专利名称：具缓冲作用的光扩散反射片的制作方法
技术领域：
本发明有关于一种光反射片，尤其有关于一种用于背光模块的光反射片，其主要可避免背光模块中的V-cut导光板与光反射片的接触所造成彼此的损坏。
背景技术：
习知V-cut设计的背光模块，如图1所示，其具有光反射片1、V-cut导光板2、反射灯罩3、冷阴极管4，其中V-cut导光板2的背面设置V型结构(V-groove)，此V型结构的尖端与光反射片1接触。由于V-cut导光板2材质一般为压克力(PMMA)经射出方式成形，在成形冷却的过程中，无法避免其内部亦产生内部应力，随时间及环境温湿度而产生些微翘曲或变形，而光反射片1材质一般为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)，且表面无任何加工，与V-cut导光板2的V型结构接触时，V型结构的尖端极易造成光反射片1表面刮伤，又由于V-cut导光板2的内应力变形，使其在结构上极易与光反射片1产生极大应力，而使V-cut导光板2的V型结构的尖端变形或损坏。
发明内容本发明的主要目的是提供一种光反射片，其表面具有一缓冲层，藉由缓冲层的缓冲作用，使光反射片与其它光学组件例如V-cut导光板接触时，光反射片表面不致被刮伤或损坏。
本发明的第二目的在于藉由缓冲层的缓冲作用，防止其它光学组件例如V-cut导光板与光反射片接触而造成该光学组件结构变形或损毁。
本发明的第三目的是提供一种具缓冲作用的光扩散反射片，可以避免光扩散反射片与其它光学组件例如V-cut导光板接触时造成彼此的损坏。
依本发明的一种光反射片，其特征在于其包含一透明基片；一透明缓冲层，形成于透明基片的一表面上；以及一反射层，形成于透明基片该表面的相对表面上，藉此，当光反射片经由透明缓冲层与其它光学组件接触时，透明缓冲层可形成缓冲作用，以避免该接触造成光反射片或其它光学组件的损坏。
依本发明的另一种光扩散反射片，其包括前述的光反射片，并具有一形成于透明基片与透明缓冲层之间的扩散层，藉此，当光线从透明缓冲层进入光扩散反射片后，光线可经由反射层的反射且经由扩散层的扩散而离开光扩散反射片。
本发明的光扩散反射片，主要是可避免背光模块中的V-cut导光板与光反射片的接触造成彼此的损坏。
图1是习知V-cut背光模块的示意剖面图。
图2是本发明的一实施例的光反射片的示意剖面图以及相关的V-cut导光板的示意剖面图。
图3是图2的光反射片与V-cut导光板的V型结构接触的示意剖面图。
图4是本发明的一实施例的光扩散反射片的示意剖面图以及相关的V-cut导光板的示意剖面图。
具体实施方式
为了让本发明的上述的目的、功能特征、和优点能更明确被了解，下文将本发明以较佳的实例，并配合所附图式，作详细说明如下，其虽以V-cut导光板配合本发明的光扩散反射片实施例来说明，但本发明的光扩散反射片可配合其它光学组件使用，不受该等实施例的限制。
请参照图2，依据本发明的一实施例的光反射片5具有透明基片11、反射层13、抗氧化层14、遮蔽反射层15及透明缓冲层16，其中透明基片11具有上表面11a及下表面11b，反射层13设置于下表面11b上，透明缓冲层16设置于上表面11a上，当光线从透明缓冲层16进入光反射片5后，光线可经由反射层13的反射而离开光反射片5，而穿透反射层13的光线可经由遮蔽反射层15的遮蔽及反射而离开光反射片5。
当光反射片5经由透明缓冲层16与其它光学组件例如V-cut导光板2接触时，如图3所示，透明缓冲层16与V-cut导光板2的V型结构21形成紧密接触，因此藉由透明缓冲层16的缓冲作用，使光反射片5与V-cut导光板2的接触不致造成彼此的损坏。
透明基片11的材料较佳为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)或其组合，厚度可为12微米(μm)至250微米，做为光反射片5的主要支撑结构。
反射层13的材料可为白色不透明的树脂膜，其较佳为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、三乙酸纤维素(TAC)、聚萘甲酸乙二酯(PEN)、聚丙二酯、聚酰亚胺、聚醚、聚碳酸酯、聚胺、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇或其组合，其可以涂布方式形成，厚度可为7至20微米。
反射层13的材料亦可为银、汞、铝或其组合，以形成具指向性反射层，其可以物理溅镀/蒸镀技术或以化学溅镀/蒸镀方式形成，厚度可约为500埃()至2000埃，可使光线于其表面产生镜面反射，使得正面发光区域的亮度大幅提升，而特别适于配合V-cut背光模块使用。
抗氧化层14的材料可为环氧树酯、三聚氰氨树脂(Melami)、聚胺基甲基酯(PU)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯酯酸乙烯酯共聚物(EVA)、聚乙烯醇(PVA)或其组合，其可由涂布方式形成，厚度约为1微米至5微米，可杜绝反射层13发生氧化现象。
遮蔽反射层15的材料较佳为热可塑性高分子树脂、紫外线(UV)固化的高分子树脂或其组合，可由涂布方式形成，厚度可为5微米至20微米，可提供穿透反射层13的光线的遮蔽及反射，使穿透的光线能完全被反射回原始光通路利用。
透明缓冲层16的材料较佳为硅胶(silicone)、环氧树酯、聚胺基甲基酯(PU)、聚氨酯、聚乳酸(PLA)或其组合，可由涂布方式形成，厚度可为3微米至25微米，于图3所示与V-cut导光板2的V型结构21形成接触的情况，透明缓冲层16的厚度较佳约为V型结构21高度的1/3至1/2，例如若V型结构21高度为14微米，则透明缓冲层16的厚度较佳约为4至7微米。
请参照图4，依据本发明的一实施例的光扩散反射片6，除具有图2实施例的结构外，于基片上表面11a与透明缓冲层16间另设置扩散层17，当光线从透明缓冲层16进入光扩散反射片6后，光线可经由反射层13的反射且经由扩散层17的扩散而离开光扩散反射片6，且穿透反射层13的光线经由遮蔽反射层15的遮蔽及反射且经由扩散层17的扩散而离开光扩散反射片6，此种结构可使反射光中的扩散反射与反射层反射的光线比例得以控制，并可视实际需要来改变其比例。
扩散层17具有不同折射率的扩散粒子17a及粘着物17b，扩散粒子17a可使光线通过时产生一定程度的扩散，粘着物17b用以将扩散粒子固着至基片上表面11a上。扩散层17可由涂布方式形成，厚度可为5微米至80微米，较佳为5微米至20微米。
扩散粒子17a包含有机扩散粒子、无机扩散粒子或其组合，有机扩散粒子的材料较佳为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚氯乙烯(PVC)、硅胶(silicon)、聚胺基甲基酯(PU-polyurethane)、聚苯乙烯(PS-polystyrene)或其组合，无机扩散粒子的材料较佳为氧化硅(SiO2)、三氧化二铝(Al2O3)或其组合，扩散粒子17a的尺寸可为1微米至50微米，扩散粒子17a的体积可占扩散层17总体积的0％至90％，较佳占5％至40％。粘着物17b的材料较佳为热可塑性高分子树脂、紫外线(UV)固化的高分子树脂或其组合。
一光反射片样品由透明缓冲层(硅胶，厚度约5微米)、指向性反射层(银金属，厚度约1200埃())、抗氧化层(环氧树脂，厚度约3微米)、遮蔽反射层(白色PMMA，厚度约6微米)及透明基片(PET，厚度约38微米)所构成，其物性如下列表1所示
表1
于表1中可见测定出的该光反射片的总厚度为52微米，基材厚度则为38微米，于550奈米黄光下的反射率可为94％并以UL94 VTM-2测定出该光反射片是具耐燃性。表1所示由ASTM D1204于150℃的温度下持续30分钟的条件下测得为1.1％机械方向(MD)的加热收缩率以及0.1％垂直方向(TD)的加热收缩率，机械方向与垂直方向的张力由ASTM D882测得，各为23.2及25.5Kg/mm2，机械方向与垂直方向的伸长率由ASTM D882(JIS 2151)测得，各为191及174％，而表面电阻的测定方法为JIS K 6911，其测定值为大于或等于1012Ω。
该实例的光反射片配合V型结构高度为14微米且间距(pitch)为50微米的V-cut导光板于一背光模块中进行振动测试，其测试条件及结果显示于下表2表2
此测试结果指出，依据本发明的具缓冲作用的光扩散反射片，确实可达成与其它光学组件例如V-cut导光板接触时，避免造成彼此的损坏。
虽然本发明已利用上述的较佳的实例详细揭示，然其并非用以限定本发明，凡熟习此一发明者，依据本发明所作的各种更动及修改，仍应属于本发明的保护范围。
主要组件符号说明1 光反射片2 V-cut导光板3 反射灯罩4 冷阴极管5 光反射片6 光扩散反射片11 透明基片11a 基片上表面11b 基片下表面13 反射层14 抗氧化层15 遮蔽反射层16 透明缓冲层17 扩散层17a 扩散粒子17b 粘着物
权利要求
1.一种光反射片，其特征在于其包含一透明基片；一透明缓冲层，形成于透明基片的一表面上；以及一反射层，形成于透明基片该表面的相对表面上，藉此，当光反射片经由透明缓冲层与其它光学组件接触时，透明缓冲层可形成缓冲作用，以避免该接触造成光反射片或其它光学组件的损坏。
2.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于该透明基片的材料是选自聚对苯二甲酸乙二酯及聚碳酸酯的族群。
3.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于该透明基片的厚度为12微米至250微米。
4.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于该透明缓冲层的材料是选自硅胶、环氧树酯、聚胺基甲基酯、聚氨酯、聚乳酸的族群。
5.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于该透明缓冲层的厚度为3微米至25微米。
6.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于该反射层是具指向性反射层。
7.如权利要求6所述的光反射片，其特征在于该具指向性反射层的材料是选自银、汞及铝的族群。
8.如权利要求6所述的光反射片，其特征在于该具指向性反射层的厚度为500埃至2000埃。
9.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于该反射层的材料是选自聚对苯二甲酸乙二酯、三乙酸纤维素、聚萘甲酸乙二酯、聚丙二酯、聚酰亚胺、聚醚、聚碳酸酯、聚胺、聚乙烯、聚丙烯及聚乙烯醇的族群。
10.如权利要求9所述的光反射片，其特征在于该反射层的厚度为7微米至20微米。
11.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于一具有V型结构的V-cut导光板与透明缓冲层接触。
12.如权利要求11所述的光反射片，其特征在于该透明缓冲层的厚度为V型结构高度的1/3至1/2。
13.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于另包含一抗氧化层，形成于反射层面向透明基片的相对表面上。
14.如权利要求13所述的光反射片，其特征在于该抗氧化层的材料是选自环氧树酯、三聚氰氨树脂、聚胺基甲基酯、聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯酯酸乙烯酯共聚物及聚乙烯醇的族群。
15.如权利要求13所述的光反射片，其特征在于该抗氧化层的厚度为1微米至5微米。
16.如权利要求1所述的光反射片，其特征在于另包含一遮蔽反射层，形成于反射层面向透明基片的相对表面上，使得穿透反射层的光线可经由遮蔽反射层的遮蔽及反射而离开光扩散反射片。
17.如权利要求13所述的光反射片，其特征在于另包含一遮蔽反射层，形成于抗氧化层面向反射层的相对表面上，使得穿透反射层的光线可经由遮蔽反射层的遮蔽及反射而离开光扩散反射片。
18.如权利要求16或17所述的光反射片，其特征在于该遮蔽反射层的材料是选自热可塑性高分子树脂及紫外线固化的高分子树脂的族群。
19.如权利要求16或17所述的光反射片，其特征在于该遮蔽反射层的厚度为5微米至20微米。
20.一种光扩散反射片，其特征在于其包括如权利要求1至19的任一项所述的光反射片，并具有一形成于透明基片与透明缓冲层之间的扩散层，藉此，当光线从透明缓冲层进入光扩散反射片后，光线可经由反射层的反射且经由扩散层的扩散而离开光扩散反射片。
21.如权利要求20所述的光扩散反射片，其特征在于该扩散层包括扩散粒子及粘着物，该粘着物将扩散粒子固着至透明基片该相对表面上。
22.如权利要求21所述的光扩散反射片，其特征在于该扩散粒子包括有机扩散粒子或无机扩散粒子。
23.如权利要求22所述的光扩散反射片，其特征在于该有机扩散粒子的材料是选自聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、硅胶、聚胺基甲基酯及聚苯乙烯的族群。
24.如权利要求22所述的光扩散反射片，其特征在于该无机扩散粒子的材料是选自氧化硅及三氧化二铝的族群。
25.如权利要求21所述的光扩散反射片，其特征在于该扩散粒子的尺寸为1微米至50微米。
26.如权利要求21所述的光扩散反射片，其特征在于该扩散粒子的体积占扩散层总体积的0％至90％。
27.如权利要求21所述的光扩散反射片，其特征在于该扩散粒子的体积占扩散层总体积的5％至40％。
28.如权利要求21所述的光扩散反射片，其特征在于该粘着物的材料是选自热可塑性高分子树脂及紫外线固化的高分子树脂的族群。
29.如权利要求20所述的光扩散反射片，其特征在于该扩散层的厚度为5微米至80微米。
30.如权利要求20所述的光扩散反射片，其特征在于该扩散层的厚度为5微米至20微米。
全文摘要
一种具缓冲作用的光扩散反射片，具有一透明基片、形成于透明基片的一表面上的透明缓冲层、以及形成于透明基片该表面的相对表面上的一反射层，藉此，当光反射片经由透明缓冲层与其它光学组件接触时，透明缓冲层可形成缓冲作用，以避免该接触造成光反射片或其它光学组件的损坏。
文档编号G02B1/04GK101055326SQ20061007357
公开日2007年10月17日 申请日期2006年4月10日 优先权日2006年4月10日
发明者廖启文, 曾杞良, 马景泉 申请人:宣茂科技股份有限公司