专利名称：正型光阻剂组成物及其应用的制作方法
技术领域：
本发明是关于一种正型光阻剂组成物，更详细者是有关于硷性显影正型光阻剂组成物，适合于使用曝光制程制造印刷电路板、软性印刷电路板及其他类似的制程。
背景技术：
曝光制程是指于基板亦即加工物表面涂布感光性树脂组成物后，由石版成像技术(photolithography)使涂膜图型化后，以此做为光罩的化学蚀刻、电解或电镀做为主体的线路成型的技术以单独或组合后制造各种精密零件的技术的总称，为目前的精密微细线路加工技术主流。
现有利用紫外线汞灯成像的正型光阻，其组成物包含有硷可溶酚醛树脂、萘醌二叠氮基的感光化合物、溶剂与其他添加剂等，但因酚醛树脂的材料特性属于较硬脆型，光阻成膜的后较容易拨离或脆裂，若脆裂发生于涂膜图型化后的蚀刻阶段，将会导致电路短路。如此，现有的正型光阻组成物将无法满足需求因此并不适用。
正型光阻组成物如特开平10-207057号公报所载的，主要添加丙烯树脂以提升电镀耐性为目的。此技术虽可被期待降低裂化，惟为抑制裂化产生所大量添加的丙烯树脂则造成光阻的对比降低，成型的形状恶化。
发明内容
为了改善上述的问题，本发明的提出一种新的正型光阻性组成物。本发明的正型光阻组成物具有良好的涂布性与柔韧性，可以完全地改善光阻成膜的后容易脆裂的问题。
本发明的正型光阻性组成物，其包括(A)100份重的共聚合物，其重量平均分子量介于2,000-300,000(GPC法的聚苯乙烯换算值)，该共聚合物是为具有如下式(1)结构单元的共聚合物或具有如下式(2)结构单元或具有如下式(3)结构单元的共聚合物， 其中R1是为H、-CH3、-C2H5；R2是为H、-CH3、-C2H5；R3是为C1-C12烷基、C4-C12环烷基或C6-C18芳香取代基；U＞0，V＞0，且U+V＝1；
其中R1、R2及R3定义如前述式(1)；R4是为H、-CH3、-C2H5；R5是为C1-C12烷基、C4-C12环烷基或C6-C18芳香取代基；R6是为H、-CH3、-C2H5；X＞0，Y＞0，Z＞0，且X+Y+Z＝1；(B)5至80份重的的含萘醌二叠氮基感光化合物，该含萘醌二叠氮基感光化合物的份重是以100份重的共聚合物(A)为基准计算，以及(C)100至2,000份重的有机溶剂，其是选自包括醚族、酮族、酯族、芳香族或醯胺族溶剂，该有机溶剂的份重是以100份重的共聚合物(A)为基准计算。
前述式(1)结构单元中的U及V，较佳的是为该U是介于0.05至0.7，而该V是介于0.95至0.3。
前述式(2)结构单元中的X、Y、及Z的中，较佳的是为该x是介于0.05至0.7；y是介于0.90至0.05；且Z是介于0.05至0.25。
前述式(1)结构单元中的R3，较佳的是为该R3是为C1-C12烷基，或该R3是为C4-C12环烷基。
前述式(2)结构单元中的R3与R5，较佳的是为该R3是为C1-C12烷基；且该R5是为C1-C12烷基。
前述式(2)结构单元中的R3与R5，另一较佳的是为R3是为C4-C12环烷基；且该R5是为C4-C12环烷基。
前述含萘醌二叠氮基感光化合物，较佳的是为1，2-萘醌二叠氮磺酸与具有羟基的多元酚反应而得的酯化物。更佳的是为1，2-萘醌二叠氮磺酸与2，3，4-三羟二苯基酮、或双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-3，4-二羟苯甲烷、或2，2’，4，4’-四羟二苯基酮反应而得的酯化物。
前述有机溶剂是为醚族溶剂时，较佳的是选自包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丙醚、乙二醇单正丁醚、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单正丙醚、二甘醇单正丁醚、三甘醇单甲醚、三甘醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单正丙醚、二丙二醇单正丁醚、二丙二醇单甲醚、三丙二醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇甲基乙醚、二甘醇二乙醚、或四氢呋喃。
前述有机溶剂是为酮族溶剂时，较佳的是选自包括甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮、或3-庚酮。
前述有机溶剂是为酯族溶剂时，较佳的是选自包括乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、二甘醇单甲醚醋酸酯、二甘醇单乙醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、2-羟基丙酸甲酸、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羟基醋酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酸、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、甲酸正戌酸、醋酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯、或2-羟基丁酸乙酯。
前述有机溶剂是为芳香族溶剂时，较佳的是选自包括甲苯、或二甲苯。
前述有机溶剂是为醯胺族溶剂时，较佳的是选自包括N-甲基口比咯烷酮、或N，N-二甲基甲醯胺N，N-二甲基乙醯胺。
本发明的硷性显影正型光阻性组成物，其中更包括(D)添加剂，该添加剂是选自包括色素、染料、热聚合物抑制剂、增稠剂、防沫剂、增感剂及偶联剂。该等添加剂为熟悉此项技艺人士所熟知，于此不在一一赘述。
本发明的正型光阻性组成物，其是做为在制造印刷电路板时，供涂敷在一铜箔基板上，乾燥使形成一覆膜，用活化能射线选择性的照射该覆膜的一部分后，并用弱硷性水溶液将该覆膜显影以去除受照射的部分，以形成蚀刻保护层膜。
本发明的正型光阻组成中的共聚合物具有良好的涂布性与柔韧性。可以完全地改善光阻成膜的后容易破裂的问题。另外，对于光阻的其他特性如解析度，耐蚀刻性，去墨性等，亦有非常优异的性能表现。
具体实施例方式
以下是就本发明组成物的各组成份，分别详细描述如下。
(A)共聚合物本发明使用的(A)共聚合物，是至少具有一个以上羧基的乙烯性不饱和自由基聚合性单体(以下，称为“含羧基的不饱和单体”)或其他可共聚的乙烯自由基聚合性不饱和单体(以下，称为“共聚性不饱和单体”)的共聚物(以下，单称为“含羧基的共聚物”)为佳。
含羧基的不饱和单体，可列举例如含单羧酸基不饱和单体丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸(crotonic acid)等的不饱和单羧酸类；含二羧酸或其酸酐类不饱和单体，可列举例如马来酸(maleic acid)、反丁烯二酸(fumaric acid)、citroconic acid、甲基延胡索酸(Mesaconicacid)、衣康酸(itaconic acid)、等的不饱和二羧酸类，上述的单体较佳的是丙烯酸、甲基丙烯酸。
上述的这些单体可单独或二种以上混合使用。
其他共聚的自由基聚合性单体可列举例如有苯乙烯、苯乙烯的α-甲基、邻烷基、间烷基、对烷基、烷氧基、卤素、硝基、氰基、醯胺基或酯取代的取代物；丁二烯、异戌二烯、氯戊二烯的烯烃类；(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯，正丙基(甲基)丙烯酸酯、异丙基(甲基)丙烯酸酯，正丁基(甲基)丙烯酸酯、第二丁基(甲基)丙烯酸酯、第三丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(甲基)丙烯酸酯、新戌基(甲基)丙烯酸酯、异戊基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、环己基甲基丙烯酸酯、金刚烷基(甲基)烷基丙烯酸酯、烯丙基(甲基)丙烯酸酯、丙炔基(甲基)丙烯酸酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、萘基(甲基)丙烯酸酯、蒽基(甲基)丙烯酸酯、蒽醌基(甲基)丙烯酸酯、胡椒基(甲基)丙烯酸酯、水杨基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、苯乙基(甲基)丙烯酸酯、甲苯基(甲基)丙烯酸酯、环氧丙基(甲基)丙烯酸酯、[5.2.1.0 2，6]三环-8-十烷基甲基丙烯酸酯、等单体。
这些其他共聚的自由基聚合性单体中，较理想者为苯乙烯、丁二烯、苯基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯、金刚烷基(甲基)烷基丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、[5.2.1.0 2，6]三环-8-十烷基甲基丙烯酸酯等。这些单体可单独使用或组合两种以上使用。这些其他共聚的自由基聚合性单体的共聚比例是因可赋予硷可溶性的基的种类而异。
共聚合物中的含羧基不饱和单体的共聚比例较佳的为5至70％重量比，更佳的为5至50％重量比。此时，前述的共聚比例未满5重量％，则所得组成物对于硷性显像液的溶解性有降低的倾向，另一方向，若超过70重量％，则对于硷性显像液的溶解性过大，以硷性显像液予以显像时，光阻图案易由基板上脱落并且具有易造成图案表面膜破坏的倾向。
本发明的共聚合物以凝胶渗透层析(GPC)溶剂四氢呋喃(THF)，所测定的换算成聚苯乙烯的重量平均分子量(以下，称为“Mw”)通常为1,000-500,000，较佳为2,000-300,000。
经由使用具有此类特定Mw的硷可溶性树脂，则可取得显像性优的光阻剂组成物，且藉此，可形成具有特定的图型。
于本发明中，共聚合物可单独或混合使用二种以上。本发明中的共聚合物的使用量，若全部配方为100重量份时，通常共聚合物的使用量为3-80重量份，较佳为10-60重量份。
(B)含萘醌二叠氮基的感光化合物本发明所使用成分(B)含萘醌二叠氮基的感光化合物，是具有羟基或胺基的下列化合物(I)到(VI)与含磺酸的萘醌二叠氮基化合物如1，2-萘醌二叠氮-4-磺酸酯、1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯等化合物形成酯基或胺基的键结，这些萘醌二叠氮基化合物可以是下列化合物(I)到(VI)的完全酯化物产物、部分酯化物产物、完全醯胺化物产物、部分醯胺化物产物。
(I)多羟基二苯甲酮化合物，例如2，3，4-三羟基二苯甲酮、2，4，4’-三羟基二苯甲酮、2，4，6-三羟基二苯甲酮、2，3，6-三羟基二苯甲酮、2，3，4，-三羟基-2’-甲基二苯甲酮、2，3，4，4’-四羟二苯基甲酮、2，2’，4，4’-四羟二苯基甲酮、2，3’，4，4’，6-五羟二苯基甲酮、2，2’，3，4，4’-五羟二苯基甲酮、2，2’，3，4，5-五羟二苯基甲酮、2，3’，4，4’，5’，6-六羟二苯基甲酮、2，3，3’，4，4’，5’-六羟二苯基甲酮；(II)双[(多)羟基苯]烷类化合物，例如双[2，4-二羟基苯]甲烷、双[2，3，4-三羟基苯]甲烷、2-(4-羟基苯)-2-(4’-羟基苯)丙烷、2-(2，4-二羟基苯)-2-(2’，4’-二羟基苯)丙烷、2-(2，3，4-三羟基苯)-2-(2’，3’，4’-三羟基苯)丙烷；(III)三(羟基苯)甲烷类及其苯环上的氢原子均被甲基所取代，(以下，称为『甲基所取代物』)，例如三(4-羟基苯)甲烷、双(4-羟基-3，5-二甲基苯)-4-羟基苯甲烷、双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-4-羟基苯甲烷、双(4-羟基-3，5-二甲基苯)-2-羟基苯甲烷、双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-2-羟基苯甲烷、双(4-羟基-3，5-二甲基苯))-3，4-二羟基苯甲烷、双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-3，4-二羟基苯甲烷；(IV)双(环己烷羟基苯)(羟基苯)甲烷类及其甲基所取代物，例如双(3-环己烷-4-羟基苯)-2-羟基苯甲烷、双(3-环己烷-4-羟基苯)-3-羟基苯甲烷、双(3-环己烷-4-羟基苯)-4-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-4-羟基苯-2-甲基苯)-2-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-4-羟基苯-2-甲基苯)-3-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-4-羟基苯-2-甲基苯)-4-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-4-羟基苯-3-甲基苯)-4-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-4-羟基苯-3-甲基苯)-3-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-4-羟基苯-3-甲基苯)-2-羟基苯甲烷、双(3-环己烷-2-羟基苯)-4-羟基苯甲烷、双(3-环己烷-2-羟基苯)-3-羟基苯甲烷、双(3-环己烷-2-羟基苯)-2-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-2-羟基-4-甲基苯)-2-羟基苯甲烷、双(5-环己烷-2-羟基-4-甲基苯)-4-羟基苯甲烷；(V)具有酚羟基或胺基的芳香族化合物，包括具有酚基化合物，例如酚、对-甲氧基酚、二乙基酚、对苯二酚、苯酚、儿茶酚、没食子酚、没食子酸；多酚基化合物的部分酯物，例如没食子酚单甲基醚、没食子酚-1，3-二甲基醚；苯胺、对-胺基二苯胺、4，4’-二胺基苯胺、二苯基甲酮；
(VI)酚醛树脂、没食子酚-丙酮树脂、对-羟基苯乙烯单聚合物、及与对-羟基苯乙烯单体可进行共聚合的单体所形成的共聚合物。
上述中，较佳的含萘醌二叠氮基的化合物者为2，3，4-三羟基二苯甲酮、2，2’，4，4’-四羟二苯基甲酮、2，2’，3，4，4’-五羟二苯基甲酮、2-(4-羟基苯)-2-(4’-羟基苯)丙烷、2-(2，3，4-三羟基苯)-2-(2’，3’，4’-三羟基苯)丙烷、三(4-羟基苯)甲烷、双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-4-羟基苯甲烷、双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-2-羟基苯甲烷、双(4-羟基-3，5-二甲基苯))-3，4-二羟基苯甲烷、双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-3，4-二羟基苯甲烷。
本发明组成物中，(B)可单独含有一种萘醌二叠氮基的感光化合物，亦可含有两种不同以上混合使用者。又，(B)含萘醌二叠氮基的感光化合物相对于(A)共聚合物成份100重量份时为5至100重量份者宜，较佳者为10至90重量份的配合者宜。如果(B)添加量低于5重量份时，不易形成图案。叉超过100重量份时，会造成光阻的感度降低。
(C)有机溶剂本发明的光阻组成物为以前述(A)及(B)成分作为必要成分，而通常为配合溶剂调制成液状组成物。关于有机溶剂的选用，只要可将(A)及(B)成分分散或溶解，而不与这些成分起反应，并具有适度的挥发性者，即可。如果(A)及(B)成分有(D)添加剂时，当然，必须一并将(D)添加剂予以分散或溶解。前述有机溶剂可单独或混合使用二种以上。
另外，较佳的有机溶剂种类以介绍如前所述，前述有机溶剂亦可与苄基乙醚、二-正己醚、乙睛丙酮、异佛尔酮、己酸、庚酸、1-辛醇、1-萘醇、苄醇、醋酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、乙二醇单苯醚醋酸酯等的高沸点溶剂并用。
这些高沸点溶剂中，以γ-丁内酯等为佳。前述的高沸点溶剂可单独或混合使用二种以上。
有机溶剂的合计使用量虽无特别限定，但由于将光阻组成物涂布基板时，采用不同的方法如回转涂布、喷雾涂布、网版印刷涂布、辊涂布、浸渍涂布等的涂布法，需调整溶剂的使用量及其比例，已调整黏度及流动性，以利光阻组成物涂布，本发明组成物中有机溶剂的组成占全部配方的比例通常为5-90重量％，较佳为20-80重量％。
(D)添加剂本发明的添加剂并无特殊的限制，可依照光阻的应用需求，选择加入适量的增感剂(sensitizers)、溶解抑制剂(dissolution inhibitors)、界面活性剂(surfactants)、染料(dyes)、颜料、著色剂、抗氧化剂或其他高分子聚合物，使得光阻剂能达到所需的要求与标准，这些个别添加剂占全部配方的比例通常不超为5重量％。
以下将用具体实施例及对照实施例明确的描述本发明，本发明的申请专利范围并不会因此而受限制。若无特别注明，其中″部份(part)″及″″均以重量计算。
以下合成制备例1至6是有关(A)共聚合物的合成。
合成制备例1以附有乾冰/甲醇回流冷凝器与温度计的烧瓶进行氮取代后，加入起始剂2，2’-偶氮双异丁基(AIBN)3.0克，及做为溶剂225克的2-羟基丙酸乙酯后，搅拌至聚合起始剂溶解为止。的后加入甲基丙烯酸苯甲酯(Benzyl Methacrylate)60克、甲基丙烯酸(Methacrylic Acid)40克，缓缓进行搅拌。随后，并升温至约80℃，于此温度下进行聚合4小时。再冷却至室温后，烧瓶内以空气取代，的后再加入150毫克的对甲氧基苯酚作为稳定剂。反应生成物滴入多量甲醇后使反应物凝固的。水洗此凝固物后与凝固物同重量的四氢呋喃中进行再溶解后，以多量甲醇再度进行凝固。此再溶解一凝固的操作重覆进行3次后，将取得凝固物于40℃下进行真空乾燥48小时后，取得丙烯酸共聚合物。此树脂称为丙烯酸共聚合物(A1)。
合成制备例2重复合成制备例1的步骤，将使用的单体改成甲基丙烯酸20克、甲基丙烯酸甲酯70克、2-乙基丙烯酸己酯10克进行聚合反应，可得丙烯酸共聚合物(A2)。
合成制备例3重复合成制备例1的步骤，将使用的单体改成甲基丙烯酸30克、苯乙烯90克、2-羟基丙烯酸乙酯30克进行聚合反应，可得丙烯酸共聚合物(A3)。
合成制备例4重复合成制备例1的步骤，将使用的单体改成甲基丙烯酸30克、甲基丙烯酸甲酯80克、2-羟基丙烯酸乙酯40克进行聚合反应，可得丙烯酸共聚合物(A4)。
合成制备例5重复合成制备例1的步骤，将使用的单体改成甲基丙烯酸30克、丙烯酸正-丁基酯90克、[5.2.1.0 2，6]三环-8-十烷基甲基丙烯酸酯30克进行聚合反应，可得丙烯酸共聚合物(A5)。
合成制备例6重复合成制备例1的步骤，将使用的单体改成甲基丙烯酸30克、丙烯酸乙酯90克、2-金刚烷基甲基丙烯酸酯30克进行聚合反应，可得丙烯酸共聚合物(A6)。
关于(B)含萘醌二叠氮基的感光化合物的来源是购自日本东洋合成(为ToYo GoSei Co.，Ltd.)(B1)2，3，4-三羟基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯。
(B2)双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-3，4-二羟基苯甲烷-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯。
(B3)2，2’，4，4’-四羟二苯基甲酮-1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯。
以下实施例1至10是本发明光阻剂组成物的制备实施例1将合成实施例1所得到的丙烯酸共聚合物(A1)100克、(B1)萘醌二叠氮基的感光化合物20克、及(C)溶剂丙二醇单甲基醚乙酸酯150克，将上述各成份混合均匀，然后以10μm的过滤器过滤此溶液，光阻剂组成物配方制备完成。
实施例2至10重复实施例1的步骤，仅改变其中的(A)丙烯酸共聚合物及(B)萘醌二叠氮基的感光化合物种类(如表一)，但添加量不变，来制备光阻剂组成物配方，其余实验步骤皆相同。
表一
对照实施例1取100克酚醛树脂(由对-甲酚100克、间-甲酚100克、37％甲醛120克以草酸触媒进行缩合所得到的酚醛树脂，重量平均分子量7,000)、(B1)萘醌二叠氮基的感光化合物20克、及(C)溶剂丙二醇单甲基醚乙酸酯150克，将上述各成份混合均匀，然后以10μm的过滤器过滤此溶液，光阻剂组成物配方制备完成。
对照实施例2使用对照实施例1所得到的酚醛树脂光阻剂组成物，另外添加丙烯酸共聚合物(A2)50克，将上述各成份混合均匀，然后以10μm的过滤器过滤此溶液，光阻剂组成物配方制备完成。
特性的评估(1)相容性将上述制备完成的正型光阻剂组成物，在室温下搅拌24小时使其充分的混合，然后在室温下静置30天后，观察其结果。评估的标准如下○组成物在搅拌24小时完成后能均匀的溶解，而且在静置30天后还是呈现均匀的溶解。
△组成物在搅拌24小时完成后能均匀的溶解，但是在静置30天后呈现分层的现象。
×组成物在搅拌24小时完成后呈现溶解不均匀的现象。
(2)均匀性将上述制备完成的正型光阻剂组成物，以滚轮涂布法均匀涂布到整个铜箔基板上，并在80℃下乾燥10分钟以形成薄膜，观察此形成乾燥薄膜表面，评估的标准如下○薄膜表面无不平整且呈现均匀性。
×薄膜表面有不平整且如呈现有针孔或鱼眼。
(3)脆裂测试将上述制备完成的正型光阻剂组成物，以滚轮涂布法均匀涂布到整个软性铜箔聚醯亚胺基板上，并在80℃下乾燥10分钟以形成薄膜，然后将此基板卷成直径15公分的圆柱形，24小时后以SEM电子显微镜观察此形成乾燥涂膜表面，评估的标准如下○薄膜表面无脆裂且平顺。
△薄膜表面轻微的脆裂。
×薄膜表面完全的脆裂。
(4)图形的形状将上述(3)脆裂测试所制备软性铜箔聚醯亚胺基板薄膜，然后以高压汞灯照射经由具有图形的光罩后曝光，在以硷性水溶液(1wt％Na2CO3)显影成像，的后以SEM电子显微镜观察此形成图形的形状，评估的标准如下○在墙面呈现完美的直线性形状。
△在墙面下部轻微的产生凸出形状。
×完全不呈直线性形状。
(5)抗蚀刻性将上述(4)图形的形状测试所制备具有图形的软性铜箔聚醯亚胺基板薄膜，然后基板是浸渍在50℃下含氯化铜的酸性蚀刻液中10分钟，再以纯水洗净基板，的后以SEM电子显微镜观察此形成图形的形状，评估的标准如下○在基板上保留图形的形状。
×在基板上的图形完全被去除。
(6)剥离性质将上述(5)抗蚀刻性测试所制备具有图形的基板，然后基板在室温下浸渍于硷性水溶液(5wt％NaOH)剥离液中10分钟，再以纯水洗净基板，的后以SEM电子显微镜观察此形成图形的形状，评估的标准如下○在基板上的图形完全没有残留。
×在基板上残留著图形。
将上述的实施例1~10及对照实施例1~2所制备光阻剂组成物，以上述的特性的(1)~(6)评估方法，来做评估，结果整理成下列表二。
表二
在表中可见由本发明的光敏性树脂组成物所形成的薄膜在均匀性、耐脆裂及抗蚀刻性方面均非常优异。同时，薄膜在经过酸性蚀刻液处理过后可用强硷水溶液完全的剥离性。
综上所述，本发明确能藉所揭露的技术思想以达到发明目的，具新颖性、进步性与可供产业利用性，并与发明专利要件相符合。惟以上所揭示者，乃较佳实施例，凡是局部的变更或修饰而源于本案的技术思想而为熟悉该项技术的人士所易于推知的，俱不脱本案的专利权范围。
权利要求
1.一种正型光阻性组成物，包含(A)100份重的共聚合物，其重量平均分子量介于2,000~300,000，该共聚合物是为具有如下式(1)结构单元的共聚合物、或具有如下式(2)结构单元的共聚合物、或具有如下式(3)结构单元的共聚合物， 其中R1是为H、-CH3、-C2H5；R2是为H、-CH3、-C2H5；R3是为C1-C12烷基、C4-C12环烷基或C6-C18芳香取代基；U＞0，V＞0，且U+V＝1； 其中R1、R2及R3定义如前述式(1)；R4是为H、-CH3、-C2H5；R5是为C1-C12烷基、C4-C12环烷基或C6-C18芳香取代基；R6是为H、-CH3、-C2H5；X＞0，Y＞0，Z＞0，且X+Y+Z＝1；(B)5至80份重的的含萘醌二叠氮基感光化合物，该含萘醌二叠氮基感光化合物的份重是以100份重的共聚合物(A)为基准计算，以及(C)100至2000份重的有机溶剂，其是选自包括醚族、酮族、酯族、芳香族或醯胺族溶剂，该有机溶剂的份重是以100份重的共聚合物(A)为基准计算。
2.如权利要求1项的组成物，其中该U是介于0.05至0.7，V是介于0.95至0.3。
3.如权利要求1项的组成物，其中该x是介于0.05至0.7；y是介于0.90至0.05；Z是介于0.05至0.25。
4.如权利要求1项的组成物，其中该R3是为C1-C12烷基。
5.如权利要求1项的组成物，其中该R3是为C4-C12环烷基。
6.如权利要求1项的组成物，其中该R3是为C1-C12烷基；且该R5是为C1-C12烷基。
7.如权利要求1项的组成物，其中该R3是为C4-C12环烷基；且该R5是为C4-C12环烷基。
8.如权利要求1项的组成物，其中该萘醌二叠氮基感光化合物是为1，2-萘醌二叠氮磺酸与具有羟基的多元酚反应而得的酯化物。
9.如权利要求1项的组成物，其中该萘醌二叠氮基感光化合物是为1，2-萘醌二叠氮磺酸与2，3，4-三羟二苯基酮、或双(4-羟基-2，5-二甲基苯)-3，4-二羟苯甲烷、或2，2’，4，4’-四羟二苯基酮反应而得的酯化物。
10.如权利要求1项的组成物，其中该有机溶剂是为醚族溶剂，该醚族溶剂是选自包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丙醚、乙二醇单正丁醚、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单正丙醚、二甘醇单正丁醚、三甘醇单甲醚、三甘醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单正丙醚、丙二醇单正丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单正丙醚、二丙二醇单正丁醚、二丙二醇单甲醚、三丙二醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇甲基乙醚、二甘醇二乙醚、或四氢呋喃。
11.如权利要求1项的组成物，其中该有机溶剂是为酮族溶剂，该酮族溶剂是选自包括甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮、或3-庚酮。
12.如权利要求1项的组成物，其中该有机溶剂是为酯族溶剂，该酯族溶剂是选自包括乙二醇单甲醚醋酸酯、乙二醇单乙醚醋酸酯、二甘醇单甲醚醋酸酯、二甘醇单乙醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、2-羟基丙酸甲酸、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羟基醋酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酸、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、甲酸正戌酸、醋酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯、或2-羟基丁酸乙酯。
13.如权利要求1项的组成物，其中该有机溶剂是为芳香族溶剂，该芳香族溶剂是选自包括甲苯、或二甲苯。
14.如权利要求1项的组成物，其中该有机溶剂是为醯胺族溶剂，该醯胺族溶剂是选自包括N-甲基口比咯烷酮、或N，N-二甲基甲醯胺N，N-二甲基乙醯胺。
15.如权利要求1项的组成物，其中更包括(D)添加剂，该添加剂是选自包括色素、染料、热聚合物抑制剂、增稠剂、防沫剂、增感剂及偶联剂。
16.如权利要求1项的组成物，其是做为在制造印刷电路板时，供涂敷在一铜箔基板上，乾燥使形成一覆膜，用活化能射线选择性的照射该覆膜的一部分后，并用弱硷性水溶液将该覆膜显影以去除受照射的部分，以形成蚀刻保护层膜。
全文摘要
本发明是有关于一种正型光阻性组成物，其大致包括(A)的共聚合物，其是为具有如下式(1)结构单元的共聚合物、或具有如下式(2)结构单元的共聚合物、或具有如下式(3)结构单元的共聚合物，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、U、V、X、Y及Z定义如说明书；(B)含萘醌二叠氮基感光化合物；以及(C)有机溶剂，其是选自包括醚族、酮族、酯族、芳香族或醯胺族溶剂。
文档编号G03F7/004GK1815367SQ20051000793
公开日2006年8月9日 申请日期2005年2月5日 优先权日2005年2月5日
发明者廖信铭, 陈昱名, 李晏成 申请人:明德国际仓储贸易(上海)有限公司