专利名称：处理废弃光刻胶的装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种处理废弃光刻胶(photoresist,以下简称PR胶) 的装置，特别是一种防止废弃的PR胶进入真空管道的装置。
背景技术：
目前薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,以下简称TFT-LCD )生产中大体分为阵列，成盒，模块三大工序， 而在阵列工序中又大体分为成膜，光刻，蚀刻三大工艺。其中，在阵列工艺 中有一道工序是在威璃基板上涂上PR胶，PR胶是一种感光后，其化学性质 会改变的红色粘稠物，涂敷在玻璃基板上的光刻胶在高速旋转的状态下被均 匀的涂在玻璃基板上，而在旋转完毕后，会有一部分PR胶被甩出去，该PR 胶需要进行废弃处理。如图3所示，为现有技术中一种处理废弃PR胶的装置。该装置12上部 的一侧设有接入口 21，该接入口 21与接入管道11连接，废弃的PR胶被稀 释剂(一种可以溶解PR胶的透明液体)溶解，溶解液随该接入管道11排到该 装置12内，该装置12呈一立方体结构，装置12的底部设计为斜坡16的形式， 其目的是方便溶解液顺着斜坡16流到装置12的底部，装置12的底部设有排 液口 23,该排液口 23与排液管道13连接，溶解液顺着该排液管道13被排到 外部；因为溶解液一般是比较稠的，仅在重力的作用下其流动的速度一般很漫， 再加上稀释剂易挥发，所以需要快速处理溶解液，否则溶解液就会凝固在管道 内，使管道堵塞，出于上述目的，在装置12的上部另一侧设有真空口 24，该 真空口 24与真空管道14连接，采用真空泵在装置12内的排液空腔10中加以
真空，在强力的真空作用下，整个管道形成真空状态，利用真空状态的吸附力， 可大大提高溶解液的流动速度，真空泵没有设置在排液管道13上是为了防止PR胶进入真空泵及真空管道14，真空管道14与装置12的上部的真空口 24 连接，排液管道13与装置12的底部的排液口 23连接也正是为了防止PR胶进 入真空泵，因为真空管道14在上部只能把气体吸入，而液体在重力的作用下 只能在装置12的底部流动；但是，因为稀释剂易挥发，挥发的同时也会携带 PR胶，这种携带有PR胶的气体状溶解液，进入真空管道14也能使真空管道 14堵塞，所以在排液空腔10中，接入管道11和真空管道14之间设有一个 挡片15，其目的是阻挡气体状溶解液进入真空管道14。上述现有技术中处理废弃PR胶的装置存在以下缺点因为气体状溶解液 的流动性比较强，而且在装置12的底部，排液口 23附近也会挥发该气体状溶 解液， 一个挡片不能完全阻挡气体状的溶解液进入真空管道14，还有很大一 部分会进入真空管道14，经过长时间的使用，真空管道14也易堵塞，导致 该装置12不能正常使用。实用新型内容本实用新型的目的是在于通过在处理废弃PR胶的装置内排液空腔的适 当位置设置挡片，把气体状溶解液经过的路线与真空口隔离开，防止气体状 溶解液进入真空管道里，从而解决真空管道堵塞，该装置不能正常工作的问题。为了实现上述目的，本实用新型提供了一种处理废弃PR胶的装置，包括 排液空腔、排液斜坡、接入口、真空口、排液口以及设置在所述排液空腔内 的挡片，所述的挡片为一个以上。上述技术方案中所述挡片可以设置在排液空腔的内壁上，各个挡片在排 液空腔内壁的位置不是绝对的，凡是在相应位置范围内设置的挡片，用以防 止接入口与真空口之间形成流动的气体状溶解液气流，均为本实用新型所要
保护的范围。上述技术方案中所述挡片朝向所述排液空腔内壁的方向与所述挡片周围 气体状溶解液气流方向可以成一锐角或直角，该角度也不是绝对的，凡是在相应角度范围内设置的挡片，用以防止接入口与真空口之间形成流动的气体 状溶解液气流，均为本实用新型所要保护的范围。因此，本实用新型处理废弃PR胶的装置具有以下优点由于设置了一个 以上的挡片，使气体状溶解液在接入口与真空口之间不能形成气流，有效的 防止气体状溶解液进入真空管道，解决了真空管道易堵塞的问题。
图1为本实用新型一实施例中旋转涂胶单元排液管道与处理废弃PR胶装 置的连接示意图；图2为本实用新型一实施例中处理废弃PR胶的装置的结构示意图； 图3为现有技术中处理废弃PR胶的装置的结构示意图。
具体实施方式
下面通过附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。 图1为本实用新型 一 实施例中旋转涂胶单元排液管道与处理废弃PR胶装 置的连接示意图。其中，接入管道ll连接到处理废弃PR胶装置12的上部一 侧，真空管道14连接到处理废弃PR胶装置12的上部另一侧，排液管道13 连接到处理废弃PR胶装置12的底部；溶解液随接入管道11排入装置12内， 然后随排液管道13排出装置12外。图2为本实用新型上述实施例中处理废弃PR胶的装置的结构示意图。如 图2所示，该装置12包括排液空腔10、排液斜坡16、接入口 21、真空口 24、 排液口 23以及设置存所述排液空腔10内的挡片，分别是挡片15、挡片U、 挡片18、挡片19和挡片20;所述处理废弃PR胶的装置12由不锈钢制成，
呈一立方体结构，该装置12上部的一侧设有一接入口 21与接入管道11连接， 溶解液随该接入管道11，经过接入口 21排到装置12内，装置12底部设计 为斜坡16的形式，用于方便溶解液顺着该斜坡16流到装置12的底部，装置 12底部设有一排液口 23与排液管道13连接，溶解液经过该排液口 23，随该 排液管道13排到装置12外，装置12上部的另一侧设有一真空口 24与真空 管道14连接，采用真空泵在装置12内的排液空腔10中加以真空；装置12 还包括一个以上的挡片，即挡片15、 17、 18、 19和20,所述一个以上的挡 片均设置在排液空腔10的内壁上，各个挡片的一端均固定在排液空腔10的 内壁上，其中，挡片20设置在接入口 21附近，挡片18设置在真空口 24附 近，挡片17设置在排液口 23附近，挡片15和19设置在排液空腔10的中部, 各个挡片把排液空腔10分为若干个区域，各个挡片朝向排液空腔10内壁的 方向与其周围气体状溶解液气流的方向成一锐角或直角；所述挡片15、 17、18、 19及20用于阻挡挥发的气体状溶解液，其中，挡片20的作用是防止斜 坡16前端挥发的气体状溶解液进入真空管道14，挡片15的作用是防止挡片 20和挡片15之间挥发的气体状溶解液进入真空管道14，挡片19的作用是防 止挡片15和挡片19之间挥发的气体状溶解液进入真空管道14，挡片18的 作用是防止挡片19和挡片18之间挥发的气体状溶解液进入真空管道14,挡 片17的作用是防止底部挥发的气体状溶解液进入真空管道14;也就是说， 在排液空腔10中挡片15和挡片17-20的作用是防止接入口 21与真空口 24 之间形成流动的气体状溶解液气流，溶解液一旦挥发就会被挡片挡住。进一步地，上述实施例中，挡片15的位置和角度可以改变，该挡片15 与挡片17-20相配合，能够达到防止接入口 21与真空口 24之间形成流动的 气体状溶解液气流的效果。根据处理废弃PR胶的装置12中排液空腔10的体积大小不同，所述挡片 的数量也是可增减的:，若所述排液空腔10的体积较大，挡片的数量可以大于 5个；若所述排液空腔10的体积较小，挡片的数量也可以小于5个。
本实用新型中各个挡片在排液空腔IO内壁的位置并不限于图2中所示的 各个挡片的位置，凡是在相应位置范围内设置的挡片，用以防止接入口 21与 真空口 24之间形成流动的气体状溶解液气流，均为本实用新型所要保护的范围。本实用新型中各个挡片与其周围气体状溶解液气流的方向均呈一定角 度，该角度并不限于图2中所示的各个挡片的角度，凡是在相应角度范围内 设置的挡片，用以防止接入口 21与真空口 24之间形成流动的气体状溶解液 气流，均为本实用新型所要保护的范围。最后所应说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非 限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技 术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而 不脱离本实用新型技术方案的精神和范围。
权利要求1、一种处理废弃光刻胶的装置，包括排液空腔、排液斜坡、接入口、真空口、排液口以及设置在所述排液空腔内的挡片，其特征在于，所述的挡片为一个以上。
2、 根据权利要求1所述的处理废弃光刻胶的装置，其特征在于，所述挡 片设置在所述排液空腔的接入口附近。
3、 根据权利要求1所述的处理废弃光刻胶的装置，其特征在于，所述挡 片设置在所述排液空腔的排液口附近。
4、 根据权利要求1所述的处理废弃光刻胶的装置，其特征在于，所述挡 片设置在所述排液空腔的真空口附近。
5、 根据权利要求1所述的处理废弃光刻胶的装置，其特征在于，所述挡 片朝向所述排液空腔内壁的方向与所述挡片周围气体状溶解液气流方向成一 锐角或直角。
专利摘要本实用新型涉及一种处理废弃PR胶的装置，包括排液空腔、排液斜坡、接入口、真空口、排液口以及设置在所述排液空腔内的挡片，所述的挡片为一个以上。本实用新型使得气体状溶解液在接入口与真空口之间不能形成气流，有效的防止气体状溶解液进入真空管道，解决了真空管道易堵塞的问题。
文档编号G03F7/16GK201035319SQ20072014914
公开日2008年3月12日 申请日期2007年5月15日 优先权日2007年5月15日
发明者朴成哲, 黄福林 申请人:北京京东方光电科技有限公司