专利名称：光纤光栅、光纤光栅的制造方法和光纤光栅制造设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于光通信系统的光纤光栅(下面简称为“光纤光栅”)的制造方法，本发明特别是涉及可对光纤光栅的光学特性进行细微调整，使制造合格率大幅度地提高的光纤光栅，其制造方法，以及制造设备。
背景技术：
光纤光栅指具有使特定波长的光，以反射模式(mode)，包层模式(mode)或辐射模式(mode)耦合，使该光衰减的特性器件。与入射光相同方向的包层mode或辐射mode耦合的类型称为“透射型”，与入射光相反方向的导波mode(其中包含纤芯模式(core mode)，反射模式(mode))，包层模式(mode)或辐射模式(mode)耦合的类型称为“反射型”。
在光纤光栅的反射光，或透射光的光谱中，通过将规定波长的光衰减，获得顶点，该顶点的值称为“衰减率”，其中心的波长称为“中心波长”，另外，顶点的频带的值称为“衰减频带宽度”。
在光纤光栅与长周期型，短周期型无关，将光纤光栅用作放大均化器，衰减器，频带去除滤波器等的光衰减器的场合，对透射光进行监视，衰减率采用透射损失。在将光纤光栅用作反射器(反射镜)，波长分离器等的场合，对反射光进行监视，衰减率采用反射率。
光纤光栅通过下述方式获得，该方式为比如沿光纤的纵向，形成由一定的周期性变化，比如，纤芯的折射率的周期性变化形成的光栅部。为了使折射率产生周期性的变化，通常采用紫外线。作为使用紫外线，制造光栅部的方法，一般进行下述的方法。
首先，对光纤进行氢气浸透处理，提高光纤(特别是纤芯)对紫外线造成的折射率变化的敏感性。另外，通过沿光纤(纤芯)的纵向，以规定的周期，照射紫外线，使照射部分的折射率提高，形成光栅部。紫外线的照射采用干涉曝光法，相位掩模(mask)法，强度掩模(mask)法，通过聚光的束进行曝光的方法等，在这些方法中的任何一种中，通过紫外线曝光的部分的折射率上升，可沿光纤的纵向，形成折射率变化。
另外，上述周期还具有形成一定间隔的场合，还具有适合采用沿光纤的纵向，周期变化的线性调频脉冲间隔(chirPitch)的场合。另外，为了实现反射型，必须要求短周期型，为了形成透射型，必须要求长周期型。
此外，上述光纤的纤芯由添加有锗的石英玻璃形成，锗具有通过照射紫外线，使石英玻璃的折射率上升的作用。还具有下述场合，在该场合中，根据情况，采用设置于纤芯的外周上的包层的一部分或全部采用添加有锗的光纤，同样在包层中，形成折射率的周期性变化。另外，也具有下述场合，在该场合中，仅仅包层采用添加有锗的光纤，仅仅在包层，形成折射率的周期性的变化。
人们知道，如果添加锗，则使石英的折射率上升，在包层中添加锗的场合，为了调整纤芯和包层的折射率，一般添加1种或多种其它的掺杂剂。
作为使石英玻璃的折射率上升的掺杂剂，人们知道有铝或磷。另外，作为具有降低折射率的作用的掺杂剂，人们知道有硼或氟。即，在包层中添加锗的场合，为了补偿通过添加锗而上升的折射率，比如，可添加硼或氟。
在该紫外线照射处理后，最好进行脱氢处理，抑制光栅部的折射率发生变化的情况，使光学特性保持长期稳定。
另外，最好，作为调整损失或反射的中心波长(下面称为“中心波长”)，使制造合格率上升的方式，进行加热处理，或对整个光栅部照射紫外线的均匀照射(下面称为“紫外线均匀照射”)。
即，通过均匀地照射紫外线，伴随平均折射率的上升，中心波长朝向长波侧移动。另外，由于加热，折射率变化变小，即，平均折射率变小，中心波长朝向短波侧移动。因此，在所制造的光纤光栅的中心波长为小于所需的值的波长侧的场合，进行紫外线均匀照射，在长波长侧的场合，进行加热处理，调整中心波长。在过去的方法中，由于按照上述方式，仅仅注重于中心波长，故仅仅进行紫外线均匀照射，加热处理中的任何一项。
最后，为了提供热稳定性，进行加热时效处理。
发明概述但是，最近，在采用光纤，形成频带衰减滤波器或光放大用的放大均化器等的场合，不仅对于中心波长，而且对于衰减率，要求较高的精度。
然而，在过去的方法中，通过借助加热，甚至紫外线均匀照射，调整中心波长的步骤中，衰减率变化。比如，在光栅部中，由紫外线造成的折射率变化量通过加热而变小，其结果是，衰减率减小。
因此，如果仅仅为中心波长，可较稳定地进行控制，但是没有衰减率的调整机构，难于在稳定地保持制品的光学特性的同时，确保较高的合格率。
此外，光纤光栅的折射率变化特别是在紫外线照射后，对热环境敏感(即，形成热不稳定性)，难于长期地，在环境下，稳定地保持光学特性。
本发明是针对以上方面而提出的，本发明的目的在于提供一种方法和装置，该方法和装置一边以较高的精度，对中心波长和衰减率进行控制，一边以较高的精度，对光纤光栅的制造时的光学特性进行调整，另外进行热稳定性处理。
为了解决上述课题，在本发明中，提出下述的技术方案。按照本发明的光纤光栅制造方法，通过以适当组合的方式进行紫外线均匀照射和加热处理，可调整光纤光栅的中心波长和中心波长的衰减率，获得具有所需的的光学特性的光纤光栅。
即，第1项发明涉及一种光纤光栅的制造方法，其特征在于通过沿光纤的纵向，按照规定的周期，照射紫外线，形成具有周期性的折射率分布的光栅部，在必要的场合，进行脱氢处理后，进行至少1次的，对整个光栅部，照射紫外线的紫外线均匀照射处理，最后，进行用于使光栅部的光学特性保持稳定的加热时效处理。
另外，最好在光栅部形成步骤之前，进行氢添加处理，在进行该氢添加处理的场合，最好在紫外线均匀照射处理之前，进行脱氢处理。
第2项发明涉及第1项发明所述的光纤光栅的制造方法，其特征在于上述紫外线均匀照射处理的前或后，进行至少1次以上的，用于对整个光栅部进行加热，实现光学特性的调整的加热精整(trimming)处理。
第3项发明涉及第1或2项发明所述的光纤光栅的制造方法，其特征在于按照任意次数和任意顺序，反复多次地进行上述紫外线均匀照射处理和上述加热精整处理。
第4项发明涉及第1，2或3项所述的光纤光栅的制造方法，其特征在于在监视光纤的透射光，反射光，以及参照光的同时，进行上述紫外线均匀照射处理和上述加热精整处理。
第5项发明涉及一种光纤光栅，该光纤光栅包括光栅部，该光栅部通过沿光纤的纵向，按照规定的周期，照射紫外线，具有周期性的折射率分别，该光纤光栅由具有一定的折射率的材料纤维形成，其特征在于该光栅部的最小折射率，大于该材料纤维的折射率，并且该光栅部的最小折射率的误差足够地小于周期性的折射率变化量，由此，容易调整光学特性。
第6项发明涉及一种光纤光栅的制造设备，其特征在于该制造设备包括用于调整光纤光栅的光学特性的紫外线照射装置和加热装置。
第7项发明涉及第6项发明所述的制造设备，其特征在于该制造设备包括下述机构，该机构使进行上述紫外线均匀照射处理和上述加热精整处理的光纤的拉力保持一定。
按照本发明的光栅的制造设备，可在测定光纤光栅的光学特性的同时，根据其结果，容易进行适合的紫外线照射处理和加热处理。另外，通过设置于纤维夹持件上的拉力保持机构，可适当地将光纤的拉力保持一定，可防止拉力的过小，过大，变化造成的光学特性的调制，改变，可进行精确的光学特性的控制。
附图的简要说明
图1为表示本发明的实施例的光纤光栅制造设备的说明图；图2为本发明的光纤光栅制造设备的具体实施例的说明图；图3为表示对光纤光栅进行加热精整处理的场合(图3(A))，对其进行紫外线均匀照射处理的场合(图3(B)的相应的折射率值变化量的示意图；图4为加热精整处理和紫外线均匀照射处理时的光纤光栅的光学特性的变化的说明图；图5为本发明的实施例的加热精整，紫外线均匀照射处理和加热时效时的光纤光栅的透射损失光谱(图5(A)，以及透射损失顶点的迁移说明图(图5(B)；图6为本发明的实施例的加热精整，紫外线均匀照射处理，以及加热时效时的加热精整的光学特性的变化的说明图；图7为本发明的光纤光栅的纵向的折射率分布的说明图；图8为已有的光纤光栅的纵向的折射率分布的说明图。
本发明的实施形式根据图1～8，对本发明的光纤光栅，光纤光栅制造方法和光纤光栅制造设备的实例进行描述。
首先，对本发明的光纤光栅制造设备的实例进行描述。
图1为本发明的光纤光栅制造设备的示意性说明图，该图表示作为实施例的，在光纤中形成光栅部的场合。
在图1中，光纤4通过光纤夹持件12R，12L固定，该光纤夹持件12R，12L设置于设在制造设备10的两侧的自动台11R，11L上。在制造设备10的中间部，设置有加热器等的加热装置15和紫外线照射装置，在夹持光纤4的状态，通过自动台11R，11L，使该光纤4在紫外线照射装置16上或加热装置15上平行地沿上下移动，使其接收相应的处理，形成光栅部5。
另外，在光纤夹持件12R上安装有拉力调整机构，可在光纤4的拉力保持在一定值的状态，进行处理，从而不产生拉力变化造成的光学特性的改变。
光源或光谱分析器等的光学特性测定系统20与光纤4的两端连接，可确认光栅部5的光学特性为规定的值。
图2为更加具体地说明上述光纤光栅制造设备，通过使光纤4保持在自动台11R，11L上的光纤夹持件12R，12L，平行地沿上下按照单轴方向移动，对其进行加热处理，紫外线照射处理。在光纤夹持件12R上，成一体地设置测压元件13，通过该测压元件13，检测光纤4的拉力，通过在图上左右沿单轴移动的自动台11T，形成使光纤4保持规定拉力的机构。在该拉力保持机构中，采用相对光纤4的倾斜的较大位移，即，弹性常数较小的较长的弹簧。
下面对光纤4的光学特性的测定系统的方案的动作进行描述。如果从波长可变LD22和ASE光源，SLD等的较宽频带的光源23等，输出较宽频带的光，则该光通过光开关21，输入到光纤4中，通过3dB耦合器(coupler)27等分地形成分支，其中1个分支光透过光栅部5，该透射光通过设置于光纤4的另一端的光开关24的透射光监视器28，进行感光。由于来自光开关21的返回光使波长可变LD22和较宽频带光源23的动作不稳定，故最好采用单向波导管(isolator)31。
另一分支光通过设置于上述光开关24上的参考光监视器30，进行感光。通过光栅部5反射的反射光经3dB耦合器(coupler)2，通过设置于上述光开关24上的反射光监视器29感光。
该透射光，参考光，以及反射光可通过与光开关24连接的光学强度仪25和光谱分析器26，进行监视。另外，可在确认光栅部5的光学特性的同时，进行光栅部5的制造，或进行其光学特性的调整。
此外，根据光栅部5的特性，可对反射光，透射光中的任何一个进行监视。即，在透射型光纤光栅的场合，对透射光进行监视，在反射型光纤光栅的场合，对反射光进行监视。另外，对参考光进行监视，以便监视输入光的特性。
如果采用本发明的光纤光栅的制造设备10，即使在对因光学特性不同，紫外线的照射条件或加热条件等不同的光栅部5进行处理的情况下，仍可通过自动台11L，11R，使光纤4适当地移动，对其进行处理，由此，可在不更换设备，而通过1台制造设备10，进行光纤4的加热处理以及紫外线照射处理。于是，与采用相应的加热处理装置和紫外线照射装置的场合相比较，可防止在这些装置上进行光纤4的装载转换时的损伤，破断，或品质退化等的制造事故。
还有，光栅部5的光学特性相对光纤4的拉力，敏感而容易产生变化，但是按照本发明的制造设备10，由于在光纤4的夹持件12R上设置拉力调整机构，故可即使在光栅形成用的加热处理或紫外线处理时的情况下，仍可使拉力保持一定，可防止光栅部5的光学特性的变化，可容易地进行光学特性的调整。
下面对本发明的光纤光栅的制造方法进行描述。
在本实例中，最好在进行氢添加处理后，按照相位掩模(phase mask)法等的已有方法，朝向光纤的纵向，以规定的周期，照射紫外线，进行形成光栅部5的紫外线照射(光栅部形成步骤)，特别是最好在进行脱氢步骤后，形成光栅部5，然后，至少1次地进行对整个光栅部5均匀照射紫外线的紫外线均匀照射处理，根据需要，在紫外线均匀照射处理之前，或之后，对整个光栅部5进行加热处理，由此，进行实现光学特性的调整的加热精整处理，最后，必须进行加热时效处理。
另外，在必要的场合，分别对紫外线均匀照射处理和加热精整，按照任意顺序，以及任意次数，进行光纤光栅的光学特性的调整。
首先，氧添加处理在比如，100气压的氧气气氛中，温度在20～60℃的范围内，7～14天的期间的条件下，以将光纤暴露的方式进行。另外，规定周期的紫外线的照射的光栅部的形成通过下述方式进行，该方式为采用比如，受激准分子激光器，照射波长在240nm附近的紫外线。此外，该光纤的纤芯由添加了锗的石英玻璃形成，设置于其外周上的包层采用纯石英玻璃等形成的包层。还有，按照上述方式，根据用途，还可采用在纤芯和包层这两者中，或仅仅在包层中添加了锗的光纤。在此场合，由于即使在锗仅仅添加于石英玻璃中的情况下，仍具有使折射率上升的效果，故还可添加氟，硼，铝等的其它的掺杂剂，调整折射率。
此外，脱氢处理在比如，大气压的气氛中，温度在100～150℃的范围内，12～24小时的期间的条件下，以将光纤暴露的方式进行。
图3为表示象上述那样，进行了加热精整处理的场合(图3(A))和进行了紫外线均匀照射处理的场合(图3(B))的光栅部5的折射率变化量的变化的图。另外，在下面给出的实例中，纤芯由添加锗的石英玻璃形成，包层采用由纯石英形成的，外径约为125μm的单一模式(single mode)光纤。
对于加热精整处理时(加热前a，加热后b)的折射率变化，折射率变化幅度(加热前c，加热后d)因加热精整处理而变小，光栅部5的模式(mode)之间的耦合常数变小，由此，衰减率减小。另外，由于平均折射率(加热前m1，加热后m2)也因加热而减小，故中心波长朝向短波侧移动。
如果观察紫外线均匀照射处理(照射前h，照射后g)的折射率的变化，则折射率变化的振幅(照射前k，照射后j)在照射前后几乎没有变化。但是，由于实际上，在临时进行紫外线照射的曝光的部位中，此后的均匀紫外线照射造成的折射率上升程度较大，故光栅部5的模式(mode)之间的耦合常数增加一定程度，衰减率稍稍上升。此外，由于平均折射率从n1上升到n2，故中心波长朝向长波侧移动。
按照上述方式，在加热精整处理的场合和紫外线均匀照射处理的场合，中心波长的变化与折射率变化的变动比例不同。按照本发明，可采用这两个处理的效果的差异，在较宽的范围，精确地调整光学特性。
图4表示加热精整处理和紫外线均匀照射处理时的光纤光栅的光学特性的变化，其中横轴表示中心波长λc，纵轴表示中心波长的衰减率(透射损失)ΔL。另外，衰减频带宽度由光栅级数(段数)(折射率的周期变化的数量)确定。由于该光栅级数(段数)不随加热精整处理和紫外线均匀照射处理而变化，故可通过λc和ΔL，表示本发明的加热处理和紫外线照射处理的变化。
即，即使在光纤4的脱氢步骤后的光学特性位于图4的影线部内(U)的任何位置的情况下(比如，①的位置)，通过以适当地组合的方式进行适合的加热精整处理和紫外线均匀照射处理，可将光栅部5的最终的光学特性调整到规定的特性(图4中的坐标原点⑥)。
加热精整处理与紫外线均匀照射处理的具体条件不特别限制，根据光纤光栅的光学特性，适当地选择上述条件。另外，对于这些组合的方案，可至少每回1次地交替地分别进行加热精整处理和紫外线均匀照射处理。
具体的条件在进行下述动作的同时，进行适当地调整，该动作指象上述那样，在预备实验，或制造中，通过光学测定系统，监视光学特性(衰减率，中心波长，衰减频带宽度)。
如果给出条件的1个实例，则加热精整在200～300℃，1～10分钟的时间内进行，在紫外线均匀照射处理中，采用受激准分子激光器或水银灯等，根据需要，照射多次，直至获得规定的折射率上升量。
另外，比如，依次进行加热精整处理，紫外线均匀照射处理，加热精整处理，最终，进行后面将要描述的加热时效。
在该光栅部5的处理的最后，为了进行热稳定化处理，必须进行加热时效，因此，为了获得所需的光学特性⑥，在最后的加热时效之前，必须具有⑤附近的光学特性。即，通过加热精整处理和紫外线均匀照射处理，使①的光学特性的光栅部5形成⑤的光学特性。
加热光栅在比如，200～300℃，5～10分钟以上的条件下进行。
图4表示①～②，③～④，⑤～⑥的迁移因加热精整处理而发生变化的状态，并且表示②～③，④～⑤的迁移因紫外线均匀照射处理而发生变化的状态。即，由于在加热精整处理和紫外线均匀照射处理中，迁移直线的斜率和方向不同，故知道，通过以适当组合的方式进行加热精整处理和紫外线均匀照射处理，获得达到所需的光学特性。
图5(A)为上述本发明的制造方法适用于长周期光纤光栅(LPFGlong-PeriodFiber光栅)的实例，该图表示在下述场合，波长与透射损失之间的关系，该场合指通过KrF受激准分子激光器等的紫外线，形成光栅部5，然后进行脱氢步骤，之后，进行加热精整处理和紫外线均匀照射处理。另外，上述长周期指折射率的变化周期较长。
图中的标号#1表示脱氢步骤后的光学特性曲线，其表示波长—透射损失之间的关系。#2的曲线表示对该光纤光栅进行加热后的特性曲线，#3的曲线表示再次进行紫外线均匀照射后的特性曲线，#4的曲线表示再次进行加热精整处理后的特性曲线，最后，进行加热精整，获得具有作为所需的特性的#5的曲线的光学特性的制品。
即，在本实例中，在进行加热精整处理1次，紫外线均匀照射1次，加热精整处理1次的组合后，进行加热时效。
另外，如果在紫外线均匀照射中，整个光栅部必须要求一定强度的紫外线，则反复多次地进行照射，加热精整处理在温度在200～300℃的范围内，时间为1～10分钟的条件下进行。另外，加热时效在温度在200～300℃的范围内，时间为5～10分钟的条件下进行。
图5(B)为将图5(A)中的各曲线的透射损失顶点部放大，通过线连接其迁移的图。①表示曲线#1的顶点，②，③，④，⑤分别表示曲线#2，#3，#4，#5的顶点，①～②，③～④，④～⑤表示加热精整处理的最小透射波长(λc)与透射损失(ΔL)的调整，②～③表示通过紫外线均匀照射处理，进行同样的调整。
在进行加热精整处理时，λc和ΔL均减小，在进行紫外线均匀照射处理的场合，λc和ΔL均增加。λc和ΔL的变化量可在加热处理中，按照加热温度和加热时间进行空制，可在紫外线均匀照射处理中，按照紫外线的光量和照射时间进行控制。
下面通过图6，对注意λc和ΔL的变化的场合的，光纤光栅的光学特性的调整方法进行描述。
图6为表示下述方法的实例的图，在该方法中，在对加热精整处理，紫外线均匀照射处理，加热时效处理的前后的λc和ΔL进行监视的同时，对光纤光栅的光学特性进行调整。
首先，对试样A的场合进行描述。A0～A4表示试样A的光学特性的变化。A0表示脱氢步骤后的光学特性。A0～A1表示加热精整处理造成的光纤光栅的光学特性的变化。A1～A2表示紫外线均匀处理造成的光纤光栅的光学特性的变化。A2～A3表示加热精整处理造成的光学特性的变化，A3～A4表示加热时效处理造成的光纤光栅的光学特性的变化。经过这样的处理，试样A达到作为所需的特性的A4。该试样A与图5所示的试样相同。
下面对试样B的场合进行描述。B0～B3表示试样B的光学特性的变化。B0表示脱氢步骤后的光学特性。B0～B1表示加热精整处理造成的光纤光栅的光学特性的变化。B1～B2表示紫外线均匀照射处理造成的光纤光栅的光学特性的变化。B2～B3表示加热精整处理造成的光学特性的变化。经过这样的处理，试样B达到作为所需的特性的B3。象此实例那样，加热精整处理的前步骤也可不为加热精整处理，其也可为紫外线均匀照射处理。
下面对试样C的场合进行描述。C0～C6表示试样C的光学特性的变化。C0表示脱氢步骤后的光学特性。C0～C1表示紫外线均匀照射处理的光纤光栅的光学特性的变化。C1～C2表示加热精整处理造成的光纤光栅的光学特性的变化。C2～C3表示紫外线均匀照射处理造成的光学特性的变化，C3～C4表示加热精整处理造成的光学特性的变化，C4～C5，C5～C6表示加热时效处理造成的光纤光栅的光学特性的变化。经过这样的处理，试样C达到所需的特性的C6。象本实例那样，特性调整不必从加热精整处理开始，根据需要，也可从紫外线均匀照射处理开始。另外，同样在加热时效处理中，进行规定量以上的处理，可使光学特性保持长期稳定，由此，还可根据需要，多次地进行加热时效处理。
如果按照上述方式采用本发明的光纤光栅的制造方法，由于可容易进行在脱氢处理后的加热精整处理和紫外线均匀照射处理的调整，故可适当地将两种处理组合，有效地，并且以较高的合格率，获得具有经精确调整的所需光学特性的光栅部5。
下面对本发明的光纤光栅的实例进行描述。
本实例涉及通过上述的，适当地将加热精整处理和紫外线均匀照射处理组合的光纤光栅的制造方法而制造的光纤光栅，图7表示该光纤光栅的纵向的折射率分布的一个实例。
该光纤光栅的特征在于光栅部的折射率变化部1的最小折射率a，大于形成材料的光纤2的折射率b，并且光栅部的折射率变化部1的最小折射率a的误差足够地小于周期性的折射率变化量。在此方面，通过已有的光纤光栅的制造方法制造的光纤光栅的折射率分布的不同之处在于象图8所示的那样，光栅部的折射率变化部1的最小折射率a，等于形成材料的光纤2的折射率b。
另外，最好，该光栅部的折射率变化部1的最小折射率a的误差小于周期性的折射率变化量的10分之1。象上述那样，为了使最小折射率的误差减小，必须对待照射的紫外线的强度进行均匀化处理。为此，可通过借助均化器，照射来自光源的光，或采用输出光学强度保持均匀的光源等的机构，进行上述均匀化处理。这样的紫外线照射在本发明的光纤光栅的制造方法中进行。
本发明的效果按照本发明的光纤光栅的制造方法，由于可容易地进行在脱氢步骤后实现的加热处理和紫外线均匀照射处理的调整，故可在适合的条件将两种处理组合，有效地，并且以较高的合格率，获得具有经精确调整的所需的光学特性的光纤光栅。
另外，按照本发明的光纤光栅的制造设备，由于即使在对种类不同的光纤光栅进行处理的情况下，可在不更换装置，而通过1台制造设备，进行光纤的加热处理和紫外线照射处理，故可防止在相应装置上进行装载转换时的损伤，破断或品质变差等的制造事故。
此外，按照本发明的光纤光栅的制造设备，由于在光纤的包层部上设置拉力调整机构，故即使在光栅部的形成用的加热处理或紫外线照射处理时的情况下，仍使拉力保持一定，可防止光纤光栅的光学特性的变化，可容易地，并且精确地进行光学特性的调整。
权利要求
1.一种光纤光栅的制造方法，其特征在于通过沿光纤的纵向，按照规定的周期，照射紫外线，形成具有周期性的折射率分布的光栅部，在必要的场合，进行脱氢处理后，进行至少1次的，对整个光栅部，照射紫外线的紫外线均匀照射处理，最后，进行用于使光栅部的光学特性保持稳定的加热时效处理。
2.根据权利要求1所述的光纤光栅的制造方法，其特征在于在上述紫外线均匀照射处理的前或后，进行至少1次以上的，用于对整个光栅部进行加热，实现光学特性的调整的加热精整处理。
3.根据权利要求1或2所述的光纤光栅的制造方法，其特征在于按照任意次数和任意顺序，反复多次地进行上述紫外线均匀照射处理和上述加热精整处理。
4.根据权利要求1，2或3所述的光纤光栅的制造方法，其特征在于在监视光纤的透射光，反射光，以及参照光的同时，进行上述紫外线均匀照射处理和上述加热精整处理。
5.一种光纤光栅，该光纤光栅包括光栅部，该光栅部通过沿光纤的纵向，按照规定的周期，照射紫外线，具有周期性的折射率分布，该光纤光栅由具有一定的折射率的材料纤维形成，其特征在于该光栅部的最小折射率，大于该材料纤维的折射率，并且该光栅部的最小折射率的误差足够地小于周期性的折射率变化量。
6.一种光纤光栅的制造设备，其特征在于该制造设备包括用于调整光纤光栅的光学特性的紫外线照射装置和加热装置。
7.根据权利要求6所述的制造设备，其特征在于该制造设备包括下述机构，该机构使进行上述紫外线均匀照射处理和上述加热精整处理的光纤的拉力保持一定。
全文摘要
本发明的课题在于提供一种精确地,有效地使光纤光栅的光学特性提高的方法和设备。最好在氧添加步骤,按照规定的周期照射紫外线,形成光栅部的光栅形成步骤,以及最好是脱氢步骤后,适合地将对整个光栅部均匀地照射紫外线的紫外线均匀照射处理和加热精整处理组合,调整光学特性,最后,进行加热时效处理。
文档编号G02B5/18GK1346062SQ01130360
公开日2002年4月24日 申请日期2001年8月29日 优先权日2000年8月29日
发明者石井裕, 中居道弘, 奥出聪, 西出研二, 岛研介 申请人:株式会社藤仓