专利名称：具有非矩阵型遮光结构的平面显示器的制作方法
技术领域：
本发明有关于一种平面显示器(flat panel display)，特别是有关于一种具有非矩阵型遮光结构(non-matrix light shielding structure)的平面显示器。
背景技术：
液晶显示器(liquid crystal display，LCD)是目前最被广泛使用的一种平面显示器，其具有低消耗电功率、薄型轻量以及低电压驱动等特征。一般而言，在液晶显示器中，液晶层夹在两透明基板(例如玻璃基板)之间，其中一透明基板其上方配置有驱动元件，例如薄膜电晶体(thin filmtransistors，TFTs)。在液晶显示器的显示区中，像素区(pixel area)的阵列由水平延伸的扫描线和垂直延伸的信号线所限定。每一像素区具有一薄膜电晶体和一像素电极。
图19是表示传统的薄膜电晶体液晶显示器(TFT LCD)的剖面图。在下基板方面，蚀刻停止层反转交错型(etch stopper inverse staggered type)薄膜电晶体15设置于下玻璃基板1的一部分上，由铟锡氧化物(ITO)所构成的像素电极8设置在下玻璃基板1的另一部分上。在薄膜电晶体15上会覆盖一层保护层9，用以保护薄膜电晶体15。此薄膜电晶体15包括控制极2a、源极7a和漏极7b。绝缘层3设置于储存电极2b和像素电极8之间，借此构成一电容器17。图中，符号7表示主动区，符号5表示蚀刻停止层，而符号6表示欧姆接触层。
在上基板方面，用以遮光的黑色矩阵(black matrix)12设置在上玻璃基板11的一部分上，用以避免液晶显示器的颜色干扰。RGB彩色滤光层13设置在上玻璃基板11的另一部分，且对应于像素电极8的区域。共用电极14设置在黑色矩阵12和彩色滤光层13上，其材料为ITO。
Masaaki等人于1996/10/1和2000/5/16公开的美国专利第5,561,440号和第6,064,358号中，公开了设置在上玻璃基板的遮光结构具有成矩阵排列的开口，且与下玻璃基板的TFT阵列对准，而每一像素电极与遮光结构中的开口对准，此外，每一像素电极的边缘与遮光结构的周围重叠。Morii于2002/7/23公开的美国专利第6,424,394号中，公开了遮光结构的形状是格子状(grid-shaped)。如图20所示，黑色矩阵12(即格子状的遮光结构)是以斜线表示，开口部分18(即透光部分)是以空白表示。黑色矩阵12会遮蔽彩色滤光片13每一颜色像素区的影像部分的周围区域，以避免邻近的红(R)、绿(G)、蓝(B)像素相互渗色，因此可以避免颜色的混杂。黑色矩阵12通常是用来改善彩色显示器的对比度，并用来增加显示器的品质。
然而，在进行上基板的制作期间，由于黑色矩阵和玻璃基板之间的热膨胀系数不同以及黑色矩阵和彩色滤光片之间的热膨胀系数不同，由铬(Cr)构成的黑色矩阵12会遭受到相当大的应力。上基板制作所需的热循环会诱发应力的产生，致使RGB彩色滤光片剥离，借此释放黑色矩阵中的应力。
发明内容
有鉴于此，本发明主要目的是提供一种避免彩色滤光片剥离的平面显示器。
本发明的另一目的在于提供一种可减少来自于遮光结构的应力的平面显示器。
为了达到上述的目的，本发明提出一种具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，包括多个扫描线和多个信号线，这些扫描线和这些信号线相互垂直，并限定多个像素区；一具有多个主空间和多个间隙的主遮光结构，其中这些主空间大致对应于这些像素区，每一间隙大致对应于扫描线或信号线，每一主空间连接至少一间隙，且每一间隙连接两相邻的主空间；以及多个辅助遮光结构，这辅助遮光结构些对应于这些间隙。
本发明并提供一种具有非矩阵型遮光结构的平面显示器。在第一基板中，其包括(1)多个扫描线和多个信号线，这些扫描线和这些信号线相互垂直，并限定多个像素区；设置于该像素区的多个像素电极，设置于这些信号线和这些像素电极之间的多个条状遮光层，且这些条状遮光层与这些像素电极重叠；以及(2)多个辅助遮光结构。在第二基板中，其包括(1)一具有多个主空间和多个间隙的主遮光结构，其中这些主空间大致对应于这些像素区，每一间隙大致对应于扫描线或信号线，每一主空间连接至少一间隙，且每一间隙连接两相邻的主空间；以及(2)一设置于主遮光结构上的彩色滤光片。此外，一设置第一和第二基板之间的液晶层。其中，辅助遮光结构与间隙相对应。
本发明还提供一种具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其结构如下所述。第一和第二扫描线彼此平行于一第一方向，第一和第二信号线彼此平行于一第二方向，其中第一和第二扫描线以及第一和第二信号线限定一像素区。遮光结构包括主遮光结构和辅助遮光结构。其中，主遮光结构具有一主空间和一间隙，其中，主空间对应于上述的像素区，间隙连接上述的主空间和邻近的主空间。其中，辅助遮光结构设置于间隙下，且与主遮光结构部分重叠。
为使本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举出较佳实施例，并结合附图，作详细说明如下。
图1是本发明第一实施例的液晶显示器的一像素区的平面图。
图2A是图1的A-A′切线的剖面图。
图2B是图1的B-B′切线的剖面图。
图2C是图1的C-C′切线的剖面图。
图3是多个邻近的像素区中的鱼骨状遮光元件的平面图。
图4是多个邻近的像素区中鱼骨状遮光元件间的鱼骨空间的平面图。
图5是图1的像素区中的主遮光结构的单位构成元件的平面图。
图6是图1的左侧构件的相对空间立体图，其中辅助遮光层是对应于间隙处，且与支干部分重叠。
图7是多像素区的结构配置图。
图8是独立的遮光结构与条状遮光层和信号线重叠的示意图。
图9是与条状遮光层接触且与信号线重叠的遮光结构的示意图。
图10是与信号线接触且与条状遮光层重叠的遮光结构的示意图。
图11是本发明第二实施例的液晶显示器的一像素的平面图。
图12A是图11的A-A′切线的剖面图。
图12B是图11的B-B′切线的剖面图。
图12C是图11的C-C′切线的剖面图。
图13是多个邻近的像素区中的鱼骨状遮光元件的平面图。
图14是图11的像素区中的部分两相邻鱼骨状遮光元件的平面图。
图15是多像素区的结构配置图。
图16是本发明第三实施例的液晶显示器的多像素区的平面图，其中，间隙是随机放置在扫描线和信号线上。
图17是本发明第四实施例的一种IPS-LCD的像素单元的平面图。
图18是图17的A-A′剖面图。
图19是表示传统的薄膜电晶体液晶显示器的剖面图。
图20是表示传统的黑色矩阵的示意图。
符号说明下玻璃基板1 控制极2a储存电极2b 绝缘层3主动区4 蚀刻停止层5欧姆接触层6 源极7a漏极7b 像素电极8保护层9 上玻璃基板11黑色矩阵12 RGB彩色滤光层13共用电极14 薄膜电晶体15电容器17 开口部分18上基板562、662下基板561、661液晶层557、657、857发光源564、664上透明基板858下透明基板556、656、856TFT510、610扫描线510A、501B、601A、601B、701、801信号线500A、500B、600A、600B、700、800像素电极554、654、754条状遮光层551A、551B、651A、651B辅助遮光层509A、509B、519A、519B
辅助遮光层609A、609B、619A、619B独立的遮光结构529遮光结构509′、519′透明共用电极563、663主遮光结构559、659、859RGB彩色滤光片560、660、860鱼骨状遮光元件559A、559A1、559A2鱼骨状遮光元件659A、659A1、659A2鱼骨状空间508、608支干559C、559C1、559C2、659C、659C1、659C2主干559B、659B间隙508S、508S1、508S2、608S、608S1、608S2间隙708S、808S主空间508L、608L、708L、808L控制极绝缘层555、655保护层550、650、818电容器605上电极板606开口607辅助遮光层639、639A、639B控制极电极G控制极绝缘层812半导体层815通道层816和源极/漏极电极817信号电极854共用电极863a共用电极线863b下配向膜层820上配向膜层864
具体实施例方式
在制造上基板时，为了减少来自遮光结构的应力，本发明提出一种非矩阵型遮光结构。在此，本发明是以液晶显示器为例做说明，然而本发明并非限定于此。适用于本发明的显示器可以是反射型(reflective type)、穿透型(transmissive type)、投射型(projective type)或半穿透反射型(transflective type)，在每一像素区配置的驱动元件可以是薄膜电晶体(thin film transistor；TFT)、金属-绝缘-金属(metal insulator metal；MIM)、或类似此性质者。
以下的附图是以液晶显示器的常见结构为例，说明本发明的液晶显示器的遮光结构。
第一实施例在第一实施例中是以穿透型液晶显示器为例，并以TFT做为驱动元件。
图1是本发明第一实施例的液晶显示器的一像素区的平面图。图2A、图2B和图2C分别为图1的A-A′、B-B′和C-C′切线的剖面图。图5是图1的像素区中的主遮光结构的平面图，遮光结构是设置于上透明基板上。
图3是多个邻近的像素区中位于上透明基板上的鱼骨状遮光元件的平面图，图4是多个邻近的像素区中鱼骨状遮光元件间的鱼骨空间的平面图。
如图2A至图2C所示，液晶显示器包括上基板562、下基板561、以及夹置于其间的液晶层557。发光源564设置于下基板561后面。
如图1和图2A至图2C所示，就单一像素而言，下基板561包括下透明基板556、TFT510、沿X方向延伸的扫描线501A和501B、沿Y方向延伸的信号线500A和500B、以虚线表示的像素电极554、条状遮光层551A和551B、以及辅助遮光层509A、509B、519A和519B。扫描线501A和501B以及信号线500A和500B限定一像素区，如图1中以虚线表示的像素电极554是形成于像素区的主要部分。像素电极554是由TFT510所控制，TFT510配置于像素区的一角落，且与扫描线501B和信号线500B一起形成。
就下基板561而言，左边的条状遮光层551A形成于左边的信号线500A和像素电极554之间，且与像素电极554的周围部分重叠。而且，右边的条状遮光层551B形成于右边的信号线500B和像素电极554之间，且与像素电极554的周围部分重叠。接着以左边的结构为例，左边的辅助遮光结构(例如由辅助遮光层509A和519A所构成)形成于信号线500A和条状遮光层551A之间，以避免其间的漏光。辅助遮光结构亦可以是独立的遮光结构529，且与条状遮光层551A和信号线500A重叠，如图8所示，此外，辅助遮光结构还可以是与条状遮光层551A接触且与信号线500A重叠的遮光结构509′，如图9所示；或是与信号线500A接触且与条状遮光层551A重叠的遮光结构519′，如图10所示；或是与条状遮光层551A接触的次结构以及与信号线500A接触的次结构的组合结构。在此实施例中是以最后一种为例来做说明。
如图1和图2B所示，左边的辅助遮光结构是由辅助遮光层509A和519A所构成。辅助遮光层509A与条状遮光层551A接触，辅助遮光层519A与信号线500A接触，且两辅助遮光层509A和519A相互重叠。右边的辅助遮光结构是由辅助遮光层509B和519B所构成。辅助遮光层509B与条状遮光层551B接触，辅助遮光层519B与信号线500B接触，且两辅助遮光层509B和519B相互重叠。
辅助遮光层509A、509B、519A和519B是主遮光结构559的互补结构，与在上基板562的主遮光结构559中的鱼骨状空间(如图4标号508处)部分重叠。
上基板562包括透明共用电极563、主遮光结构559和RGB彩色滤光片560，RGB是三主要颜色。在图2A至图2C中，像素区的彩色滤光片560是以次滤光片R为例。
图3和图4是表示对应于多像素的主遮光结构559的示意图。用于形成主遮光结构559的材料可以任何遮光材料，例如金属或树脂。主遮光结构559是由多个鱼骨状遮光元件559A所组成，鱼骨状遮光元件559A大致平行于Y方向，且彼此间借助鱼骨状空间508做物理性分离。每一个鱼骨状遮光元件559A包括一主干559B和多个支干559C，其中，主干559B朝X方向延伸，且遮盖扫描线501，支干559C自主干559B两侧垂直延伸。鱼骨状空间508包括许多间隙508S和主空间508L。每一间隙508S是属于不同鱼骨状遮光元件559A的两相邻支干559C间最接近的区域。在制作期间，当主遮光结构559被挤压或拉伸时，间隙508S所提供的空间可以避免主遮光结构559累积局部应力。在制造上基板562时，鱼骨状遮光元件559A的分隔提供了适当的空间来避免热应力穿越整个LCD面板。
为了做更进一说明，图1和图5是单一像素区的结构配置关系示意图。鱼骨状遮光元件559A进一步区分为559A1和559A2，支干559C进一步区分为559C1和559C2，间隙508S进一步区分为508S1和508S2。图5是显示部分两相邻的鱼骨状遮光元件559A1和559A2，其限定一光穿透像素区508L(鱼骨状空间508的其中一主空间)对应于下基板561的像素电极554。鱼骨状遮光元件559A1和559A2被鱼骨状空间508分离，其中对应于像素电极554的主要部分的主空间508L是由鱼骨状遮光元件559A1的两相邻支干559C1和559C2，以及鱼骨状遮光元件559A2的两相邻支干559C1和559C2，所限定而成。在像素区内，左边的支干559C1与部分信号线500A重叠，右边的支干559C2与部分信号线500B重叠，因此，左边的间隙508S1暴露部分左边的信号线500A，右边的间隙508S2暴露部分右边的信号线500B。左边的辅助遮光层509A和519A对应于间隙508S1，且与支干559C1部分重叠，如图6所示。右边的辅助遮光层509B和519B对应于间隙508S2，且与支干559C2部分重叠。
条状遮光层551A和551B以及辅助遮光层509A和509B的设置位置是低于信号线500A和500B。举例而言，条状遮光层551A和551B以及辅助遮光层509A和509B是与扫描线501A和501B一起形成，且形成自第一金属层(M1)；信号线500A和500B以及辅助遮光层519A和519B是形成自第二金属层(M2)。在第一金属层(M1)中形成条状遮光层551A和551B、辅助遮光层509A和509B、扫描线501A和501B后，形成一层间控制极绝缘层555覆盖第一金属层(M1)。接着，在第二金属层(M2)中形成信号线500A和500B以及辅助遮光层519A和519B，且设置于控制极绝缘层555上。然后，在形成像素电极554之前形成保护层550。
接着参考图7所示的多像素区的结构配置图。遮光结构包括主遮光结构559、条状遮光层551、与条状遮光层551接触的辅助遮光层509、以及与信号线500接触的辅助遮光层519。
主遮光结构559可以允许光穿透像素电极554，并配合条状遮光层551、辅助遮光层509和519来阻挡没有穿过对应的像素电极554的光线。
第二实施例在第二实施例中是以穿透型液晶显示器为例，并以TFT做为驱动元件。
图11是本发明第二实施例的液晶显示器的一像素区的平面图。图12A、图12B和图12C是分别为图11的A-A′、B-B′和C-C′切线的剖面图。图14是图11的像素区中设置于上透明基板上的部分两相邻鱼骨状遮光元件的平面图。
图13是多个邻近的像素区中的鱼骨状遮光元件的平面图，图15是多像素区的结构配置图。
如图12A至图12C所示，液晶显示器包括上基板662、下基板661、以及夹置于其间的液晶层657。发光源664设置于下基板661后面。
如图11和图12A至图12C所示，就单一像素而言，下基板661包括下透明基板656、TFT610、沿X方向延伸的扫描线601A和601B、沿Y方向延伸的信号线600A和600B、以虚线表示的像素电极654、条状遮光层651A和651B、以及辅助遮光层609A、609B、619A和619B。扫描线601A和601B以及信号线600A和600B限定一像素区，如图11中以虚线表示的像素电极654形成于像素区的主要部分。像素电极654是由TFT610所控制，TFT610配置于像素区的一角落，且与扫描线601B和信号线600B一起形成。电容器605的底部电极与扫描线601A和601B相邻接，上电极606经由保护层650中的开口607连接至像素电极654。
就下基板661而言，左边的条状遮光层651A形成于左边的信号线600A和像素电极654之间，且与像素电极654的周围部分重叠。而且，右边的条状遮光层651B形成于右边的信号线600B和像素电极654之间，且与像素电极654的周围部分重叠。与像素电极654一起作用的电容电极与扫描线601A一起形成，且与像素电极654部分重叠，借此避免扫描线601A和像素电极654之间的漏电流。辅助遮光结构(例如由接触扫描线601B的辅助遮光层639B所构成)形成于扫描线601B和像素电极654之间，以避免其间的漏电流。另一辅助遮光层639A是用以避免扫描线601A和上面只示出部分的像素电极654之间的漏电流。
辅助遮光结构亦可以是独立的遮光结构，且与像素电极654和扫描线601B重叠。
如图11、图12A和图12B所示，辅助遮光结构是由分别与扫描线601A和601B接触的辅助遮光层639A和639A所构成，并与其对应的像素电极654重叠。
辅助遮光层639和639B是主遮光结构659的互补结构，与在上基板662的主遮光结构659中的鱼骨状空间部分重叠。
上基板662包括透明共用电极663、主遮光结构659和RGB彩色滤光片660，RGB是三主要颜色。在图12A至图12C中，像素区的彩色滤光片660是以次滤光片R为例。
图13是表示对应于多像素区的主遮光结构659的示意图。用于形成主遮光结构659的材料可以任何遮光材料，例如金属或树脂。主遮光结构659是由多个鱼骨状遮光元件659A所组成，鱼骨状遮光元件659A大致平行于Y方向，且彼此间借助鱼骨状空间608做物理性分离。如图15所示，每一个鱼骨状遮光元件659A包括一主干659B和多个支干659C，其中，主干659B是朝X方向延伸，且遮盖信号线600，支干659C是自主干659B两侧垂直延伸。鱼骨状空间608包括许多间隙608S和主空间608L。每一间隙608S是属于不同鱼骨状遮光元件659A的两相邻支干659C间最接近的区域。在制作期间，当主遮光结构659被挤压或拉伸时，间隙608S所提供的空间可以避免主遮光结构659累积局部应力。在制造上基板662时，鱼骨状遮光元件659A的分隔提供了适当的空间来避免热应力穿越整个LCD面板。
继续参照图11和图14。鱼骨状遮光元件659A进一步区分为659A1和659A2，支干659C进一步区分为659C1和659C2，间隙608S进一步区分为608S1和608S2。图14是显示部分两相邻的鱼骨状遮光元件659A1和659A2，其限定一光穿透像素区608L(鱼骨状空间608的其中一主空间)对应于下基板661的像素电极654。鱼骨状遮光元件659A1和659A2被鱼骨状空间608分离，其中对应于像素电极654的主要部分的主空间608L是由鱼骨状遮光元件659A1的两相邻支干659C1和659C2，以及鱼骨状遮光元件659A2的两相邻支干659C1和659C2，所限定而成。在像素区内，上侧的支干659C1与部分扫描线601A重叠，下侧的支干659C2与部分扫描线601B重叠，因此，上侧的间隙608S1暴露部分上侧的扫描线601A，下侧的间隙608S2暴露部分下侧的扫描线601B。辅助遮光层639A和639B对应于间隙608S1和608S2，且分别与支干659C1和659C2部分重叠，如图11和图14所示。
举例而言，条状遮光层651A和651B以及辅助遮光层639A和639B是与扫描线601A和601B一起形成，且形成自第一金属层(M1)；信号线600A和600B以及上电极板606是形成自第二金属层(M2)。在第一金属层(M1)中形成条状遮光层651A和651B、辅助遮光层639A和639B、电容器605的底部电极板、以及扫描线601A和601B后，形成一层控制极绝缘层655覆盖第一金属层(M1)，其材料例如是氮化硅、氧化硅或其他类似此性质者。接着，在第二金属层(M2)中形成信号线600A和600B以及电容器605的上电极板606，且设置于控制极绝缘层655上。之后，在形成像素电极654之前形成保护层650，其材料例如是氮化硅、氧化硅或其他类似此性质者。
接着参考图15所示的多像素区的结构配置图。遮光结构包括主遮光结构659、条状遮光层651、以及与扫描线601接触的辅助遮光层639。
主遮光结构659可以允许光穿透像素电极654，并配合条状遮光层651、辅助遮光层639来阻挡没有穿过对应的像素电极654的光线。
第三实施例如图7和图15所示，穿过主遮光结构559和659中的间隙508S和608S的入射光线，会被处于不同层的辅助遮光结构所抵挡。间隙508S和608S所提供的空间，可用以避免应力穿越整个LCD面板。
参照图16，在第三实施例中，间隙708S随机放置在扫描线701和信号线700上。对应于像素电极754(以虚线表示)的每一主空间708L与至少一放置在扫描线701或信号线700的间隙708S连接，经由间隙708S连接至邻近的主空间708L。
如果主遮光结构759的间隙708S设置在扫描线701和电容器705上，则设置在主遮光结构759下且延伸自扫描线701的辅助遮光层739可以阻挡穿过间隙708S的光线。
如果主遮光结构759的间隙708S设置在信号线700上，则设置在主遮光结构759下的辅助遮光结构(例如分别延伸自条状遮光层751和信号线700的辅助遮光层709和719)可以阻挡穿过间隙708S的光线。
第四实施例在第四实施例中是以具有广视角特性的IPS-LCD(in-plane switchingmode liquid crystal display)为例，说明本发明的技术。
图17是IPS-LCD的像素单元的平面图。如图所示，像素单元区是由信号线800和扫描线801限定而成。共用电极线863b与扫描线801平行排列。薄膜电晶体(TFT)形成于信号线800和扫描线801的交错处附近。如图18所示，其为图17的A-A′剖面图，TFT包括控制极电极G、控制极绝缘层812、半导体层815、通道层816、和源极/漏极电极817。控制极电极G连接至扫描线801，源极/漏极电极817连接至信号线800。控制极绝缘层812形成于下透明基板856的整个表面上。
共用电极863a和信号电极854形成于像素区内。共用电极863a是于控制极电极G一起形成，且连接至共用电极线863b。信号电极854是与源极/漏极电极817一起形成，且连接至源极/漏极电极817。再者，保护层818和下配向膜层820放置在整个下透明基板856的表面上。
就上透明基板858而言，主遮光结构859(在图17中是以虚线表示)是用以避免TFT、信号线800和扫描线801周围的漏光。在像素区内，主遮光结构859由主空间808L和两间隙808S限定而成，其中间隙808S设置在共用电极线863b上，以阻挡穿过间隙808S的光线。简而言之，用以阻挡穿过间隙808S的光线的辅助遮光结构，是由不透光材料所形成的共用电极线863b本身。
这些间隙808S提供的空间可用以避免应力穿越整个LCD面板，因此可以避免彩色滤光片860的剥离。
彩色滤光片860和上配向膜层864是依序形成于主遮光结构859上。另外，液晶层857形成于下基板861和上基板862之间。
虽然本发明已以较佳实施例公开如上，然而其并非用以限定本发明，任何本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当然可作些更动与润饰，因此本发明的保护范围应当以权利要求所界定的为准。
权利要求
1.一种具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，包括多个扫描线和多个信号线，这些扫描线和信号线相互垂直，并限定多个像素区；一具有多个主空间和多个间隙的主遮光结构，其中这些主空间大致对应于这些像素区，每一间隙大致对应于扫描线或信号线，每一主空间连接至少一间隙，且每一间隙连接两相邻的主空间；以及对应于这些间隙的多个辅助遮光结构。
2.如权利要求1所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于还包括设置于这些像素区的多个像素电极。
3.如权利要求2所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于多个条状遮光层设置于这些信号线和这些像素电极之间，且与这些像素电极和该主遮光结构部分重叠。
4.如权利要求3所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于一第一部分的这些辅助遮光结构对应于一第一部分对应于这些信号线的这些间隙，该第一部分的这些辅助遮光结构包括多个第一辅助遮光层，该第一辅助遮光层与这些信号线和该主遮光结构部分重叠，且与该条状遮光层接触；以及一第二部分的这些辅助遮光结构对应于一第二部分对应于这些扫描线的这些间隙，该第二部分的这些辅助遮光结构包括多个第二辅助遮光层，这些第二辅助遮光层与这些像素电极和该主遮光结构部分重叠，且与该条扫描线接触。
5.如权利要求4所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于还包括多个电容器，这些电容器与这些扫描线邻接，且对应于该第二部分的该间隙。
6.如权利要求3所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于一第一部分的这些辅助遮光结构对应于一第一部分对应于这些信号线的这些间隙，该第一部分的这些辅助遮光结构包括多个第三辅助遮光层，这些第三辅助遮光层与该条状遮光层和该主遮光结构部分重叠，且与这些信号线接触；以及一第二部分的这些辅助遮光结构对应于一第二部分对应于这些扫描线的这些间隙，该第二部分的这些辅助遮光结构包括多个第二辅助遮光层，这些第二辅助遮光层与这些像素电极和该主遮光结构部分重叠，且与该条扫描线接触。
7.如权利要求6所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于还包括多个电容器，这些电容器与这些扫描线邻接，且对应于该第二部分的该间隙。
8.如权利要求3所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于一第一部分的这些辅助遮光结构对应于一第一部分对应于这些信号线的这些间隙，该第一部分的这些辅助遮光结构包括多个第一和第三辅助遮光层，这些第一辅助遮光层与这些信号线和该主遮光结构部分重叠，且与该条状遮光层接触，这些第三辅助遮光层与该条状遮光层和该主遮光结构部分重叠，且与这些信号线接触；以及一第二部分的这些辅助遮光结构对应于一第二部分对应于这些扫描线的这些间隙，该第二部分的这些辅助遮光结构包括多个第二辅助遮光层，这些第二辅助遮光层与这些像素电极和该主遮光结构部分重叠，且与该条扫描线接触。
9.如权利要求8所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，更包括多个电容器，这些电容器与这些扫描线邻接，且对应于该第二部分的该间隙。
10.如权利要求3所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于这些辅助遮光结构对应于这些信号线的这些间隙，这些辅助遮光结构包括多个第一辅助遮光层，这些第一辅助遮光层与这些信号线和该主遮光结构部分重复，且与该条状遮光层接触。
11.如权利要求3所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于这些辅助遮光结构对应于这些信号线的这些间隙，这些辅助遮光结构包括多个第三辅助遮光层，这些第三辅助遮光层与该条状遮光层和该主遮光结构部分重复，且与这些信号线接触。
12.如权利要求3所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于这些辅助遮光结构对应于这些信号线的这些间隙，这些辅助遮光结构包括多个第一和第三辅助遮光层，这些第一辅助遮光层与这些信号线和该主遮光结构部分重叠，且与该条状遮光层接触，这些第三辅助遮光层与该条状遮光层和该主遮光结构部分重叠，且与这些信号线接触。
13.如权利要求1所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于这些间隙对应于这些扫描线，该主遮光结构包括多个鱼骨状遮光层，这些鱼骨状遮光层借助多个鱼骨状空间彼此分隔，且与这些信号线平行，每一鱼骨状空间由多个主空间和多个间隙所构成。
14.如权利要求1所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于这些间隙对应于这些信号线，该主遮光结构包括多个鱼骨状遮光层，这些鱼骨状遮光层借助多个鱼骨状空间彼此分隔，且与这些扫描线平行，每一鱼骨状空间由多个主空间和多个间隙所构成。
15.如权利要求1所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于还包括多个共用电极；一设置于这些共用电极之间的像素电极；以及一连接至这些共用电极上的共用电极线，这些共用电极由不透光材料所构成；其中，部分该共用电极线位于这些间隙下，且构成这些辅助遮光结构。
16.一种具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，包括一第一基板，该第一基板包括多个扫描线和多个信号线，这些扫描线和这些信号线相互垂直，并限定多个像素区；设置于该像素区的多个像素电极，多个条状遮光层，这些条状遮光层设置于这些信号线和这些像素电极之间，且与这些像素电极重叠，和多个辅助遮光结构；一第二基板，该第二基板包括一具有多个主空间和多个间隙的主遮光结构，其中这些主空间大致对应于这些像素区，每一间隙大致对应于这些扫描线或这些信号线，每一主空间连接至少一间隙，且每一间隙连接两相邻的主空间，和一设置于主遮光结构上的彩色滤光片；以及一设置该第一和第二基板之间的液晶层；其中，这些辅助遮光结构对应于这些间隙。
17.一种具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，包括彼此平行于一第一方向的第一和第二扫描线；彼此平行于一第二方向的第一和第二信号线，其中该第一和第二扫描线以及该第一和第二信号线限定一像素区；一具有一主空间和一间隙的主遮光结构，该主空间对应于该像素区，该间隙连接该主空间和一邻近的主空间；以及一设置于该间隙下的辅助遮光结构，该辅助遮光层与该主遮光结构部分重叠。
18.如权利要求17所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于该间隙位于该第一扫描线上、一第一像素电极设置于该主空间下，一第二像素电极设置于该邻近的主空间下，该第一和第二像素电极由该第一信号线所控制。
19.如权利要求18所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于一电容器邻近该第一扫描线，且对应于该间隙。
20.如权利要求18所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于一辅助遮光结构邻接该第一扫描线。
21.如权利要求17所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于该间隙位于该第一信号线上、一第一像素电极设置于该主空间下，一第二像素电极设置于该邻近的主空间下，该第一和第二像素电极由该第一扫描线所控制。
22.如权利要求21所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于还包括在该第一信号线的两侧的第一和第二条状遮光层；以及构成该辅助遮光结构的第一和第二辅助遮光层，且该第一和第二辅助遮光层与该第一信号线和该主遮光结构部分重叠，并分别与该第一和第二条状遮光层接触。
23.如权利要求21所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于还包括在该第一信号线的两侧的第一和第二条状遮光层；以及构成该辅助遮光结构的第一和第二辅助遮光层，且该第一和第二辅助遮光层与该第一和第二条状遮光层和该主遮光结构部分重叠，并与该第一信号线接触。
24.如权利要求21所述的具有非矩阵型遮光结构的平面显示器，其特征在于还包括在该第一信号线的两侧的第一和第二条状遮光层；以及构成该辅助遮光结构的第一、第二、第三和第四辅助遮光层，其中该第一和第二辅助遮光层与该主遮光结构部分重叠，并分别与该第一和第二条状遮光层接触，该第三和第四辅助遮光层与该主遮光结构部分重叠，并与该第一信号线接触，其中该第一和第二辅助遮光层与该第三和第四辅助遮光层互相重叠。
全文摘要
本发明提供一种具有非矩阵型遮光结构的平面显示器。非矩阵型遮光结构包括主遮光结构和辅助遮光结构，其中主遮光结构具有间隙和对应于像素区的主空间，而辅助遮光结构对应于主遮光结构的间隙。每一间隙对应于扫描线或信号线。每一主空间与至少一间隙连接，而每一间隙连接两相邻的主空间。
文档编号G02F1/1362GK1527107SQ200410033400
公开日2004年9月8日 申请日期2004年4月7日 优先权日2003年7月7日
发明者罗方祯, 胡冠彣 申请人:友达光电股份有限公司