制备图案化的双折射产品的方法

专利名称：制备图案化的双折射产品的方法
技术领域：
本发明涉及一种制备图案化的双折射产品的方法和通过所述方法制备的图案化 的双折射产品。
背景技术：
已经提出了几种制备双折射图案的方法。JP-A-3-141320(〃 JP-A“指未审查已 公开的日本专利申请)公开了一种在图像记录方法中使用夹在两块偏振片之间时可以看 到的图案化的双折射产品。在JP-A-3-141320中，使用的技术是利用加热方式激光或热头 (thermal head)以加热各向异性膜的图像形成部，从而完全或部分地降低各向异性。
然而，通过其中上述利用热降低双折射性的技术制备的图案均具有耐热性差的缺 点。也就是说，存在当加热到残留双折射性的部分时，该部分的双折射性将结束下降的风 险。JP-A-3-141320也提出了一种通过使用光降解光聚合物或光异构化聚合物利用光降低 双折射的技术。然而，通过该技术制备的图案的耐光性较低，使得图案不适于作为用于特别 是光学元件的双折射图案。
已经提出了制备双折射图案的另一种技术，其是一种方法，包括在具有取向膜的 支持体上涂布含有聚合性液晶和聚合引发剂的涂布液，通过光掩模对其中液晶处于取向态 的涂布液进行图案化曝光，通过聚合固定曝光区域的取向，加热以在未曝光的区域中产生 各向同性相，以及进行第二次曝光，从而仅使第一次曝光的区域周围表现出光学各向异性 (参见，英国专利 No. 2，394，718A 和 “Advanced Function Materials”，pp. 791-798，16， 2006)。然而，在该方法中，在固定之前控制液晶取向态要求在小心控制整个体系温度的同 时进行多次曝光，从而造成了制备过程苛刻的问题。发明内容
本发明的目的是提供一种用于容易制备高耐热性的图案化的双折射产品的方法， 即，具有图案化双折射且耐热性高的物品。
根据本发明，提供以下手段
(1) 一种制备图案化的双折射产品的方法，依次包括至少步骤(I) (III)
(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体(builder)，所 述聚合物具有未反应的反应性基团；
(II)对所述双折射图案构造体的区域进行加热；和
(III)使所述双折射图案构造体经受使所述光学各向异性层中的至少一部分未反 应的反应性基团反应的过程。
(2)如⑴所述的方法，其中所述光学各向异性层具有在高于20°C的温度区域中 的延迟消失温度，其中，所述延迟消失温度是在该温度下的面内延迟为20°C下的面内延迟 的30%或更少的温度，和在步骤(II)中加热的温度等于或高于所述延迟消失温度。
(3)如⑴或⑵所述的方法，其中通过与加热体接触进行所述加热。
(4)如(1)-(3)任一项所述的方法，其中在步骤(III)中的过程是曝光。
(5)如(1)-(3)任一项所述的方法，其中在步骤(III)中的过程是加热处理。
(6)如(5)所述的方法，其中所述光学各向异性层具有在高于20°C的温度区域中 的延迟消失温度，其中，所述延迟消失温度是在该温度下的面内延迟为20°C下的面内延迟 的30%或更少的温度，和在步骤(III)中的加热处理在低于所述延迟消失温度的温度下进 行。
(7)如(1)-(6)任一项所述的方法，其中在步骤(III)之后进行双折射图案构造体 的最终热处理的步骤。
(8)如(1)-(7)任一项所述的方法，在步骤(I)中的所述光学各向异性层是通过以 下步骤形成的层将含有具有至少一种反应性基团的液晶性化合物的溶液涂布并干燥，由 此形成液晶相，然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物。
(9)如(8)所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合条件不同的两种以上的反应性基团。
(10)如⑶所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反应性基团和阳 离子反应性基团。
(11)如(10)所述的方法，其中所述自由基反应性基团是丙烯酸基团和/或甲基丙 烯酸基团，所述阳离子反应性基团是乙烯基醚基团、氧杂环丁烷基团和/或环氧基团。
(12)如(10)或(11)所述的方法，其中在步骤⑴中的双折射图案构造体包含
光学各向异性层，其通过如下方法形成将含有具有至少一种反应性基团的液晶 性化合物和作为光反应性聚合引发剂的仅自由基光聚合引发剂的溶液涂布，由此形成液晶 相，然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物；和
通过在所述光学各向异性层上直接涂布含有阳离子光聚合引发剂的溶液而提供 的功能层。
(13)如(10)或(11)所述的方法，其中在步骤⑴中的双折射图案构造体包含
光学各向异性层，其通过如下方法形成将含有具有至少一种反应性基团的液晶 性化合物和作为光反应性聚合引发剂的仅阳离子光聚合引发剂的溶液涂布，由此形成液晶 相，然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物；和
通过在所述光学各向异性层上直接涂布含有自由基光聚合引发剂的溶液而提供 的功能层。
(14)如(1)-(7)任一项所述的方法，其中，所述光学各向异性层是拉伸过的膜。
(15)如(1)-(14)任一项所述的方法，其中步骤⑴通过如下方法进行通过在转 移的目标材料上转移包含光学各向异性层的转移材料以制备所述双折射图案构造体。
(16)如(1 所述的方法，其中，所述转移材料依次包含临时支持体、光学各向异 性层和用于转移的粘合层。
(17) 一种通过(1)-(16)任一项所述的方法可得到的用作防止伪造的手段的产品。
(18) 一种通过(1)-(16)任一项所述方法可得到的用作光学元件的产品。


图1 (a) 1 (i)是双折射图案构造体的例子的示意性截面图。
图2(a) 2(f)是用作转移材料的双折射图案构造体的例子的示意性截面图。
图3(a) (d)是通过本发明方法得到的图案化的双折射产品的例子的示意性截 面图。
图4是显示实施例1中所用的加热块I的形状的图。
图5是显示当以交叉尼克尔状态观察时，在实施例1中制备的样品的图案的框架 样式的图。
图6是显示当以交叉尼克尔状态观察时，在实施例2中制备的样品的图案的框架 样式的图。
图7是显示实施例3中所用的加热块II的形状的图。
图8是显示实施例3中使用的加热块III的形状的图。
图9显示当以交叉尼克尔状态观察时，在实施例3中制备的样品的图案的框架样 式的图。
附图标记说明
11 支持体或基板
12 光学各向异性层
12F 第一光学各向异性层
12S 第二光学各向异性层
13 取向层(在支持体或基板上)
14 用于转移的粘合层
14A 用于转移的第一粘合层
14B 用于转移的第二粘合层
14C 用于转移的第三粘合层
16 后粘合层
17 剥离层
18 表面保护层
21 临时支持体
22 取向层(在临时支持体上)
22F 临时支持体上的第一取向层
22S 临时支持体上的第二取向层
23 力学特性控制层
35 反射层
112 图案化的光学各向异性层
112-A图案化的光学各向异性层(加热过的区域)
112-B图案化的光学各向异性层(未加热区域)
112F-A第一图案化的光学各向异性层(第一层的加热过的区域)
112F-B第一图案化的光学各向异性层(第一层的未加热区域)
112S-A第二图案化的光学各向异性层(第二层的加热过的区域)
112S-B第二图案化的光学各向异性层(第二层的未加热区域)
112T-A第三图案化的光学各向异性层(第三层的加热过的区域)6
112T-B第三图案化的光学各向异性层(第三层的未加热区域)
尽管结合实施例描述了本发明，但除非另有说明，本发明不限于这些详细内容，而 应在权利要求书的精神和范围内宽泛地解释。
本申请根据35U. S.C. § 119(a)要求2008年3月18日提交的日本专利申请 No. 2008-069827的优先权，在此将其全部内容援引加入。
有益效果
通过本发明的方法和根据本发明的构造体，可以得到高耐热性的图案化的双折射 产品。当通过偏振片观察时，双折射图案是容易识别的图案，而当未通过偏振片观察时，其 几乎是无色透明的，并且双折射图案对于防止伪造和赋予视觉效果是有效的。特别地，如果 使用这种转移材料，可以减少制备的步骤数，因此降低制造成本。
具体实施方式
下面详细说明本发明的优选方式的一些例子。
在本说明书中，用" "表示的范围指包括" "之前和之后的数值作为最小值 和最大值的范围。
在本说明书中，术语“延迟”或“Re”指面内延迟，术语“ReU)”指波长λ (nm)的 面内延迟。可以通过在薄膜法线方向上入射波长Anm的光，使用KOBRA 21ADH或WR(商品 名，Oji Scientific Instruments制)测量面内延迟(Re(A))。在本说明书中，延迟或Re 指对于R (红)、G (绿)和B (蓝)，在波长λ分别是611 士 5nm、545 士 5nm和435 士 5nm下测 量的，并且如果对颜色没有具体说明，那么指在波长λ 545 士 5nm或590 士 5nm下测量的。
应注意到，关于角度，在本说明书中术语"基本上"指相对于精确角度允许误差 小于士5°。距精确角度的误差优选小于4°，更优选小于3°。还应注意到，关于延迟值， 在本说明书中术语"基本上"指相对于精确值误差允许小于士5%。还应注意到，在本说明 书中术语"Re值基本上不为0〃指Re值不小于5nm。除非另有说明，折射率的测量波长是 任何可见光波长。还应注意到，在本说明书中术语"可见光"指400 700nm的波长的光。
在本说明书中，“延迟消失温度”是指当光学各向异性层的温度由20°C的状态以 20°C/分的速率升高时，所述光学各向异性层的延迟变为在20°C下该相同的光学各向异性 层的延迟的30%或更少的温度。
(双折射图案构造体)
图1 (a) 1⑴是双折射图案构造体的几个例子的示意性截面图。双折射图案构 造体是制备双折射图案的材料和通过进行预定步骤从其制备图案化的双折射产品的材料。 双折射图案构造体通常具有面状(或膜状或片状)形状。术语“双折射图案构造体的区域” 是指由与双折射图案构造体平面的法向平行的面分开的一部分区域。各个区域可以是连续 的或不连续的状态或形状。
图1 (a)所示的双折射图案构造体是在支持体(基板)11上具有光学各向异性层 12的例子。图1(b)所示的双折射图案构造体是具有取向层13的例子。当使用通过含有液 晶性化合物的溶液涂布基板，将溶液干燥以形成液晶相，然后加热或用电离辐射照射液晶 相从而聚合和固定化合物而形成的层作为光学各向异性层12时，取向层13用作支持液晶 性化合物的取向/排列的层。
图1 (c)所示的双折射图案构造体是在支持体11上还具有反射层35的例子。图 1 (d)所示的双折射图案构造体是在支持体11下还具有反射层35的例子。图1 (e)所示的 双折射图案构造体是在支持体11下具有后粘合层16 (其是当从层叠结构剥离下述剥离层 后与'另一产品'贴附时用作粘合层的层)和剥离层(其是可以从层叠结构分离或剥离的 层)17，从而在形成双折射图案后与另一产品贴附。图1(f)所示的双折射图案构造体是具 有由于使用转移材料制备而可在支持体11和光学各向异性层12之间转移的粘合层14的 例子。图1(g)所示的双折射图案构造体是具有多个光学各向异性层(12F，12Q的例子。 图1 (h)所示的双折射图案构造体是在自支持光学各向异性层12下具有反射层35的例子。 图1 (i)所示的双折射图案构造体是在反射层35下具有后粘合层16和剥离层17的例子， 从而在形成双折射图案后与另一产品贴附。
(将要用作转移材料的双折射图案构造体)
图2(a) 2(f)是在本发明中可以用作转移材料的双折射图案构造体的几个例子 的示意性截面图。通过使用双折射图案构造体作为转移材料，可以在所需支持体上容易地 形成具有光学各向异性层的双折射图案构造体、具有多个光学各向异性层的双折射图案构 造体或包括具有双折射图案的多层的产品。
图2(a)所示的双折射图案构造体是在临时支持体21上具有光学各向异性层12 的例子。图2(b)所示的双折射图案构造体是在光学各向异性层12上还具有用于转移的粘 合层14的例子。图2(c)所示的双折射图案构造体是在用于转移的粘合层14上还具有表面 保护层18的例子。图2(d)所示的双折射图案构造体是在临时支持体21和光学各向异性 层12之间在临时支持体上还具有取向层22的例子。图2(e)所示的双折射图案构造体是 在临时支持体21和取向层22之间在临时支持体上还具有力学特性控制层23的例子。图 2(f)所示的双折射图案构造体是具有多个光学各向异性层(12F，12Q的例子。
(图案化的双折射产品)
在本说明书中，术语“图案化的双折射产品，，或“具有双折射图案的产品，，指具有 双折射性不同的两个以上区域的产品。图案化的双折射产品更优选具有双折射性不同的三 个以上区域。具有彼此相等双折射性的区域可以呈连续或不连续的状态或形状。双折射图 案构造体通常具有面状(或膜状或片状)形状。具有不同双折射的区域优选地是被与双折 射图案平面的法向平行的面分开的区域。
图3(a) 3(d)是通过本发明的制备方法使用双折射图案构造体可得到的图案化 的双折射产品的几个例子的示意性截面图。通过本发明方法得到的图案化的双折射产品具 有至少一个图案化的光学各向异性层112。在本说明书中，术语"图案化的光学各向异性 层"指"具有图案化形式的双折射性彼此不同的区域的光学各向异性层"。
图3(a)所示的图案化的双折射产品是仅由一个图案化的光学各向异性层112构 成的例子。通过本发明方法制备的图案化的双折射产品具有未加热部分和加热过的部分。 所述未加热部分和所述加热过的部分的双折射性彼此不同(而且，加热过的部分可以包括 多个在彼此不同的加热条件下加热的加热过部分从而具有彼此不同的双折射性)。图3(a) 所示的实例是其中图案化的双折射产品具有加热过的部分112-A和未加热部分112-B的实 例。图3(b)所示的图案化的双折射产品是具有支持体11、和从支持体依次提供在所述支持 体上的各个反射层35、用于转移的粘合层14和图案化的光学各向异性层112的实例。图案化的双折射产品可以具有多个图案化的光学各向异性层，因此，可以显示由所述多个光学 各向异性层带来的多种另外的功能。图3(c)所示的图案化的双折射产品是其中多个光学 各向异性层被层叠并且之后各层的区域经受局部加热(在此及后，也称为“部分加热”)以 使得各层给出相同的图案的实例。所述产品是有用的，例如在制备具有仅通过一个光学各 向异性层不能获得的大的延迟的区域的图案中。图3(d)所示的图案化的双折射产品是其 中依次多次重复步骤“形成光学各向异性层(包括通过转移形成)”、步骤“局部加热”和步 骤“曝光整个表面”以得到多个光学各向异性层的独立图案的实例。例如如果彼此独立的图 案理想地在延迟彼此不同或慢轴的方向彼此不同的两个以上的光学各向异性层上形成时， 所述构造是有用的。
下面，详细说明双折射图案构造体、使用它制备图案化的双折射产品的方法、图案 化的双折射产品的材料及其制备方法。然而，应注意到，本发明不限于以下实施方案。参考 以下说明和已知的方法，还可以实施任何其他实施方案。
(光学各向异性层)
双折射图案构造体中的光学各向异性层是具有至少一个入射方向的层，当测量相 位差时，其延迟(Re)基本不为0。换句话说，光学各向异性层是具有非各向同性的光学特性的层。
双折射图案构造体中的光学各向异性层含有具有未反应的反应性基团的聚合物。 术语“未反应的反应性基团”是指反应性基团，并且是在由单体(具有反应性基团)制备聚 合物后剩下的未反应的反应性基团的概念。通过含有聚合物，光学各向异性层可以满足各 种要求，如双折射性、透明度、耐溶剂性、韧性和柔软性。光学各向异性层的延迟通过加热改 变。特别地，在光学各向异性层具有延迟消失温度时，当其被加热至高于延迟消失温度的温 度时，层的延迟显著地降低。因此，通过加热光学各向异性层的区域，可以在加热区域和未 加热区域之间临时赋予延迟的差异。而且，由于本发明的光学各向异性层具有未反应的反 应性基团，可以通过使所述层经受处理，如曝光而固定延迟的差异，从而使得未反应的反应 性基团反应，由此使聚合物链交联。
光学各向异性层在20°C下、优选在30°C下、更优选在40°C下可以为固体，因为在 20°C下为固体的光学各向异性层可以容易地涂布到另一功能层上，或转移到或贴附到支持 体上。
为了用另一功能层涂布，光学各向异性层优选具有耐溶剂性。在本说明书中，“具 有耐溶剂性"是指在对象溶剂中浸渍2分钟后层的延迟为浸渍前层的延迟的30 170%， 更优选50 150 %，最优选80 120 %。作为对象溶剂，其例子包括水、甲醇、乙醇、异丙醇、 丙酮、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲基醚乙酸酯、N-甲基吡咯烷酮、己烷、氯仿和乙酸乙 酯。其中，丙酮、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲基醚乙酸酯和N-甲基吡咯烷酮是优选的， 甲基乙基酮、环己酮和丙二醇单甲基醚乙酸酯及它们的混合物是最优选的。
光学各向异性层在20°C下的延迟可以为5nm以上，优选IOnm以上和10，OOOnm以 下，更优选20nm以上和2，OOOnm以下。当延迟过小时，形成双折射图案变得困难。当延迟 过大时，误差变大，并且难以实现实际需要的精度。
光学各向异性层的制备方法没有特别限制。其例子包括以下方法用含有具有至 少一种反应性基团的液晶性化合物的溶液涂布，将溶液干燥以形成液晶相，然后加热或用电离辐射照射从而聚合和固定的方法；拉伸通过聚合和固定具有两个以上反应性基团的 单体形成的层的方法；在使用偶联剂将反应性基团引入层中后拉伸由聚合物构成的层的方 法；以及拉伸由聚合物构成的层，然后使用偶联剂将反应性基团引入层中的方法。
此外，如下面所述的，根据本发明的光学各向异性层可以通过转移形成。
光学各向异性层的厚度优选为0. 1 20 μ m，更优选0.5 10 μ m。
(通过聚合和固定含有液晶性化合物的组合物形成的光学各向异性层)
下面说明光学各向异性层的制备方法，其中用含有具有至少一种反应性基团的液 晶性化合物的溶液涂布，将溶液干燥以形成液晶相，然后加热或用电离辐射照射从而聚合 和固定液晶相。利用该方法，与通过拉伸聚合物形成光学各向异性层的方法获得的层相比， 可以容易地获得具有相等延迟但更薄的光学各向异性层，所述方法将后述详细解释。
(液晶性化合物)
液晶性化合物通常根据分子形状可以分成棒状化合物和盘状化合物。每一 类别还包括低分子型和高分子型。高分子型通常指聚合度为100以上(“Kobunshi Butsuri-Soten' i Dainamikusu(Polymer Physics-Phase TransitionDynamics), Masao Doi著，p. 2，Iwanami Shoten, Publishers出版，1992)。任一类型的液晶性分子均可以用 在本发明中，其中优选使用棒状液晶性化合物或盘状液晶性化合物。还可以使用两种或更 多种棒状液晶性化合物的混合物、两种或更多种盘状液晶性化合物的混合物、或棒状液晶 性化合物和盘状液晶性化合物的混合物。更优选的是，使用包括具有反应性基团的棒状液 晶性化合物或具有反应性基团的盘状液晶性化合物的组合物形成光学各向异性层，因为这 种化合物可以减小依赖于温度或湿度的变化，再更优选的是，混合物中的至少一种化合物 在一个液晶分子中具有两个或更多个反应性基团。液晶组合物可以是两种或更多种化合物 的混合物，其中至少一种化合物优选具有两个或更多个反应性基团。
还优选的是，液晶性化合物具有聚合条件彼此不同的两种或更多种反应性基团。 在这种情况下，通过选择聚合条件而仅聚合多种反应性基团中的一种反应性基团，可以制 备包括具有未反应的反应性基团的聚合物的光学各向异性层。聚合条件可以是在聚合和固 定时的电离辐射的照射波长范围或聚合机理。优选地，该条件可以是可以控制具有自由基 聚合性基团和阳离子聚合性基团的组合的化合物聚合的聚合引发剂。作为自由基聚合性基 团的丙烯酸基团和/或甲基丙烯酸基团和作为阳离子聚合性基团的乙烯基醚基团、氧杂环 丁烷基和/或环氧基的组合是特别优选的，因为可以容易地控制反应性。
棒状液晶性化合物的例子包括偶氮甲碱化合物、氧化偶氮化合物、氰基联苯化合 物、氰基苯酯、苯甲酸酯、环己烷羧酸苯酯、氰基苯基环己烷化合物、氰基-取代的苯基嘧啶 化合物、烷氧基-取代的苯基嘧啶化合物、苯基二氧杂环乙烷化合物、二苯乙炔化合物和烯 基环己基苯基腈化合物。不仅是上述低分子量的液晶性化合物，还可以使用高分子量的液 晶性化合物。可以通过聚合具有至少一种反应性基团的低分子量液晶性化合物得到高分子 量的液晶性化合物。在这种低分子量液晶性化合物中，式(I)代表的液晶性化合物是优选 的。
式(I)Q1-L1-A1-L3-M-L4-A2-L2-Q2
在式(I)中，Q1和Q2每一个独立地代表反应性基团；L1、L2、L3和L4每一个独立地 代表单键或二价连接基团；A1和A2每一个独立地代表具有2 20个碳原子的间隔基团。M代表介晶(mesogen)基团。
下面，详细说明式(I)代表的具有反应性基团的棒状液晶性化合物。在式(I)中， Q1和Q2每一个独立地代表反应性基团。反应性基团的聚合反应优选是加成聚合(包括开 环聚合)或缩合聚合。换句话说，反应性基团优选是能够发生加成聚合反应或缩合聚合反 应的官能团。反应性基团的例子如下所示。
权利要求
1.一种制备图案化的双折射产品的方法，依次包括至少步骤(I) (III)(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体，所述聚合物具有未 反应的反应性基团；(II)对所述双折射图案构造体的区域进行加热；和(III)使所述双折射图案构造体经受使所述光学各向异性层中的至少一部分所述未反 应的反应性基团反应的过程。
2.如权利要求1所述的方法，其中所述光学各向异性层具有在高于20°C的温度区域中 的延迟消失温度，其中，所述延迟消失温度是面内延迟为20°C下的面内延迟的30%或更少 的温度，和在步骤(II)中加热的温度等于或高于所述延迟消失温度。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中通过与加热体接触进行所述加热。
4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中在步骤(III)中的过程是曝光。
5.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中在步骤(III)中的过程是加热处理。
6.如权利要求5所述的方法，其中所述光学各向异性层具有在高于20°C的温度区域中 的延迟消失温度，其中，所述延迟消失温度是面内延迟为20°C下的面内延迟的30%或更少 的温度，和在步骤(III)中的加热处理在低于所述延迟消失温度的温度下进行。
7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中在步骤(III)之后进行所述双折射图案 构造体的最终热处理的步骤。
8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，在步骤(I)中的所述光学各向异性层是通过 以下步骤形成的层将含有具有至少一种反应性基团的液晶性化合物的溶液涂布并干燥， 由此形成液晶相，然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物。
9.如权利要求8所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合条件不同的两种以上的 反应性基团。
10.如权利要求8所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反应性基团和 阳离子反应性基团。
11.如权利要求10所述的方法，其中所述自由基反应性基团是丙烯酸基团和/或甲基 丙烯酸基团，所述阳离子反应性基团是乙烯基醚基团、氧杂环丁烷基团和/或环氧基团。
12.如权利要求10或11所述的方法，其中在步骤(I)中的双折射图案构造体包含 光学各向异性层，其通过如下方法形成将含有具有至少一种反应性基团的液晶性化合物和作为光反应性聚合引发剂的仅自由基光聚合引发剂的溶液涂布，由此形成液晶相， 然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物；和功能层，通过在所述光学各向异性层上直接涂布含有阳离子光聚合引发剂的溶液而提{共。
13.如权利要求10或11所述的方法，其中在步骤(I)中的双折射图案构造体包含 光学各向异性层，其通过如下方法形成将含有具有至少一种反应性基团的液晶性化合物和作为光反应性聚合引发剂的仅阳离子光聚合引发剂的溶液涂布，由此形成液晶相， 然后通过加热或用电离辐射照射以聚合和固定所述化合物；和功能层，通过在所述光学各向异性层上直接涂布含有自由基光聚合引发剂的溶液而提{共。
14.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其中，所述光学各向异性层是拉伸过的膜。
15.如权利要求1-14中任一项所述的方法，其中步骤(I)通过如下方法进行通过在 转移的目标材料上转移包含光学各向异性层的转移材料以制备所述双折射图案构造体。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述转移材料依次包含临时支持体、光学各向异 性层和用于转移的粘合层。
17.—种通过权利要求1-16中任一项所述的方法可得到的用作防止伪造的手段的产品。
18.—种通过权利要求1-16中任一项所述方法可得到的用作光学元件的产品。
全文摘要
本发明公开一种制备图案化的双折射产品的方法，该方法依次包括至少步骤(I)～(III)(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体，所述聚合物具有未反应的反应性基团；(II)对所述双折射图案构造体的区域进行加热；和(III)使所述双折射图案构造体经受使所述光学各向异性层中的至少一部分未反应的反应性基团反应的过程。
文档编号G02B5/30GK102037385SQ200980118050
公开日2011年4月27日 申请日期2009年3月16日 优先权日2008年3月18日
发明者兼岩秀树, 网盛一郎 申请人:富士胶片株式会社