抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法

文档序号:9536589阅读:253来源:国知局
抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法。
【背景技术】
[0002]目前的艺术壁画均以色彩差异的色彩壁画或高低差异的浮雕艺术形式来表现的图形艺术,不能在同一平面、同一色彩抛光砖墙面上表现图形。

【发明内容】

[0003]本发明的目的在于提供一种抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,可以在同一平面、同一色彩抛光砖墙面上表现图形。
[0004]为实现上述目的,本发明的技术方案是设计一种抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,应用于已完成抛光砖贴饰的墙面,该墙面为同一材质、同一色系、同一平面的墙面,所述折光差暗花壁画的制作方法包括如下步骤:对应暗花壁画的设计图形,在墙面不同区域进行折光率差的加工,在墙面生成与暗花壁画相对应的多个不同折光率的区域。
[0005]优选的,在墙面不同区域进行折光率差的加工时,将高折光率的区域用贴纸封闭保护,对开放区域采用喷砂加工,使开放区域表面的折光率降低,加工完成后撕去保护贴纸。
[0006]本发明的优点和有益效果在于:提供一种抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,可以在同一平面、同一色彩抛光砖墙面上表现图形,显露的图形由于光线照射角度的不同,图形效果或清晰、或朦胧、或消失,形成一种若隐若现的暗花视效。
【具体实施方式】
[0007]下面结合实施例,对本发明的【具体实施方式】作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。
[0008]本发明具体实施的技术方案是:
一种抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,应用于已完成抛光砖贴饰的墙面,该墙面为同一材质、同一色系、同一平面的墙面,所述折光差暗花壁画的制作方法包括如下步骤:对应暗花壁画的设计图形,在墙面不同区域进行折光率差的加工,在墙面生成与暗花壁画相对应的多个不同折光率的区域。
[0009]在墙面不同区域进行折光率差的加工时,将高折光率的区域用贴纸封闭保护,对开放区域采用喷砂加工,使开放区域表面的折光率降低,加工完成后撕去保护贴纸。
[0010]
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,应用于已完成抛光砖贴饰的墙面,该墙面为同一材质、同一色系、同一平面的墙面,其特征在于,所述折光差暗花壁画的制作方法包括如下步骤:对应暗花壁画的设计图形,在墙面不同区域进行折光率差的加工,在墙面生成与暗花壁画相对应的多个不同折光率的区域。2.根据权利要求1所述的抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,其特征在于,在墙面不同区域进行折光率差的加工时,将高折光率的区域用贴纸封闭保护,对开放区域采用喷砂加工,使开放区域表面的折光率降低,加工完成后撕去保护贴纸。
【专利摘要】本发明公开了一种抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,应用于已完成抛光砖贴饰的墙面,该墙面为同一材质、同一色系、同一平面的墙面,所述折光差暗花壁画的制作方法包括如下步骤:对应暗花壁画的设计图形,在墙面不同区域进行折光率差的加工,在墙面生成与暗花壁画相对应的多个不同折光率的区域。本发明抛光砖墙面的折光差暗花壁画的制作方法,可以在同一平面、同一色彩抛光砖墙面上表现图形,显露的图形由于光线照射角度的不同,图形效果或清晰、或朦胧、或消失,形成一种若隐若现的暗花视效。
【IPC分类】B44C5/04
【公开号】CN105291681
【申请号】CN201510576045
【发明人】费新江, 李姝
【申请人】苏州水木清华设计营造有限公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年9月11日
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