专利名称：面板蚀刻制程的方法及其装置的制作方法
技术领域：
本发明是有关一种面板蚀刻制程的方法及其装置，尤指一种可在蚀刻制程中改善蚀刻均匀度以及增进蚀刻效率的方法及装置。
背景技术：
按，湿式蚀刻技术是利用薄膜与特定溶液间所进行的化学反应来去除基底上的薄膜，以便在基底上形成所需的图案或是令该基底完成薄型化工程，此技术的优点是制程单纯、设备简单、成本低廉以及加工效率快。然如所知者，蚀刻是利用化学反应来进行薄膜的去除或薄型化工程，而化学反应本身并不具方向性，所以这种等向性的蚀刻特征导致其较难以精确操控在局部位置的蚀刻结果；另外，此种蚀刻方式由于受到蚀刻液本身黏稠度的影响，很难使整个表面均匀地蚀刻，导致有部分区域造成蚀刻不完全，而在其它区域则有底切(undercutting)的现象，严重影响产品良率；然而随着产品组件的尺寸越作越小，加工精度越来越高，蚀刻加工的均匀度也就更显重要了。
此外，近年来在消费性电子产品益趋于轻薄短小的趋势下，使这类产品的基本组件～～显示面板亦被要求必须符合轻薄的要件，而一般显示面板的轻薄化主要是由对其玻璃基板施行薄型化制程来达成目的；在众多已知的薄型化制程技术中最常被采用的就是蚀刻的方式，这主要是考虑到蚀刻的薄型化制程通常具有优良的加工效率，且制程中不易产生应力造成薄玻璃板的损害，然而如前所述，蚀刻加工过程的缺失也会衍生许多不良的结果，例如蚀刻不均匀导致玻璃板体各部厚薄不一(尤其应用于较大面积的玻璃基材时)，使玻璃板体的机械强度锐减而容易遭受损害，而蚀刻不均匀亦会产生表面粗糙的情况，影响到液晶显示组件的影像品质。
发明内容
本发明的目的主要是提供一种改良的面板蚀刻制程的方法及其装置，用以在面板上形成所需图案及/或用来进行面板的薄型化制程，其将面板以呈垂直矗立态样设置于一密封的工作槽中，并提供呈螺旋状喷洒的蚀刻液喷雾至该面板以进行蚀刻，由将蚀刻液雾化成螺旋状的喷雾气流，使蚀刻液可均匀地喷洒散布在整个欲蚀刻表面，据此促进蚀刻的均匀度，且利用连续地对蚀刻表面喷洒新鲜的蚀刻液喷雾，以增进蚀刻速率。
为实现上述目的，本发明提供的面板蚀刻制程的方法，可用以在面板上形成所需图案及/或用来进行面板的薄型化制程，其利用蚀刻溶剂与面板之间进行的化学反应来去除面板上所欲去除的材料，进行蚀刻制程的步骤包含将欲蚀刻加工的面板安装在一挟持装置上固定；该挟持装置使该面板的板体以呈垂直矗立态样设置于一密封的工作槽中；提供呈螺旋状喷洒的蚀刻液喷雾至该面板，进行蚀刻；以及完成蚀刻加工后将该挟持装置移出该工作槽，取出已完成加工的面板。
本发明提供的面板蚀刻制程的装置，可用以在面板上形成所需图案及/或用来进行面板的薄型化制程，其利用蚀刻溶剂与面板之间进行的化学反应来去除面板上的材料，该蚀刻制程的装置至少包含一工作槽，由一槽体及一槽盖所组成，该槽盖可自如地作升降位移，于与该槽体盖合后组合成一密闭容槽；一挟持装置，以垂直矗立态样枢接于前述槽盖下方，其具有至少一挟持单元可夹持固定一片或二片以上彼此平行并列设置的面板；以及一蚀刻液进给装置，具有一蚀刻液容纳单元及若干喷雾单元，该容纳单元可提供蚀刻液给该等喷雾单元，并收纳该工作槽底的残留蚀刻液，而该等喷雾单元被设置于该工作槽内且分别地面对于该等面板的欲蚀刻面，于该喷雾单元上设有复数个旋转喷嘴，可将蚀刻液以螺旋状喷雾喷出至该面板；利用该挟持装置将欲蚀刻的面板固持，然后并同该槽盖下降位移以封闭该工作槽，同时使该面板以略呈垂直矗立态样设置于工作槽中，再由该等喷雾单元将蚀刻液以螺旋状喷雾喷出至该面板以进行蚀刻，由将蚀刻液雾化成螺旋状的喷雾气流，而将蚀刻液均匀地喷洒散布在整个欲蚀刻表面，据此促进蚀刻均匀度，并提升蚀刻加工的效率。
所述的面板蚀刻制程的装置，其中，该挟持装置还可包含有复数组彼此呈平行并列设置的挟持单元。
所述的面板蚀刻制程的装置，其中，该挟持单元为一矩形框体，在该框体的一框缘上设有至少一组固定夹头，并在另一对应的框缘上设有至少一组活动夹头。
所述的面板蚀刻制程的装置，其中，于前述固定夹头与活动夹头的端部均设具一V形凹槽。
所述的面板蚀刻制程的装置，其中，该蚀刻液进给单元还包含一循环过滤器，可对自该工作槽中收取的蚀刻液进行过滤净化处理。
详细地说，根据本发明所提供的面板蚀刻制程的方法，其进行蚀刻制程的步骤系首先将欲蚀刻加工的面板安装在一挟持装置上固定；该挟持装置使该面板的板体以呈垂直矗立态样设置于一密封的工作槽中；提供呈螺旋状喷洒的蚀刻液喷雾至该面板，行蚀刻；以及于完成蚀刻加工后，将该挟持装置移出该工作槽并取出已完成加工的面板。
又，如果为了在该面板表面形成特定图形的目的，则可于前述蚀刻制程前，先对该面板进行光阻制程以设定其表面蚀刻图案。
又根据本发明，该面板蚀刻制程的装置至少包含一可密闭的工作槽，一可安装欲蚀刻面板的挟持装置，以及一蚀刻液进给单元；其中，该工作槽系由一槽体及一槽盖所组成，而该槽盖可自如地作升降位移，于与该槽体盖合后组合成一密闭容槽；而该挟持装置是以垂直矗立态样枢接于前述槽盖下方，其可夹持固定一片或二片以上彼此平行并列设置的面板；又该蚀刻液进给装置具一蚀刻液容纳单元及若干喷雾单元，该容纳单元可提供蚀刻液，例如是氢氟酸(HF)的稀释溶液，供给该等喷雾单元，并收纳该工作槽底的残留蚀刻液，而该等喷雾单元是被设置于该工作槽内且分别地面对于该等面板的欲蚀刻面，于该喷雾单元上设有复数个旋转喷嘴，可将蚀刻液以螺旋状喷雾喷出至该面板；利用该挟持装置将欲蚀刻的面板固持，然后并同该槽盖下降位移以封闭该工作槽，同时使该面板以略呈垂直矗立态样设置于工作槽中，再由该等喷雾单元将蚀刻液以螺旋状喷雾喷出至该面板以进行蚀刻，再于蚀刻加工完成后，该等喷雾单元停止喷雾运作，并使该槽盖并同该挟持装置作上升位移而移出该工作槽的槽体，以便在该挟持装置上更替安装面板。总此，该装置在蚀刻加工进程中，由将蚀刻液雾化成螺旋状的喷雾气流，而将蚀刻液均匀地喷洒散布在整个面板的欲蚀刻表面，以确保被蚀刻面各部位的蚀刻加工度均一，据此产制出具有精确图形、精密尺寸以及优良表面粗造度与平坦度的面板，并利用连续地对蚀刻表面喷洒新鲜的蚀刻液喷雾，让蚀刻残屑及废液可迅速从该表面分离，以增进蚀刻速率。
前述挟持装置的挟持单元可垂直地挟持固定一片或一片以上的面板，更进一步，为了在同一时间内进行较多片面板的蚀刻制程，则该挟持装置更可包含有复数组彼此呈平行并列设置的挟持单元。
此外，该蚀刻液进给单元亦可选择性的包含一循环过滤器，其可将自该工作槽中收取的蚀刻液进行过滤净化处理，据此将混杂在蚀刻液中的蚀刻残屑和尘粒滤除净化。
本发明并非局限于以上所述形式，很明显地，就熟习此项技术人员而言，在参考上述说明后，能有更多的改良与变化，是以，凡有在相同的创作精神下所作有关本发明的任何修饰或变更，皆仍应包括在本发明意图保护的范畴，并予陈明。而紧接于后将以一具体实施例继续说明，以进一步阐明本发明的创新特征。
图1所示为本发明的蚀刻装置的结构正面参考图及其运作示意；
图2为显示蚀刻装置的槽盖已升起的状态示意图；图3为该挟持单元的正面参考图；以及图4为图3的A部侧面剖视的放大图。
具体实施例方式
以下所列举的较佳实施例，是对液晶显示面板的玻璃基板进行薄化制程；如后述各附图所示，在机台上固设有一组工作槽1，该工作槽包含一槽体12及一槽盖13，于该槽盖上方枢接有一组升降机构14，由该升降机构使该槽盖13可在槽体12上方作升降位移，并使该槽盖13与该槽体12可于盖合后组合成一密闭容槽。
一挟持装置2是用以挟持固定欲蚀刻加工的面板5，其被枢合设置在前述槽盖13下方，因而于该槽盖13与槽体12盖合后，可使该挟持装置2及其所挟持的面板5以略呈垂直矗立态样设置于该密闭工作槽1中；而如图3、4所示，该夹持装置2的挟持单元2a系略呈一矩形框体，在其下方框缘21设有若干个固定夹头22，而上方框缘23则设有若干个活动夹头24，且该等活动夹头具有可调整长度的轴杆241，例如螺杆或弹簧杆，用以调整该活动夹头24的上下夹持位置，据此可将面板5挟持固定在该矩形框体的固定夹头与活动夹头之间；另外，于前述固定夹头22与活动夹头24的端部均设具一V形凹槽25，由该凹槽套接该面板5的边缘，使被挟持的面板能自动导正对位，同时增加挟持后的稳固性。
又从附图中显示，本蚀刻装置设有一组蚀刻液进给装置3包含一蚀刻液容纳单元31及至少一对的喷雾单元32；其中，该蚀刻液容纳单元31是用以供给及收存在蚀刻制程中所需的蚀刻溶液，而该蚀刻溶液，例如在本实施例中以对玻璃材质的基板进行蚀刻制程为例，是采用氢氟酸(HF)浓度大于5％以上；另，该蚀刻液容纳单元31设有输出导管314可提供蚀刻液至该等喷雾单元32，且其亦具一连通于前述工作槽1底部的输入导管312，可收纳在蚀刻制程中该工作槽底所残留的蚀刻液，最好，于该输入导管312还串接一过滤净化器313，可将自该工作槽底流入的蚀刻液进行过滤净化处理，以便使混杂在蚀刻液中的蚀刻残屑和尘粒滤除；而该等喷雾单元32被设置于该工作槽1之内，并使其分别地面对于该等面板5的欲蚀刻表面；又，于该等喷雾单元32上均设有复数个可自动旋转的雾化喷嘴321，可将蚀刻液以螺旋状气雾喷出至该面板上进行蚀刻。
如前述组件组成的蚀刻装置于运作时，该挟持装置2先将欲蚀刻的面板5挟持固定该挟持单元2a上，然后藉由该升降机构14使该槽盖13并同该挟持装置2下降位移，使该槽盖13封闭该槽体12，并使该挟持装置2及其所挟持的面板5以略呈垂直矗立态样设置于该密闭工作槽1中，再由该等喷雾单元32将蚀刻液喷洒到该面板上进行蚀刻，由将蚀刻液雾化成螺旋状的喷雾气流，使蚀刻液可均匀地喷洒散布在整个欲蚀刻表面，据此促进蚀刻的均匀度，并利用连续地对蚀刻表面喷洒新鲜的蚀刻液喷雾，以增进蚀刻速率。随后于蚀刻加工完成后，该等喷雾单元32停止喷雾运作，而该升降机构14使该槽盖13并同该挟持装置2作上升位移，使该挟持装置2移出该工作槽的槽体12，以便在该挟持装置上更替安装面板。
权利要求
1.一种面板蚀刻制程的方法，可用以在面板上形成所需图案及/或用来进行面板的薄型化制程，其利用蚀刻溶剂与面板之间进行的化学反应来去除面板上所欲去除的材料，进行蚀刻制程的步骤包含将欲蚀刻加工的面板安装在一挟持装置上固定；该挟持装置使该面板的板体以呈垂直矗立态样设置于一密封的工作槽中；提供呈螺旋状喷洒的蚀刻液喷雾至该面板，进行蚀刻；以及完成蚀刻加工后将该挟持装置移出该工作槽，取出已完成加工的面板。
2.一种面板蚀刻制程的装置，可用以在面板上形成所需图案及/或用来进行面板的薄型化制程，其利用蚀刻溶剂与面板之间进行的化学反应来去除面板上的材料，该蚀刻制程的装置至少包含一工作槽，由一槽体及一槽盖所组成，该槽盖可自如地作升降位移，于与该槽体盖合后组合成一密闭容槽；一挟持装置，以垂直矗立态样枢接于前述槽盖下方，其具有至少一挟持单元可夹持固定一片或二片以上彼此平行并列设置的面板；以及一蚀刻液进给装置，具有一蚀刻液容纳单元及若干喷雾单元，该容纳单元可提供蚀刻液给该等喷雾单元，并收纳该工作槽底的残留蚀刻液，而该等喷雾单元被设置于该工作槽内且分别地面对于该等面板的欲蚀刻面，于该喷雾单元上设有复数个旋转喷嘴，可将蚀刻液以螺旋状喷雾喷出至该面板；利用该挟持装置将欲蚀刻的面板固持，然后并同该槽盖下降位移以封闭该工作槽，同时使该面板以略呈垂直矗立态样设置于工作槽中，再由该等喷雾单元将蚀刻液以螺旋状喷雾喷出至该面板以进行蚀刻，由将蚀刻液雾化成螺旋状的喷雾气流，而将蚀刻液均匀地喷洒散布在整个欲蚀刻表面，据此促进蚀刻均匀度，并提升蚀刻加工的效率。
3.如权利要求2所述的面板蚀刻制程的装置，其中，该挟持装置还可包含有复数组彼此呈平行并列设置的挟持单元。
4.如权利要求2或3所述的面板蚀刻制程的装置，其中，该挟持单元为一矩形框体，在该框体的一框缘上设有至少一组固定夹头，并在另一对应的框缘上设有至少一组活动夹头。
5.如权利要求4所述的面板蚀刻制程的装置，其中，于前述固定夹头与活动夹头的端部均设具一V形凹槽。
6.如权利要求2所述的面板蚀刻制程的装置，其中，该蚀刻液进给单元还包含一循环过滤器，可对自该工作槽中收取的蚀刻液进行过滤净化处理。
全文摘要
一种面板蚀刻制程的方法及其装置，将面板以呈垂直矗立态样设置于一密封的工作槽中，然后提供呈螺旋状喷洒的蚀刻液喷雾至该面板上进行蚀刻，由将蚀刻液雾化成螺旋状的喷雾气流，使蚀刻液可均匀地喷洒散布在整个欲蚀刻表面，据此促进蚀刻的均匀度，且利用连续地对蚀刻表面喷洒新鲜的蚀刻液喷雾，以增进蚀刻速率。
文档编号G02F1/13GK101051604SQ20061007266
公开日2007年10月10日 申请日期2006年4月7日 优先权日2006年4月7日
发明者陈春夏 申请人:悦城科技股份有限公司