160，但本发明不限于此。

在一实施例中，绝缘层160可以是相同或相似于被称为缓冲层(bufferlayer)的绝缘膜层、被称为闸绝缘层(gateinsulatinglayer；gi)的绝缘膜层、被称为平坦层(planarlayer；pl)的绝缘膜层或包括上述的一种或多种的组合，但本发明不限于此。

请参照图1a至图1b及图2a至图2b，形成贯穿可挠性基板150的多个斜向通孔180。斜向通孔180至少位于可挠曲区153。举例而言，可以借由雷射装置91，以雷射烧灼的方式，从可挠性基板150的第一表面150a上形成自第一表面150a向第二表面150b贯通可挠性基板150的斜向通孔180。

在本实施例中，斜向通孔180的位置可以对应于第一图案化导电层119的部分开口。也就是说，就结构上而言，第一图案化导电层119的部分开口可以是斜向通孔180的一部分。

在本实施例中，部分的斜向通孔180可以更位于第一连接区152，但本发明不限于此。

在本实施例中，斜向通孔180位于第一表面150a上的开口(可以被称为上开口)的口径180a可以大于位于第二表面150b上的开口(可以被称为下开口)的口径180b。

在本实施例中，斜向通孔180的延伸方向180d与第一表面150a之间的夹角a1基本上介于30度(degree；°)至60°(即，大于或等于30°，且小于或等于60°)，且/或斜向通孔180的延伸方向180d与第二表面150b之间的夹角a2具有基本上介于30°至60°。

在本实施例中，第一表面150a与第二表面150b大致上平行，但本发明不限于此。

在一实施例中，斜向通孔180的延伸方向181d大致上可以是自其上开口的中点c1向其下开口的中点c2的连线(如：图2b中连接中点c1及中点c2的虚线)的方向。

在本实施例中，斜向通孔180可以更贯穿绝缘层160。

请参照图1b至图1c及图2b至图2c，形成斜向通孔180之后，可以在可挠性基板150的第二表面150b上形成第二图案化导电层129。第二图案化导电层129中的部分图案化线路可以构成第二导线120。另外，用于形成第二图案化导电层129的部分导电材料可以更填入斜向通孔180内，而可以形成至少贯穿可挠性基板150的斜向导电结构140。

在一实施例中，可以在可挠性基板150的第二表面150b上形成种子层(seedlayer)，然后再借由电镀的方式于前述的种子层上镀覆电镀层。电镀层可以更填入斜向通孔180内。并且，可以在对前述的种子层进行图案化步骤之后，且在对前述的种子层进行图案化步骤之后，使图案化的种子层及图案化的电镀层构成第二图案化导电层129。

在本实施例中，斜向导电结构140的外型大致上可以对应于斜向通孔180的轮廓。

在本实施例中，斜向导电结构140可以具有彼此相对的顶端及底端。斜向导电结构140的底端可以接触第二导线120。斜向导电结构140的顶端的径宽140a(径宽140a可以被称为：顶径宽)可以大于斜向导电结构140的底端的径宽140b(径宽140b可以被称为：底径宽)。

在本实施例中，斜向导电结构140的延伸方向140d与第一表面150a之间的夹角a3基本上介于30°至60°，且/或斜向导电结构140的延伸方向140d与第二表面150b之间的夹角a4具有基本上介于30°至60°。也就是说，斜向导电结构140的延伸方向140d不垂直于第一表面150a及/或第二表面150b。

在一实施例中，斜向导电结构140的延伸方向140d大致上可以是自其顶端的中点c3向其底端的中点c4的连线(如：图2c中连接中点c3及中点c4的虚线)的方向。

在一实施例中，斜向导电结构140的延伸方向140d与第一表面150a或第二表面150b之间的夹角(如：夹角a3或夹角a4)可以基本上介于40°至50°，但本发明不限于此。

在本实施例中，斜向导电结构140可以更贯穿第一导线110与第二导线120之间的膜层。举例而言，斜向导电结构140可以更贯穿位于第一导线110与第二导线120之间的绝缘层160。

在本实施例中，填入斜向通孔180内的导电材料可以更进一步地覆盖于可挠性基板150的第一表面150a上，而可以形成覆盖第一导线110的第三导线130。也就是说，第二导线120、斜向导电结构140及第三导线130的材质可以基本上相同。

至少经过上述的制造方法后即可大致上完成本实施例的显示装置100的制作。

图1c可以是依照本发明的第一实施例的一种显示装置100的部分上视示意图。图2c可以是依照本发明的第一实施例的一种显示装置100的部分剖视示意图。图3是依照本发明的第一实施例的一种显示装置100的部分剖视示意图。图4是依照本发明的第一实施例的一种显示装置100的部分下视示意图。图5是依照本发明的第一实施例的一种显示装置100的上视示意图。举例而言，图1c可以是对应图5中区域r1的上视示意图，图3可以是对应图1c中iv-iv’剖线上的剖视示意图，图4可以是对应图5中区域r1的下视示意图。另外，斜向导电结构140可能不会完全地刚好位于iv-iv’剖线所构成的剖面上，但是，为求清楚表示，于图3仍以虚线示意性地绘示了斜向导电结构140投影于前述剖面上的可能样貌。

请参照图1c、图2c及图3至图5，显示装置100包括可挠性基板150、第一导线110、第二导线120以及多个斜向导电结构140。第一导线110位于可挠性基板150的第一表面150a上。第一导线110自显示区151至少延伸至可挠曲区153。第二导线120位于可挠性基板150的第二表面150b上。第二导线120至少配置于可挠曲区153。多个斜向导电结构140至少配置于可挠曲区153。斜向导电结构140贯穿可挠性基板150，且多个斜向导电结构140电性连接第一导线110及第二导线120。

在本实施例中，斜向导电结构140的延伸方向140d于第一表面150a或第二表面150b上的投影140e基本上平行于第一导线110的延伸方向110d于第一表面150a或第二表面150b上的投影110e，且/或斜向导电结构140的延伸方向140d于第一表面150a或第二表面150b上的投影140e基本上平行于第二导线120的延伸方向120d于第一表面150a或第二表面150b上的投影120e。也就是说，于垂直于第一表面150a或第二表面150b的方向(如：图1c或图4所绘示的方向)上，斜向导电结构140可以重叠于第一导线110及/或第二导线120。在显示装置100的一种应用方式上，可以施以外力而使可挠性基板150于可挠曲区153产生对应的卷曲或挠曲。而在可挠性基板150产生对应的卷曲或挠曲时，位于可挠曲区153的可挠性基板150或其上的元件的内部可能会产生对应的应力(如：压应力(compressivestress)或张应力(tensilestress))。如此一来，在相同的作用力下，借由使延伸方向140d不垂直于第一表面150a或第二表面150b的斜向导电结构140，可以使斜向导电结构140受到应力(即，单位面积所承受的作用力)降低，而可以降低斜向导电结构140损伤或损坏的可能。因此，可以使显示装置100具有良好的线路传输品质。

在本实施例中，第一导线110及第二导线120可以借由多个斜向导电结构140而彼此电性连接。如此一来，可能可以提升电子信号或电源供应的品质。举例而言，可能可以降低电压压降(irdrop)。又举例而言，若部分的第一导线110、第二导线120或斜向导电结构140有不预期的损伤或损坏，也可以借由其他并联的线路进行电子信号或电源的传输。如此一来，可以使显示装置100具有良好的线路传输品质。

在本实施例中，第二导线120的线宽120w可以大于第一导线110的线宽110w，但本发明不限于此。

在一实施例中，可挠性基板150的第一表面150a上可以具有第一导线110及其他的元件(如：驱动元件、发光元件等)，且可挠性基板150的第二表面150b上可以具有第二导线120。因此，可以使第二导线120的线宽120w大于第一导线110的线宽110w，而可能可以使可挠性基板150的相对两侧(即，第一表面150a及第二表面150b)所受的应力较为一致，以可能可以降低显示装置100在无受外力的状况下卷曲变形的可能。

在本实施例中，显示装置100可以更包括第三导线130，但本发明不限于此。

在本实施例中，第三导线130的线宽130w可以大于第一导线110的线宽110w，但本发明不限于此。

在本实施例中，在垂直于第一导线110的延伸方向110d或第二导线120的延伸方向120d的一方向d1上，电性连接于一第一导线110或一第二导线120的斜向导电结构140基本上不完全重叠于电性连接于相邻于前述第一导线110或前述第二导线120的其他斜向导电结构140。如此一来，在形成斜向导电结构140的过程中，可能可以提升制程裕度(processwindow)，而可以提升显示装置100的良率及品质。

举例而言，第一导线110包括第一导线111(可以被称为：第二子导线)、第一导线112(可以被称为：第一子导线)以及第一导线113(可以被称为：第三子导线)，第一导线111及第一导线113分别位于第一导线112的相对两侧且相邻于第一导线112。斜向导电结构141(可以被称为：第二子斜向导电结构)电性连接于第一导线111，斜向导电结构142(可以被称为：第一子斜向导电结构)电性连接于第一导线112，且斜向导电结构143(可以被称为：第三子斜向导电结构)电性连接于第一导线113。在垂直于第一导线110的延伸方向110d的方向d1上，斜向导电结构141基本上不完全重叠于斜向导电结构142，且斜向导电结构143基本上不完全重叠于斜向导电结构142。也就是说，斜向导电结构142基本上不完全位于斜向导电结构141及斜向导电结构143的连线上。

又举例而言，第二导线120包括第二导线121、第二导线122以及第二导线123，第二导线121及第二导线123分别位于第二导线122的相对两侧且相邻于第二导线122。斜向导电结构141电性连接于第二导线121，斜向导电结构142电性连接于第二导线122，且斜向导电结构143电性连接于第二导线123。在垂直于第二导线120的延伸方向120d的方向d1上，斜向导电结构141基本上不完全重叠于斜向导电结构142，且斜向导电结构143基本上不完全重叠于斜向导电结构142。

在一实施例中，在垂直于第一导线110的延伸方向110d或第二导线120的延伸方向120d的一方向d1上，电性连接于一第一导线110或一第二导线120的斜向导电结构140可以基本上不重叠于相邻于电性连接于相邻于前述第一导线110或前述第二导线120的其他斜向导电结构140。

在一实施例中，显示装置100可以更包括配置于可挠性基板150的第二连接区154上的电路板(未绘示)。前述的电路板可以是例如为软性印刷电路板(flexibleprintedcircuit；fpc)，但本发明不限于此。举例而言，前述的电路板可以包括一种被称为薄膜覆晶封装(chiponfilm；cof)的电路板。

图6a至图6b是依照本发明的第二实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分上视示意图。图7a至图7b是依照本发明的第二实施例的一种显示装置的部分制造方法的部分剖视示意图。举例而言，图7a可以是对应图6a中v-v’剖线上的剖视示意图，图7b可以是对应图6b中vi-vi’剖线上的剖视示意图。第二实施例的显示装置200制造方法与第一实施例的显示装置100制造方法类似，其类似的构件以相同的标号表示，且具有类似的功能、材质或形成方式，并省略描述。

请参照图6a及图7a，形成贯穿可挠性基板150的多个斜向通孔280。斜向通孔280至少位于可挠曲区153。举例而言，可以借由雷射装置92，以雷射烧灼的方式，从可挠性基板150的第二表面150b上形成自第二表面150b向第一表面150a贯通可挠性基板150的斜向通孔280。

在本实施例中，斜向通孔280可以未贯穿第一导线110。也就是说，就整体的结构上而言，斜向通孔280可以视为底部为部分的第一导线110的盲孔。

在本实施例中，斜向通孔280位于第一表面150a上的开口(可以被称为上开口)的口径280a可以小于位于第二表面150b上的开口(可以被称为下开口)的口径280b。

请参照图6a至图6b及图7a至图7b，形成斜向通孔280之后，可以在可挠性基板150的第二表面150b上形成第二图案化导电层129。第二图案化导电层129中的部分图案化线路可以构成第二导线120。另外，用于形成第二图案化导电层129的部分导电材料可以更填入斜向通孔280内，而可以形成至少贯穿可挠性基板150的斜向导电结构240。

至少经过上述的制造方法后即可大致上完成本实施例的显示装置100的制作。

图6b可以是依照本发明的第二实施例的一种显示装置的部分上视示意图。图7b可以是依照本发明的第二实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。图8是依照本发明的第二实施例的一种显示装置200的部分剖视示意图。举例而言，图6b所对应的区域可以类似于图5中的区域r1，图8可以是对应图6b中vii-vii’剖线上的剖视示意图。另外，斜向导电结构240可能不会完全地刚好位于vii-vii’剖线所构成的剖面上，但是，为求清楚表示，于图8仍以虚线示意性地绘示了斜向导电结构240投影于前述剖面上的可能样貌。

请参照图6b、图7b及图8，显示装置200包括可挠性基板150、第一导线110、第二导线120以及多个斜向导电结构240。斜向导电结构240贯穿可挠性基板150，且多个斜向导电结构240电性连接第一导线110及第二导线120。

在本实施例中，斜向导电结构240可以具有彼此相对的顶端及底端。斜向导电结构240的底端可以接触第二导线120。斜向导电结构240的顶端可以接触第一导线110。斜向导电结构240的顶端的径宽240a(径宽240a可以被称为：顶径宽)可以小于斜向导电结构240的底端的径宽240b(径宽240b可以被称为：底径宽)。

在本实施例中，斜向导电结构240的延伸方向240d与第一表面150a之间的夹角a5基本上介于30°至60°，且/或斜向导电结构240的延伸方向240d与第二表面150b之间的夹角a6基本上介于30°至60°。

在一实施例中，斜向导电结构240的延伸方向240d大致上可以是自其顶端的中点c5向其底端的中点c6的连线(如：图7b中连接中点c5及中点c6的虚线)的方向。

在一实施例中，斜向导电结构240的延伸方向240d与第一表面150a或第二表面150b之间的夹角(如：夹角a5或夹角a6)可以基本上介于40°至50°，但本发明不限于此。

图9a及图9b是依照本发明的第三实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。第三实施例的显示装置300与第一实施例的显示装置100类似，其类似的构件以相同的标号表示，且具有类似的功能、材质、形成或制造方式，并省略描述。举例而言，图6b所对应的区域可以类似于图2c中所绘示的区域。

请参照图9a及图9b，显示装置300包括可挠性基板150、第一导线110、第二导线120以及多个斜向导电结构140。

多个斜向导电结构140可以包括多个第一斜向导电结构341以及多个第二斜向导电结构342。多个第一斜向导电结构341可以配置于可挠曲区153，且多个第二斜向导电结构342可以配置于第一连接区152或第二连接区154。多个第一斜向导电结构341之间具有第一间距p1，多个第二斜向导电结构342之间具有第二间距p2，且第一间距p1小于第二间距p2。

图10是依照本发明的第四实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。第四实施例的显示装置400与第一实施例的显示装置100类似，其类似的构件以相同的标号表示，且具有类似的功能、材质、形成或制造方式，并省略描述。举例而言，图10所对应的区域可以类似于图2c中所绘示的区域。

请参照图10，显示装置400包括可挠性基板150、第一导线110、第二导线120以及多个斜向导电结构140。

多个斜向导电结构140可以包括第一斜向导电结构441以及第二斜向导电结构442。第一斜向导电结构441可以配置于可挠曲区153，且第二斜向导电结构442可以配置于第一连接区152或第二连接区154。第一斜向导电结构441的延伸方向441d与第一表面150a或第二表面150b之间具有第一夹角a7。第二斜向导电结构442的延伸方向442d与第一表面150a或第二表面150b之间具有第二夹角a8，且第一夹角a7的角度小于第二夹角a8的角度。

在本实施例中，对于第一斜向导电结构140的数量或第二斜向导电结构140的数量并不加以限制。

在本实施例中，第一夹角a7的角度及/或第二夹角a8的角度基本上介于30°至60°。

图11是依照本发明的第五实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。第五实施例的显示装置500与第一实施例的显示装置100类似，其类似的构件以相同的标号表示，且具有类似的功能、材质、形成或制造方式，并省略描述。举例而言，图11所对应的区域可以类似于图2c中所绘示的区域。

请参照图11，显示装置500包括可挠性基板150、第一导线110、第二导线120以及多个斜向导电结构140。

多个斜向导电结构140可以包括第一斜向导电结构541以及第二斜向导电结构542。第一斜向导电结构541可以配置于可挠曲区153，且第二斜向导电结构542可以配置于第一连接区152或第二连接区154。在平行于第一表面150a或第二表面150b的一剖面150c上，第一斜向导电结构541具有第一径宽541w，第二斜向导电结构542第二径宽542w，且第一径宽541w大于第二径宽542w。

在本实施例中，对于第一斜向导电结构541的数量或第二斜向导电结构542的数量并不加以限制。

图12a是依照本发明的第六实施例的一种显示装置的部分下视示意图。图12b是依照本发明的第六实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。第六实施例的显示装置600与第一实施例的显示装置100类似，其类似的构件以相同的标号表示，且具有类似的功能、材质、形成或制造方式，并省略描述。举例而言，图12a所对应的区域可以类似于图2c中所绘示的区域图12b可以是对应图12a中viii-viii’剖线上的剖视示意图。

请参照图12a及图12b，显示装置600包括可挠性基板150、第一导线110、第二导线120以及多个斜向导电结构140。多个斜向导电结构140可以包括第一斜向导电结构641及第二斜向导电结构642。第一斜向导电结构641具有第一延伸方向641d，第二斜向导电结构642具有第二延伸方向642d，第一延伸方向641d于第一表面150a或第二表面150b上的投影方向641e(投影方向641e可以被称为：第一方向)基本上不同于第二延伸方向642d于第一表面150a或第二表面150b上的投影方向642e(投影方向642e可以被称为：第二方向)。

在本实施例中，投影方向641e与投影方向642e可以相反。

在本实施例中，第一斜向导电结构641与显示区151之间的距离小于第二斜向导电结构642与显示区151之间的距离，第一延伸方向641d于第一表面150a或第二表面150b上的投影方向641e朝向显示区151，第二延伸方向642d于第一表面150a或第二表面150b上的投影方向642e远离显示区151。前述的距离所指的可以是对应的斜向导电结构140(如：第一斜向导电结构641或第二斜向导电结构642)与显示区151之间的实体距离，或是与显示区151之间所对应的电子信号的电流路径(currentpath)。

在本实施例中，第一斜向导电结构641与第二斜向导电结构642可以位于一虚拟面150d的相对两侧。虚拟面150d可以垂直于第一导线110的延伸方向110d或第二导线120的延伸方向120d，且虚拟面150d可以位于可挠曲区153。

在本实施例中，第一延伸方向641d与第二延伸方向642d可以在虚拟面150d的相对两侧呈镜像对称。

在一未绘示的实施例中，可以将前述实施例中的斜向导电结构240以相同或相似于第一斜向导电结构341、第一斜向导电结构341、第一斜向导电结构341、第一斜向导电结构341、第二斜向导电结构342、第二斜向导电结构342、第二斜向导电结构342及/或第二斜向导电结构342的方式配置。

图13是依照本发明的第七实施例的一种显示装置的部分剖视示意图。第七实施例的显示装置700与第一实施例的显示装置100或第二实施例的显示装置100类似，其类似的构件以相同的标号表示，且具有类似的功能、材质、形成或制造方式，并省略描述。举例而言，图13所对应的区域可以类似于图2c中所绘示的区域。

请参照图13，显示装置700包括可挠性基板150、第一导线110、第二导线120、多个斜向导电结构140以及多个斜向导电结构240。

在本实施例中，斜向导电结构140及斜向导电结构240可以交错配置。举例而言，电性连接于同一第一导线110或同一第二导线120的多个斜向导电结构140及多个斜向导电结构240，在沿着第一导线110的延伸方向110d或第二导线120的延伸方向120d上可以交错配置。如此一来，可以提升斜向导电结构(包括斜向导电结构140及斜向导电结构240)整体的数量。另外，在形成斜向导电结构140及/或斜向导电结构240的过程中，可能可以提升制程裕度，而可以提升显示装置700的良率及品质。

在本实施例中，在相邻的斜向导电结构140及斜向导电结构240之间，彼此相邻的侧壁可以基本上彼此平行。举例而言，斜向导电结构140的侧壁140s与斜向导电结构240的侧壁240s可以基本上彼此平行。

本发明并未排除上述各实施例之间的相结合。举例而言，在一实施例中，第一斜向导电结构341可能可以具有类似于第一斜向导电结构441的倾斜角度，且第二斜向导电结构342可能可以具有类似于第二斜向导电结构442的倾斜角度。再举例而言，在一实施例中，第一斜向导电结构341可能可以具有类似于第一斜向导电结构541的径宽，且第二斜向导电结构342可能可以具有类似于第二斜向导电结构542的径宽。又举例而言，第一斜向导电结构341可能可以具有类似于第一斜向导电结构441的倾斜角度且可能可以具有类似于第一斜向导电结构541的径宽，且第二斜向导电结构342可能可以具有类似于第二斜向导电结构442的倾斜角度且可能可以具有类似于第二斜向导电结构542的径宽。

综上所述，在本发明的显示装置或其制造方法中，借由配置于可挠曲区且贯穿可挠性基板的多个斜向导电结构，且多个斜向导电结构电性连接于位于可挠性基板相对两表面的第一导线及第二导线。如此一来，可以使显示装置具有较佳的品质。

当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。