专利名称：曝光机的近似平行光控制增益结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种曝光机。
目前，因紫外线灯管的光线为向四面八方放射，放射的光线为0°至40°以上，参考
图1所示，定点曝光方式0°至40°以上的光线放射经透光台面101、原稿(棕片)12、受曝光物13，其中除了放射光线的0°至10°左右曝光区不失真外，其余的曝光区都渐渐误差失真而无精密度可言。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是在灯箱的底部设置一反光板、一紫外线灯管，在紫外线灯管上方设有数片横向间隔排列的阻光片，另设一隔热玻璃和数片纵向间隔排列的阻光板。
所述纵向间隔排列的阻光板可是同步活动开、闭的阻光板。
本实用新型的有益效果是，灯箱设置在曝光机内近透光台面一定距离处，并可位移活动，利用阻光片、阻光板加以阻断0°至10°左右以外的紫外线灯管放射光线，仅令0°至10°左右以内的光线通过，形成近似平行光的光源，再利用往复位移曝光方式，以达提高曝光的准确精密度。
参考图3所示中，本实用新型是在灯箱200的底部设置一反光板20、一紫外线灯管21，在紫外线灯管21上方设有数片横向间隔排列的阻光片22，另设一隔热玻璃23和数片纵向间隔排列的阻光板24，该阻光板24亦可设置为可同步活动开、闭的阻光板24，可便于曝光完毕后完全阻断光源。
参考图4、图5所示，灯箱200设置于曝光机内透光台面101一定距离并可位移活动，利用阻光片22、阻光板24加以阻断0°至10°左右以外的紫外线灯管21放射光线，仅令0°至10°左右以内的光线通过。参考图6(a)(b)所示，以往复方式位移放射于透光台面101、原稿(棕片)12、受曝光物13进行曝光，以达降低误差与失真率、提高曝光的准确精密度。
权利要求1.一种曝光机的近似平行光控制增益结构，其特征是在灯箱的底部设置一反光板、一紫外线灯管，在紫外线灯管上方设有数片横向间隔排列的阻光片，另设一隔热玻璃和数片纵向间隔排列的阻光板。
2.根据权利要求1所述的曝光机的近似平行光控制增益结构，其特征是所述纵向间隔排列的阻光板是可同步活动开、闭的阻光板。
3.根据权利要求1或2所述的曝光机的近似平行光控制增益结构，其特征是所述灯箱设置在曝光机内近透光台面一定距离，并可位移活动。
专利摘要一种曝光机的近似平行光控制增益结构，在灯箱的底部设置一反光板、一紫外线灯管，在紫外线灯管上方设有数片横向间隔排列的阻光片，另设一隔热玻璃和数片纵向间隔排列的阻光板。灯箱设置在曝光机内近透光台面一定距离处，并可位移活动，利用阻光片、阻光板加以阻断0°至10°左右以外的紫外线灯管放射光线，仅令0°至10°左右以内的光线通过，并形成近似平行光的光源，再利用往复位移曝光方式，以达提高曝光的准确精密度。
文档编号G03F7/20GK2539206SQ02205980
公开日2003年3月5日 申请日期2002年3月18日 优先权日2002年3月18日
发明者林严信 申请人:北京大祥机械国际有限公司