光散射盘、其用途以及波阵面测量设备的制作方法

专利名称：光散射盘、其用途以及波阵面测量设备的制作方法
光散射盘、其用途以及波阵面测量设备本发明涉及一种光娜盘，包括透明基底和与基底表面邻接的光娜 层，所述光Mt层包括光t^t活',粒，还涉及该种娜盘的用途以及包括该TO"盘的波阵面测量设备。本申请要求US临时申请号60/684977的优 先权，该申请公开的内M此全部引入作为参考。光散射盘通常被认为是由透明固体材料制成的一面或两面均是粗糙的 平面盘或一定皿的表面。它们起到例如磨砂玻璃盘以在屏幕上产生真实 图像的作用。由于散射盘的,作用，可从不同的视角观，影的图像。 在照明技术中，磨砂玻璃盘起到使物体的照明均匀的作用。在光学计量学 中，,盘还起到相混合器(phase mixer)作用以破坏空间相干性。尤其 在干涉仪测量设备中，这种散射盘元件还可进行额外的旋转和/或摆动运动 以改变以及混^^王纹的相，使得它们最终平均为零，与相关的探测器的曝 光时间相反，并因而不再干扰测量信号，参见例如公开专利申请DE 103 20 520 Al以及其中指定的现有iW。在现在的情况中，出于简洁的目的，术语"光散射盘"不仅仅包括单 纯的光,类型的，其中在M1"过程中不改鄉射的频率或波长，还包括 荧光 频类型的，即其中入射光被光t^t活1ffi粒吸收并以不同的频 率或波长均匀地发出。这类散射盘还可称为量子转换器型(quantum coiwertertype)。这种变频散射盘还可用来例如将成像辐射从不可视的波长范围转换至可视的波长范围或转换至可M:常规的探测器例如CCD摄像丰腿于检测的波长范围。为了实现变频舰盘，在透明固体基底上具有一 由量子转换材料制成的变频表面涂层；執崃说，具有P43涂层的石英基 底将UV光转换成縁色光，或者基底本身包括这种材料，这些材料中常规 地是,的玻璃材料、铈掺杂石英材料和Lumilas。在想要实现变频和产生高质量的二次图像的应用中，也就是说具有很 小的损失(washing out)，必须尽可能地在一个尽可能薄的层上实现转换步 骤。在JOTUV、 DUV或VUY辐射的应用中，,U来说出于这个目的需使用石英板形式的,盘，其中石英板上具有若干微米厚的P43材料层。 这种^M微镜下可视的变频光t^层通常包括沉积在相应基底表面上的变 频材料的晶粒或粉末颗粒的堆积物。这些颗粒本身不与旨面积的基底表 面相接触，而是具有相对较小的接触面积，因此保留了相邻颗粒之间的间 隙，其中环境介质(通常为空气)而不是变频材料直接与基底表面相邻接。 这意味着相对于基敏光散射层界面的光学性能来说全反射角度的变化是 可在显微镜下可视的。换句话说，穿^S底入射到缝隙区域中的界面也就 是基敏空气界面区#的辐射被认为是界面上的全皿，如果入射角大于 全反射的相关角的话将不会至哒光娜活性颗粒上。在这种情况中，词语 全反射角应理解为指的是简纟訪式表达的全础的临界角。因此，这种常 规的t^盘仅仅适于孔径小于基敏空气界面的全反射角的应用。近来，具有例如大于0.9駄于1.0的非常高数值孔径的投,镜舰 越多地用于显微光刻技术中用来在半导体晶片上形成图案，例如将所谓浸 没,(immersion objective)与具有例如仅仅是若干nm的日益变小的波 长的UV辐射组合使用的形式。需要测量设备，例如能处理相对^:入射 角的这种大孔径待检样品的波阵面测量类型的来确定这种大 L径物镜的成 《象色差或成4象质量。因此，本发明要解决的技术问题是要提供一种在介绍中蹈啲类型的 光学TO盘，以及其用途和配备有这种舰盘的波阵面测量设备，该波阵 面观懂设备甚至适用于相当大孔径以及尤其适用于显微光亥啦术中大孔径 浸没物镜的测量。本发明通过皿一种包括权利要求1所述特征的光学散射盘、包括权 利要求11所述特征的用途、包括权利要求12所述特征的波阵面测量设备 以及包括权利要求19所述特征的显微光刻,曝光设备，决了这些技 术问题。在依据本发明的光学散射盘的情况中，光散射层的光f(M活性颗粒被 包埋介质(embedding medium)所围绕，包埋介质具有较空气更强的光学 增稠作用并与基底的衬面(facing surface)以表面方式(areally)相邻接。因 此，包埋介质填满了基底与界面上的光散射活性颗粒之间的任意缝隙，并 确保全反射角相较于基敏空气界面的更大，或者如果包埋介质具有与基底 材料相等或更大的折射率时全反射效应将完全消失。这样的话，由于在依据本发明的光学娜盘的情况中消除了全础效 应或者在任何情况中和基敏空气缝隙区域相比仅仅在更高的入射角上出 现全目効应，与其中空气构成围绕光散射活'M粒的介质的常规光学散 射盘相比，可能^ffi这种光学散射盘的面积将在允许的更高的入射角上扩展。因此，依据本发明的光学娜盘可尤其用于确定大孔^M微光亥般影 物镜例如浸没物镜类的成像色差的观懂设备中。在本发明的一种 中，包埋介质的折射率达到基底折射率的至少接近80%或甚至至少接近90%，更具体地，其还可大于或等于后者。另外或 者作为替换地，包埋介质的折射率可保持得比光鹏活',粒的折射率小。最后这种情况只排除了包埋介质和^h^娜活',粒之间的界面上的全在本发明的另一种改进中，光散射活性颗粒包括颗粒材料，如果需要 的话，粒材料具有单纯的散射、而不发生变频的特性或量子转换特性。在本发明的另一种改迸中，包埋介质是液体材料或固体材料，其中颗 粒被包埋在其中。在液体包埋介质的情况中，颗粒可能以悬浮或溶解在其 中，或者它们可形成固体和/鄉干的和/或多孔复合物，而液條周围流动。 在所有情况中，包埋介质以期望的方式填满了界面上的光散射活'ra粒与 基底之间的任意缝隙区域。在本发明的另一种改进中，如此选定包埋介质，这种材料将使得其折 射率将导致在基齢包埋介质界面上获得想要的全反射角。包埋介质可以是例如M粘附固定在基底上的液体，因此可以减少一 个盛放包埋介质的容器。作为可选方案，液体包埋介质是被密封的，也就是说需要一个适当的容器来容纳。在最后提到的情况中，包埋介质可以静态的或流动的形态存在于空腔内。在本发明的另一种改进中，颗粒以松散的、可移动的的形式位于包埋 介质中。作为可选地，它们还可以被束缚的形式附着在颗粒载体基底上。在颗粒是松散、可移动的情况中，在本发明的一种有利的改进中，具 有一种用来移动颗粒的装置。光tm活',粒的运动可增大Mt辐射的均 匀性。为了实现这种颗粒的运动，该装置可包括使液体包埋介质流动的部件；禾口域j顿粒本身活性运动，也就是相对于液体包埋介质来说的运动的部件；禾口/或使包埋介质中嫩卜的辅助颗粒活性运动的部件。在第一种情况 中，光iClt活1^粒夹带在流动包埋材料中。在第二种情况中，體^顿 粒本身产生原动力，对于包埋介质来说还可能保，态或者包埋介质产生 同样的移动。在最后提到盼瞎况中，为了使光散射活',^iSA包埋介质 这个目的，光舰活',粒的运动被移动的辅助颗粒所激发。辅助颗粒可 以是， 咏说，由特别设计来使移动激活装置以相对直接的方式施加原 动力的材料制成的颗粒-辅助颗粒可以任意地根据需要选择它们的麟和 尺寸。依据本发明的干涉测量技术的波阵面测量设备，借助于该^S可M: 横向切变干涉仪测量观懂離，例如，在衍射光栅和检测元件之间^顿依 据本发明的tm盘。在这种情况中，衍射光栅可位于散射盘基底的表面上 与光tm层相对，或者位于它本身的与,盘基底相邻接的光栅基底上。波阵面测量设备可例如被设计成点衍射干涉仪或Shack-Hartmann传感器。 更具体地，试样可以是显微光刻，物镜。在本发明的一种改进中，浸没介质位于衍射光栅和试样之间，可被测 量设备处理的试样的最大数值孔径将可进一步增大。在波阵面测量设备的另一种改进中，光舰层与探测器元件紧密接触 (touching contact)。因此，对于娜盘发出的辐射特'賊说不需要考虑任何其itkli入光学介质。itM卜，如果后者选择了液体的话，相关的t^盘侧 的探测器元件起到作为包埋介质的边缘的作用。在本发明可选的改进中，光舰层mt粘附固定在舰盘基底的探测器一侦啲表面上，在其相对表面上具有衍射光栅。随后，被B离光散射层一定距离，例如在检测成像光盘的中间位置上體探测器元件。在本发明的显微光刻技术的投影曝光设备中，本发明的光学tm盘至少以给定时间间隔设置在投影物镜的辐射输出端上，其中投影物镜可以是—个具有大 L径的，例如0.9或更高的，和/或设计用来与浸没介质 浸没液体一起工作的投影物镜。以下附图中示出并描述了本发明的优选的实施例。附图是

图1示出了tm盘装置的横截面示意图，该装置包括具有光散射活性颗粒的光1^层和具有较空气更大的折射率并围^^ 粒的包埋介质；图2示出了波阵面测量设备的探测器一侧的部分的，繊面视图，该设 純括像图1那样的Mt盘縫，其光,层与探测器元件紧密接触；图3示出了波阵面测量设备的探测器一侧的部分的横截面视图，该设 备包括像图1那样的娜盘装置，其光舰层S31粘附固定被巨离探测器 元件一定距离的相结合的衍射光栅/鹏盘基底上；以及图4示出了具有液体包埋介质和颗丰媳动装置的光Mt层的，纖面示意图。图1示出的Wt盘装置包括由透明材料形成的基底1和与主侧上的所 述基底相邻接的具有光MJ^活',粒3的光M[层2，为了图解的目的这 些均以放大的尺寸进行示出。光Mt活'M粒3被光Mt层2的包埋介质 4所包围，也就是说，其包埋在所述包埋介质中。包埋介质4可以是较空 气更为光学密集的气体、液体或固体介质。在示出的实施例中，将具有与 基底1的材料的折射率的量级相近似的折射率的材料选定为包埋介质4。包埋介质4填满了光散lt活'M粒3之间的所有空隙，并因而与基底 1表面地相邻接，无论如何在基底1和单个颗粒3之间没有接触，并且考 虑到它们通常为圆形的细小晶粒的形状，其邻接在基底1对面，与其具有 非常小的接触面积。因此确保了穿过基底1的任何辐射均独立于入射角， 无需考虑基/^^光目层界面5上的全反射角。图l中示出了三个4樣性光束6a、 6b、 6c。部鄉射直接入射到基敏 光 层界面5的光舰活ra粒上，在图1的实施例1中例如是光束6a。 随后该辐射部分直接进入各mm颗粒中而没有其他明显损失，随后被 所娜粒tm，并且取决于材料还可被变频。在相应的实施例中，光Mt 活'M粒3的折射率的量级与基底材料的相类似或更大，因此没有发生可 感知的全g效应。无论如何，后者都不会比在相应的常规散射盘的情况 更高，即J顿粒3包括具有比基/^才料更小的折射率的材料。在基敏光散 射层界面5上，可感知的辐射部分不会直接入射到光散lt活M粒上，而 ^A射在包埋介质4上。在垂IA射盼瞎况中，图1中的光束6a不发生全 反射，辐射穿过尽可能长的范围琉减地迸入光TO层2中，直到其入射 到其中的光Mt活',粒上并被所，粒散射，在附图以及其他两个光束 例子中用相应的箭头示出了颗粒的Mt特性。如果需要的话，可通过常规的方式借助所述界面5上的防反lt凃层使基敏光tm层界面5上的反射最 小化。在特性上，由于包埋介质4和基底1之间的折射率的一致性，以相当 大的入射角入射到基敏光tm层界面5没有被光,活'M粒占据的地方 上的辐射也没有任何全g损失iWv光f^层2中，并且在所述的光散 射层中，它依次入射在光散射活',粒3上并被后者散射，这种情况可参 见光束6c。即使在特定的实施例中，包埋介质4的折射率小于基底1的折 射率，但它无论如何都将比空气的要大，因此，与常规的不具有这种较空 气更为光学密集的包埋介质的散射盘不同的是，以在全目的基敏空气角 度和全反射的基敏包埋介质角度之间范围的角度入射的辐射部分也将组 ^SA光Mt层2中。原则上，所有具有比空气更大折射率的材料都适用做包埋介质4，所 述材料应^t入射辐射以及散射、发出或如果合适的话变频辐射来说均为 尽可肖隨明的。在固体包埋介质4的情况中，颗粒3被固定，也就是说它 们是被浇铸在其中的。对于很多应用来说，更适于选择液体包埋介质4， 可根据其折射率与想要的应用所需要的全反射角相适应 择包埋介质。
抹说，如果包括UV或DUV辐射的话，适当的液体是Fomlin或水。在辐射是其他波长的情况中，例如可在浸没法显微术中用作浸没介质的油 可用于包埋介质4。如果需要的话，包埋介质4还可设计来填充滤波器，起到作为穿过光 ]"层2的辐射的角频谱的作用，也就是说以指标的方，定基底1和光 较不密集的包埋介质4之间的折射率的差别，使得仅仅是以至多高达全反射的相应角的角MA射在光tm层2的辐射以期望的方式组^m光t^t层2中。对于光MI"活'M粒3来说，可以使用所有的常规材料，尤其是那些 具有单纯的Mt特性而没有变频特性的，例如玻璃或石娜粒材料，以及 那些具有荧光、量子转^^寺性的材料，诸如P43材料、相应地掺杂了的玻 璃材料、 了铈的石英材料、Lumilas材料等。根据需要以及如果需要的话，颗粒3可以是透明的和/或具有反射特性 的材料。同样地，可根据用途任选颗粒3的尺寸和形状。因而，颗粒3可以是例如基本上是相同尺寸的以及具有相同的几何结构，的，或者可选 地可根据特性的不同而不同，例如更精细和/或更粗糙的晶粒，具有更平滑 ^粗糙表面的微粒，更圆或更棱角化的晶粒等。颗粒可以分离地存在或成团的形式存在，并且假如使用了液体包埋介质4的话还可松TO或被束 缚的形式存在，也就是说是可自由移动的方式鄉占附在颗粒载体基底或位 于颗粒载体结构中或其上的。对于基底1来说，在任何情况中在面对入射 方面Hi上包埋介质4必须无间断地包埋和湿润颗粒3 。当选定液体包埋介质4时，可fflM粘附将相应实施例中的该种介质与 颗粒3以^^h光Mt层2单独地固定在基底1上。可iiitk，液体包埋介 质4还可以是被密封的，例如j柳容器或引入一个缝隙。在图l的实施例 中示出了后者，在光舰层2远离基底1的那一侧上被设置在光束路径下 游的透明组件7划定了界线，所述组件可以是任意需要的，例如在各种应 用中位于该位置上的光学组件。不用说的是，如果需要的话，在液体包埋 介质4的情况中，后者还可以适宜的方式在光舰层2的剩余侧面上被划 定界线，如果必须的话。液体包埋介质4可根据需求保持为静态的方式或 进行流动，例如奔流(flushed)。如果包埋介质4是流动的以鹏粒3以自 由移动的方式位于包埋介质4中，那么颗粒3将可被包埋介质4的流动所 夹带，因而使光散射层2获得暂时改变的，特性，这将导致出现与常规 散射盘的机械运动相同的效果。依据本发明的散射盘由于其降低了或基本消除了基脇光散射层界面 上的全反射效应，因此可用于,泛的应用中。更具体地，它可用于任何 情况中的至今使用过的常规散射盘中，甚至它还可用于将要被散射的辐射 以较大的入射角入射到散射盘上的应用中。这些应用的一个重要领域是大 孔径光学系统的测量，诸如显微光刻技术的投影曝光设备的大孔径投影物 镜。图2和3示出了这种情况的两个示范性实施例。更准确地是，图2和3示出了在使用了横向切变干涉仪的单个波阵面 测量设备中的探测器一侧部分。至于其他，单个设备是常规的结构，因此 未示出细节。在图2和3中，示出的待检i，是在所有清况中的大 L径浸 没物镜8，其可用于例如扫描器或步进类型的使用短波UV辐射在半导体 晶片上形成图案的显微光刻投影曝光设备中。图2仅仅示出了包括透镜8a和平面终端元件8b的物镜8的出射部分。其后是测量设备的探测器一侧或 成像一侧，其包括以本身已知的方式存在的位于或接近物镜8的像平面上 的衍射光栅9和位于其后较小距离位置上的辐射敏感探测器元件10，例如 CCD阵列。依据本发明的参看图1时所述的一种类型的散射盘11位于衍射光栅9 和探测器元件10之间。在这种情况中，公共的组合光栅/娜盘基底lla 同时起到光Mt层llb的基底的作用，这与图l的光,层2相对应，并 起到衍射光栅9的基底的作用。特别地，衍射光栅9位于公共载波基底lla 的主侧上，面对物镜8，而光,层lib与位于公共承,底lla上的辐射敏/i^测器元件io紧密接触。任选他，假如所述层的包埋介质是液体的话，虽然在附图中没有具体 示出，但如果需要的话光鹏层llb可具有边界。作为示出的实施例可选 地，衍射光栅一方面还可能在所有情况中具有专用基底以及另一方面可能 具有设置得例如一个在另一个后面紧密接触的光娜层。物镜8和组合光栅/Mt盘基底11之间的空隙可被适宜的密封剂12沿 横向密封，以及填满了任选的适宜的浸没介质，例如水。 一方面的物镜8 的平面终端元件8b和另一方面的组合光栅/散射盘基底lla起到浸没介质 的轴向边界的作用。图3以与图2相似的视图示出了横向切变干涉仪类型的另一种波阵面 观糧设备的成像侧或探测器侧的部分，除非以下进行额外说明否则其与图 2的是相对应的。出于简洁的考虑，图2中的相同附图标记在图3中用来 指具有相同功能的部件，因此在这点上可参看与图2相关的，描述。图 3的测量设备与图2的不同的地方主要在于辐射敏感^g测器元件10设置在 与散射盘ll成一定距离的位置，也就是说，更精确地，远离光散射层llb， 检测成像镜14位于光TO层lib和探测器元件10之间。在这个示范性实 施例中，光散射层llb通31粘附剂，像一个平坦的水滴一样粘附在组合衍 射光栅微射盘基底lla上，并因而不需要被封闭在容器中。可根据这个目 的选择合适的光鹏层llb的液体包埋介质。因而，例如当用Fomblin作 为光Mt活,粒的包埋介质时，由于它非常低的蒸气压，即使在若干月 后通过蒸发而损失的液体量几乎可忽略不计。因此，对于包埋液体来说不必经常进行补充^换。在图3的设备的情况中，成像镜14在探测器元件10上成像切变干涉 图，该图是作为tm盘ll的光飾层llb中的二次图像出现的，而在图2 的示范性实施例中，由于探测器元件10与光i[^层llb紧密接触，将不直 接在光，层llb上直接产生所述的二次图像。与此相反的，在图3的情 况中，Mt盘ll与环境介质，通常为空气相邻，且它的光娜层llb位于 远离衍射光栅的位置上。在这两个示范性实施例中，光反射层llb可包括， 據说，由量子转换材料制成的光Mt颗粒，因JJtA射UV测量辐射14 不仅仅被Mt，而且在同时被转换成不同波长范围的辐射16，能更好地被 探测器元件10所检测到。在图2的实施例和图3的实施例中，测量设备适于测量即使是非常大 孔径的待检離8，其中在,盘ll上，更具体的是在tm盘基底lla和 光Mt层Hb之间的界面上产生相应的非常大入射角的辐射15。即使在这 些非常大的入射角的情况中，在所述界面上仍然保持可以接受的小的量的 全反射或者完，免。为了实现这个目的，正如上##图1时具体解释的， 包埋介质的折射率应适于与 盘基底lla的折射率相适应。正如上参看图1时所描述的，依据本发明的Mt盘可用于例如图2和 3的应用中以及任意其他类型的测量设备和通常在任意其他M1"盘应用中作为光TO活'ra粒具有固体包埋介质的固态散射盘或者作为具有液体包埋材料的液体散射盘。在最后提到的情况中，单独或连接在一起形成相对 大的团块的光散射活'M粒，可在周围的液体包埋介质中自由移动。如果 需要的话这可用来产生光Mt活性颗粒的目的运动，并因而产生与常规散 射盘的机Mii动效果相类似的光Mt层的TO特性的暂时变化。对于光散射活M粒的这种运动来说有多种不同的可能。 一种可能包 括移动液体包埋介质本身，也就是说，使之流动，例如舰冲洗、搅拌等。包埋介质的流动运动会夹带包埋的光f[lt活'M粒。还可借助相应的體，^^ M粒上施加原动力或者在额外弓l入包埋液体中的辅助颗粒上施加原动力来实现光Mt活ra粒的运动。樹列来说，可以考虑用电的或磁力作为产生这种原动力的机制。随后将启动光tm活性颗粒的运动的辅助颗粒 的运动还可被包埋液体的流动例如对流而驱动。根据需要可以采用任意类型的运动，诸如周期性的、均匀的或统计学上的运动。还可以考虑借助声 波或例如皿聚焦以脉冲方式或其他方式引入的辐射来产生的局部热点作为运^7激发机制来产生运动。图4示意'际出了由外部电鹏动撒活液体娜盘的光娜层17的情 况的示范性实施例，其余部分未能具体示出，光散射层17具有流体包埋材 料18以及可^^M包埋材料中自由移动的光f^t活',粒19。另外，磁 性辅助颗粒20已经引入到光TO层17的包埋介质18中，在本实施例中所 述辅助颗粒明显做舰颗粒19更大。磁性辅助颗粒20题动激活装置 的一部分，其还具有位于光,层17横向侧上的电磁装置21。 ffiil电磁 装置21的激活，可能以本身己知的方式在自由悬浮在包埋介质18中的磁 性辅助颗粒20上产生脉冲或其他形式的电磁力，因此使这些颗粒发生运 动，正如箭头B所示出的。由此引发的磁性辅助颗粒20的例如脉冲或随 机的运动可使具有悬浮在包埋液体18中的光Mt颗粒19产生运动并混合。如果需要的话，另外还可通过包埋液体18的流动来、M:光ticlt活'M粒19的运动。正如以上通过描述示范性实施例所阐述的，本发明提供了一种光学散 射盘，其适于从射角的辐射被反射，并且i!31给光舰活M粒选择适 合的包埋介质将减少或完全消除在与散射盘的界面上全g效应。
权利要求
1.光学散射盘，包括-透明基底(1)以及-与基底表面相邻接并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2)，其中-光散射层(2)，该光散射层(2)具有较空气更为光学密集并表面地邻接基底(1)的衬面的包埋介质(4)，并且包埋介质(4)还包围光散射活性颗粒(3)。
2. 如权利要求1所述的光学散射盘，其中包埋介质的折射率达到基底的折 射率的至少接近80%和/或小于光|^活'鹏粒的折射率。
3. 如权利要求l或2所述的光学娜盘，其中光t^lt活性由不会改变Mt 辐射的频率的粒状的、单纯散1#才料形成或者由粒状量子转换材料形成。
4. 如权利要求1-3任一项所述的光学舰盘，其中包埋介质是液1^才料， 光散射活性颗粒悬浮或溶解在液体包埋介质中或形成固体和/或烘干和/或多孔 的复合物，而液体包埋介质在该复合物周围流动；或者包埋介质是将光散射活 1 粒包埋在其中的固^=才料。
5. 如权利要求14任一项所述的光学散射盘，其中选择包埋介质使得其折 射率与基敏包埋介质界面的全反射的预定角度相适配。
6. 如权利要求1-5任一项所述的光学散射盘，其中包埋介质是M粘附而 固定在基底上或被密封的液体。
7. 如权利要求6所述的光学TO盘，其中包埋介质在空腔中是静态的或流 动的。
8. 如权利要求卜7任一1妙万述的光学舰盘，其中光舰活',粒被松散 地、可移动的形式或被束缚的形式粘附，粒载体基底上的包埋介M^散包围。
9. 如权利要求8所述的光学Mt盘，其中光tm活'ra粒在液体包埋介质中是松散的、可移动的形态的，并具有使光tm活性颗粒移动的装置。
10. 如权利要求9所述的光学散射盘，其中颗粒移动装置包括一个单元, 该单元使液体包埋介质产生主动流动和/或使光散射活'性颗粒产生主动运动和/ 或使客妙卜、添加到包埋介质中的辅助颗粒产生主动运动。
11. 用途，所棚途是指如权利要求1-10任一JMf述的光学舰盘用于确定成像色差测量的光学系统的设备。
12. 用来测量待检i辦干涉波阵面的设备，包括-^S在光，径中待检试样(8)下游的衍射光栅(9)以及 -，在衍射光栅下游的探测器元件00)，其特征在于，具有-如权利要求1-10任一项所述的光学TO盘(11)，该光学娜盘(11)位 于衍射光栅(9)和探测器元件(10)之间，衍射光栅位于与光Mt层(lib)相对的Mt盘基底(iia)的表面上，或者位于tm盘基底邻接的其自身的光栅基底上。
13. 如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成横向切变干涉仪。
14. 如权利要求12戶脱的设备，其中该设备被设计成点衍射干涉仪。
15. 如权利要求12所述的设备，其中该设备被设计成Shack-Hartmann传繊。
16. 如权利要求12-15任一项所述的设备，其中娜盘借助其光tm层与 探测器元件紧密接触，或者其光Mt层与探测器元件相分隔开，并通过粘附固 定在公共光栅/tm盘基底的探测器一侧表面上，在其面对待检i辦的表面上设 置有衍射光栅。
17. 如权利要求12-16任一项所述的设备，其中浸没介质(13)位于衍射 光栅和待检试样之间。
18. 如权利要求12-17任一项所述的设备，其中待检i^是显微光刻投影 物镜(8)。
19. 显微光刻投影曝光设备，包括J^物镜(8)，其特征在于在投影物 镜的辐射输出侧上以给定的时间间隔设置了如权利要求1-10任一项所述的光学 舰盘。
20. 如权利要求19所述的显微光亥股影曝光设备，其中投織镜在離 射输出侧具有至少0.9的数值孔径，雌具有至少1.0的数值孔径。
21. 如权利要求19或20所述的显微光刻投影曝光设备，其中形成投影 物镜用来与浸没介质一起工作，tt是浸没液体。
全文摘要
1.光学散射盘、用途以及波阵面测量设备。2.1.本发明涉及一种光学散射盘，包括透明基底(1)和邻接基底的表面并具有光散射活性颗粒(3)的光散射层(2)，该散射盘的用途以及装配了该散射盘的波阵面测量设备。2.2.依据本发明，光散射层具有较空气更为光密集的并邻接基底的衬面的包埋介质(4)，并且该包埋介质将包围光散射活性颗粒。2.3.借助横向切变干涉仪将其用于例如用来测量大孔径显微光刻投影物镜的波阵面的设备中。
文档编号G02B5/02GK101223459SQ200680018511
公开日2008年7月16日 申请日期2006年5月23日 优先权日2005年5月27日
发明者U·韦格曼 申请人:卡尔蔡司Smt股份公司