表膜构件框体、表膜构件和表膜构件框体的使用方法

专利名称：表膜构件框体、表膜构件和表膜构件框体的使用方法
技术领域：
本发明涉及作为表膜构件(pellicle)的构成构件的框体、特别是作为长边长 度大于1400mm的超大型表膜构件的构成构件的表膜构件框体及使用了表膜构件框体的 表膜构件和表膜构件框体的使用方法，上述表膜构件用于防止在制造构成LSI、液晶显 示器(LCD)的薄膜晶体管(TFT)、滤色片(CF)等时的光刻工序所用的光掩模、中间掩模 (reticle)上附着异物。
背景技术：
本发明是涉及作为表膜构件的构成构件的框体和表膜构件的技术，首先说明表膜 构件。以往，在制造半导体电路图案等时，使用通常被称作表膜构件的防尘部件来防止 异物附着于光掩模、中间掩模上。表膜构件是这样形成的在形状与例如光掩模或中间掩模 的形状相匹配的、厚度为几毫米左右的框体的上表面上铺展并粘接厚度为10 μ m以下的硝 酸纤维素或纤维素衍生物(cellulosederivative)或氟系聚合物等透明的高分子膜(以下 称作“表膜”)，且在该框体的下表面上涂覆粘合材料，并且以规定的粘接力在该粘合材料上 粘接保护膜，从而形成表膜构件。上述粘合材料用于将表膜构件粘着于光掩模或中间掩模上，另外，保护膜用于保 护该粘合材料的粘接面，以在该粘合材料被用于上述用途之前维持该粘合材料的粘接力。通常，该种表膜构件由制造表膜构件的生产商供应给制造光掩模或中间掩模的生 产商，光掩模或中间掩模的生产商将表膜构件粘贴在光掩模或中间掩模上之后再供应给半 导体生产商、面板生产商等进行光刻处理的生产商。近年来，随着各种多媒体的推广，需要高画质、能够高精度地显示的大型的彩色 TFTIXD (薄膜晶体管液晶显示器)。相应地，人们希望开发出一种能够应用于在光刻工序中 使用的大型的光掩模、中间掩模的大型的表膜构件。作为能够应用于在大型的TFTLCD (薄膜晶体管液晶显示器)等的光刻工序中使用 的大型的光掩模、中间掩模中的表膜构件的框体，通常是具有长边和短边的矩形的框体。在 将表膜粘贴在该框体上时，框体的边因该表膜的张力而向内侧变形，该变形有时使光掩模、 中间掩模的有效曝光区域减小，随着表膜的铺展面积的增大(表膜变大)，上述的有效曝光 区域减小的现象越加明显。针对该现象，在极力维持住表膜构件框体的内侧面积(以下称 作有效面积)的状态下提高表膜构件框体的刚性，能够防止上述现象发生(例如参照专利 文献1)。专利文献1 日本国特开2001-109135号公报但是，随着近年来的进一步大型化而产生了新的问题。该问题是近年来的进一步大型化要求光掩模、中间掩模(以下简称作掩模)本身 也大型化，由此出现了在以往的掩模大型化中未构成问题的、因掩模本身进一步大型化而 导致掩模因自身的重量增加而发生挠曲的问题。
S卩，由于表膜构件在与掩模紧密接触的状态下使用，因此，在表膜构件不能追随掩 模的挠曲的情况下，掩模与表膜构件的粘贴面剥离，在掩模与表膜构件之间产生气体通路， 存在不能获得想要利用表膜构件获得的效果。特别是，在操作工序方面，针对被粘接在掩模 等上之后的表膜构件，多数情况下是把持掩模的短边侧部分而对表膜构件进行处理，因此 要求表膜构件的框体追随长边侧的掩模等的挠曲。如上所述，在以往的表膜构件的大型化中，针对防止表膜构件自身挠曲的这一问 题，将提高表膜构件的刚性作为解决方案，但是表膜构件的进一步大型化(超大型化)不仅 需要提高表膜构件的刚性，还需要使表膜构件追随粘贴有该表膜构件的掩模因本身的大型 化而导致的自身的挠曲、特别是在操作工序上追随长边侧的挠曲。换言之，可以说要求超大 型化的表膜构件兼具刚性和柔软性这两者。这样，掩模的超大型化使应用于该种掩模的超大型表膜构件产生了新的问题。

发明内容
本发明的目的在于解决由表膜构件的超大型化产生的新的问题，第一技术方案的 目的在于提供这样的表膜构件框体在将表膜铺展并粘接于表膜构件框体上时该框体不会 变形，此外，在将表膜构件粘贴在掩模上后，表膜构件框体自身也能追随掩模因自身的重量 而产生的挠曲。此外，在超大型表膜构件中同时也谋求下述特性在进行从将表膜铺展并粘接在 表膜构件框体上后到将表膜构件粘贴于掩模上的期间内的处理时，框体也不会变形。第二 技术方案的目的在于提供这样的表膜构件框体在将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上 时，框体不会变形，而且在进行从将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上后到将该表膜构件 粘贴于掩模上的期间内的处理时，框体也不会变形，此外在将表膜构件粘贴在掩模上之后， 表膜构件框体自身也能追随掩模因自身的重量而产生的挠曲。为了达到上述目的，本发明人进行了潜心研究，结果发现通过限定超大型表膜构 件框体的应变度α、追随度β，能够达到上述目的，由此提出了本发明中的第一技术方案。另外，本发明人发现通过相对于表膜构件框体的长边Ia的宽度Wa以指定的比例 增大短边Ib的宽度ffb，能够达到上述目的，由此提出了本发明中的第二技术方案。SP，本发明如下所述。(1) 一种表膜构件框体，其为矩形，该表膜构件框体的应变度α为0.06%以下，下 述通用式(1)所示的该表膜构件框体的各边的追随度β为3mm以上，该表膜构件框体的长 边的追随度β为32mm以下，且框体的长边长度为1400mm 2100mm，并且该表膜构件框体 的内侧面积为15000cm2以上。β = (1/表膜构件的挠曲量)X厚度X宽度 (1)(2)根据第(1)技术方案所述的表膜构件框体，该表膜构件框体的短边宽度是长 边宽度的1. 05倍 1. 50倍。(3) 一种表膜构件框体，其为矩形，该表膜构件框体的长边宽度Wa为13. Omm 30. Omm,短边宽度Wb与长边宽度Wa之比Wb/Wa为1. 05 1. 50，长边长度为1400mm 2100mm，框体的内侧面积为16000cm2以上。(4)根据第(1) (3)技术方案中任意一项所述的表膜构件框体，构成该表膜构件框体的材料是铝或铝合金。(5)根据第⑴ (4)技术方案中任意一项所述的表膜构件框体，对表膜构件 框体的表面实施铝钝化处理、黑色化处理以及封孔处理，该封孔处理是对因进行了铝钝 化处理而形成的微小的孔的开口部实施的处理，从而实际上在该表面上不存在微裂纹 (micro-crack) 0(6) 一种表膜构件，其是通过将表膜铺展在第⑴ (5)技术方案中任意一项所述 的表膜构件框体上而获得的该表膜构件。(7) 一种表膜构件框体的使用方法，分别把持第(6)技术方案所述的表膜构件的、 表膜构件框体的相对的一组短边中的各短边的至少一处，将表膜构件粘贴在掩模上，之后 将粘贴有该表膜构件的掩模使用于曝光处理。本发明的表膜构件框体具有适度的刚性和柔软性，因此，在将表膜铺展并粘接在 表膜构件框体上时，框体不会变形，而且也不会减小表膜构件的以内侧面积计的有效曝光 区域。此外，由于在将表膜构件粘贴在掩模上之后表膜构件也能追随掩模的挠曲，因此也不 会在掩模与表膜构件的粘接面上产生气体通路。此外，采用第二技术方案，在进行从将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上之后到 将表膜构件粘贴于掩模上的期间内的处理时，框体也不会变形。另外，本发明的表膜构件框体在超大型表膜构件的情况下效果显著，详细而言，在 有效面积为15000cm2以上的超大型表膜构件的情况下，本发明的表膜构件框体能够起到显 著的效果。


图1是表示本发明的表膜构件框体和使用了该框体的表膜构件的结构的立体图。图2是图1的表膜构件框体的与长边的长度方向垂直的面的剖视图。图3是图1的表膜构件框体的与短边的长度方向垂直的面的剖视图。图4A是表示表膜构件框体的测量边的初始长度的说明图。图4B是表示表膜构件框体被支承而发生了挠曲的状态的说明图。图4C是表示表膜构件框体的测量边的被支承后的长度的说明图。图5是表示将表膜构件框体支承在台上的状态的说明图。
具体实施例方式下面，说明用于实施本发明的实施方式。下述实施方式是用于说明本发明的例示， 并非意指本发明限定于下述内容。本发明的表膜构件框体的形状是与掩模的形状相似的矩形。表膜构件框体的长边 是指框体的最长边，表膜构件框体的短边是指框体的最短边。更详细而言，在表膜构件框体 为长方形的情况下，正交的两个边中的相对较长的边是长边，相对较短的边是短边，在表膜 构件框体为正方形的情况下，4个边均为相同长度。在表膜构件框体为正方形的情况下，可 以将任意的边定义为长边，将任意的边定义为短边。应变度α以下述通用式( 表示。该应变度α以下述方法测量。下面，使用图 4Α、图4Β、图4C、图5说明应变度α的测量方法。
首先，对将要测量应变度α的表膜构件框体1的一边的长度(初始状态的长度) L 1(如图4Α所示)进行测量。然后，如图5所示，利用台20支承表膜构件框体1的不测量 应变度α的相对的两个边的下表面(不接触上表面)。此时，从下方支承不测量应变度α 的边的整个长度，且支承表膜构件框体1的距端部15mm的部位。例如，在测量表膜构件框 体1的短边时，为了避免长边挠曲，利用台20从下方支承长边的整个长度。在测量表膜构件 框体1的长边时，利用台20从下方支承短边的整个长度。在该状态下保持10分钟(如图 4B所示)，之后停止支承，将表膜构件框体笔直地静置在平坦的台上，10分钟后再次测量要 测量的一边的长度(被支承后(施加有由自重产生的力之后)的长度)L2(如图4C所示)， 根据下述式子算出被支承后的长度L2相对于初始状态的长度L2的伸长率，以该伸长率作 为应变度α。测量时的温度为23. 8°C，相对湿度为74% RH。[(被支承后的长度L2/初始状态的长度L1)-1]X100(% ) (2)另外，由于矩形的表膜构件框体有4个边，因此采用相同的方法测量各个边，以应 变度α最大的数值作为表膜构件框体的应变度a。另外，当边的宽度在上表面和底面不 同的情况下，将边的宽度相对较宽的面置于下方而测量应变度α。表膜构件框体的应变度 α的下限只要为0%以上即可，上限为0. 06%以下，优选为0. 02%以下，最优选为0. 01 %以 下。另外，表示表膜构件框体对掩模的追随的追随度β以下述通用式(1)表示，表膜 构件框体的各边的β的下限为3mm以上，更优选为4mm以上，该表膜构件框体的长边的追 随度的上限为32mm以下，优选为25mm以下。表膜构件框体的短边的追随度优选为IOOmm 以下，更优选为80mm以下，特别优选为50mm以下。β = (1/表膜构件的挠曲量)X厚度X宽度 (1)追随度β的测量方法如下所述。首先，如图5所示，利用台20支承表膜构件框体1的不测量追随度β的相对的两 个边的下表面。此时，从下方支承不测量追随度β的边的整个长度，且支承表膜构件框体1 的距端部15mm的部位。例如，在测量表膜构件框体1的短边时，为了避免长边挠曲，利用台 20从下方支承长边的整个长度。在测量表膜构件框体1的长边时，利用台20从下方支承短 边的整个长度。在该状态下保持10分钟，之后如图4B所示，对要测量的边的最大挠曲部分 相对于初始状态的位置的变化量进行测量，将该变化量记作表膜构件的挠曲量ΔΤ。然后， 用该挠曲量ΔΤ的倒数乘以要测量的边的厚度和宽度，得出追随度β。测量表膜构件框体 1的所有边的追随度β。另外，当边的宽度在上表面和底面不同的情况下，将边的宽度相对 较宽的面置于下方而测量追随度β。在测量上述应变度α的同时测量追随度β。该追随度β是表示体现表膜构件框体能够以何种程度追随掩模的挠曲的柔软性 的指标。因而，可以说数值越小，追随度越高，但在追随度过高时，在铺展表膜时、处理时会 产生褶皱，因此必须将追随度β控制在上述范围内。另外，表膜构件框体的厚度的下限优选为4. Omm以上，更优选下限为5. Omm以上， 特别优选为6. Omm以上。另一方面，该厚度的上限优选为IOmm以下，更优选为8mm以下，进 一步优选为7mm以下，特别优选为6. 5mm以下。表膜构件框体的宽度优选为13mm以上，更优选为14mm以上，进一步优选为16mm 以上。另一方面，该宽度的上限优选为30mm以下，更优选为25mm以下，进一步优选为19mm以下。另外，长边和短边可以是相同的宽度，也可以是分别不同的宽度。另外，例如如图2、图3所示，表膜构件框体的边的宽度是指宽度Wa、Wb那样的各 边的最大宽度。作为表膜构件框体的各边的截面形状，没有特别限定，可以是矩形、H字形、T字形 等，但最优选矩形。截面也可以是中空构造。本发明的表膜构件框体越是超大型，效果越明显，详细而言，在表膜构件框体的长 边长度为1400mm以上、特别是为1700mm 2100mm、表膜构件的有效面积为16000cm2以上、 24000cm2以上、特别是为25000cm2以上的情况下，能够起到显著效果。另外，虽然本发明的表膜构件框体是表膜构件越大型越能起到显著的效果，但是 从用于制造TFTIXD的掩模等所要求的尺寸来看，框体的有效面积的上限为35000cm2就已 足够。另外，在长边长度为1400mm以上的大型表膜构件中，为了提高处理工序中的自由 度，优选只把持短边侧的两个边或长边侧的两个边的任意一方的边而进行处理，特别是考 虑到作业效率，优选把持短边侧的两个边的把持方法。在表膜构件框体的短边宽度Wb与长 边宽度Wa之比ffb/Wa为1.05以上时，当以把持短边侧的两个边的把持方法进行处理时，能 够始终从刚性高的边侧把持，从而能够抑制在处理时产生褶皱。能够从表膜构件的宽幅的 短边方向进行该表膜构件的处理，把持时的把手部分较宽，也能提高方便性。从提高处理性 的观点出发，特别优选在表膜构件框体的短边侧形成把持用的凸部、凹部。另外，当Wb/Wa 为1.50以下时，即使在立起表膜构件框体的情况下(使长边侧与地面垂直、使短边侧与地 面平行的情况)，由于能够抑制长边侧变形，因此也能够抑制产生褶皱。在表膜构件的有效 面积为16000cm2以上那样的超大型表膜构件中，为了提高作业效率，优选使表膜构件旋转 来对表膜表面进行异物检查。届时，虽然经由立起表膜构件框体的工序，但当ffb/Wa为1. 50 以下时能够抑制长边侧变形，因此能够抑制在异物检查工序等中表膜产生褶皱。表膜构件框体1的短边Ib的宽度ffb、详细而言短边Ib的宽度Wb相对于长边Ia 的宽度Wa的比例(Wb/Wa)优选为1. 05以上，更优选为1. 1以上，优选该比例的上限为1. 50 以下，更优选为1.25以下，特别优选为1.2以下。作为构成本发明的表膜构件框体的材料，例如可以举出机械构造用碳钢(S C系列 等)、工具钢(碳工具钢SK系列、高速工具钢SKH系列、合金工具钢SKS系列、SKD系列、SKT 系列等)、马氏体系不锈钢系列(SUS403、SUS410、SUS410S、SUS420J1、SUS420J2、SUS^9J1、 SUS440A、SUS304 等)、铝、铝合金(5000 系、6000 系、7000 系等)等金属、陶瓷(SiC、A1N、 Al2O3等)、陶瓷和金属的复合材料(Al-SiC、A1-A1N、Al-Al2O3等)，优选使用铝、铝合金，更 详细而言可以使用铝和镁的合金、铝和镁及硅的合金、铝和锌及镁的合金。另外，由于上述各钢材是磁性材料，因此，能利用磁铁固定该各钢材，特别是在大 型表膜构件框体的情况下，能够良好地进行加工作业，因此优选。也可以对表膜构件框体的 表面实施黑色镀铬、黑色钝化铝、黑色涂装等黑色化处理。其中，进一步说明上述处理中的黑色钝化铝。作为表膜构件用的支承框，通常大多使用5000系的铝合金，因此以铝合金为例进 行说明。通常的黑色钝化铝处理这样实施在利用铝合金成形出表膜构件支承框后，进行铝钝化处理，利用黑化剂对由该处理产生的微细孔进行封入处理，然后实施将该微细孔封 闭起来的封孔处理。但是，当利用电子显微镜观察上述那样采用通常方法制成的支承框的 表面时，发现有微细的裂纹(微裂纹)。在该微裂纹的图案不断微细化、布线宽度更窄时，进 入到该裂纹中的极小的异物的落下也构成问题。作为防止该种微裂纹产生的方法，优选采 用下述方法。首先，对表膜构件框体的表面进行铝钝化处理。以硫酸浓度为10 20%、电流密 度为1 2A/dm2、电解液温度为15 30°C、通电时间在10 30分钟的范围内的条件来进行 该铝钝化处理。届时，在合金的表面有规则地形成有许多微小的孔(直径为50 200人、 间距为500 1500人)。之后，利用该孔进行黑色化处理。由于黑色化处理的目的是防止 光自框反射，因此并不限定于黑色，也包括接近于黑色的茶色、藏蓝色等深色。黑色化处理 可以举出染色、电解着色等。染色是通过将框体浸渍在溶解有黑色染料的液体中而使该孔 吸附染料由此获得色调的方法，另外，电解着色是通过通电来使该孔析出金属元素而获得 色调的方法。染色例如在染料浓度为3 10g/L、染色液温度为50 65°C的条件下进行。接下来，进行将该孔封闭起来的封孔处理。在该处理中，使用的是添加有6 12g/ L的例如被称作低温封孔剂的日华化学工业(株)制的Hardwa113( ？、一 F ,才一 > )(商 品名)封孔助剂的煮沸水。利用此时的封孔处理来填埋钝化铝膜表面的微细孔，从而使钝化铝膜变得越来越 致密，但是若能以比100°c稍低的温度、例如70 95°C、更优选80 90°C的温度来进行封 孔处理，则能够形成具有极均勻的表面性、实际上不存在微裂纹的表膜构件框体。另外，采用下述方法来判断是否存在微裂纹在利用电子显微镜将支承框表面放 大1000倍后得到的照片上画出10cm(实际尺寸为0. Imm)的直线，计算与该直线交叉的裂 纹的数量。裂纹的数量是对裂纹的宽度为能在该电子显微镜照片上看到、即裂纹宽度为 0. Iym以上的裂纹进行统计而得出的。该数值越大，判断出裂纹越是高密度地存在的。也可以依据需要在表膜构件框体的内壁面或整个表面上涂覆用于捕捉异物的粘 合材料(丙烯酸系、醋酸乙烯系、硅系、橡胶系等)、润滑脂(硅系、氟系等)。另外，当依据需要而开设贯穿表膜构件框体的内部和外部的微细孔、从而消除由 表膜构件和光掩模形成的空间中的内外气压差时，能够防止膜鼓出、凹陷。另外，此时若在微细孔的外侧安装去除异物过滤器，除了能够调整气压，还能防止 异物进入到由表膜构件和光掩模形成的空间中，因此优选在微细孔的外侧安装去除异物过滤器。在由表膜构件和光掩模形成的空间的容积较大的情况下，当设置多个上述孔、过 滤器时，能够缩短由气压变动而导致的膜的鼓出、凹陷的恢复时间，因此优选设置多个上述 孔、过滤器。本发明的表膜构件框体通过满足上述要件而能够兼具适度的刚性和柔软性，因此 不会因铺展表膜而使框体变形，当然，在单独对该表膜构件进行处理时该表膜构件也不会 挠曲，而且在之后的将该表膜构件粘贴在掩模上后的处理中该表膜构件还能追随掩模自身 的挠曲。结果，表膜构件不会出现褶皱，且还能追随掩模的挠曲，因此还能起到不会产生气 体通路这一优异效果。以上说明了本发明的表膜构件框体，但是通过将本发明的表膜构件框体形成为下述构造，能够进一步提高作为表膜构件框体的可靠性。例如，在将图1、图2和图3所示的表膜构件框体1的长边Ia和短边Ib形成为相 同的宽度Wa、Wb的情况下，能够获得表膜2的粘接面IalUbl的宽度Wc、Wd之间满足Wa = Wb > Wc = Wd的关系的构造。这样，在采用表膜构件框体1的宽度Wa、ffb比粘接面的宽度 Wc、Wd宽的构造时，能够利用粘接剂涂覆装置、例如X-Y分配机器人(dispenser robot)等 定量地涂覆表膜2与表膜构件框体1的粘接剂，因此能够将粘接剂均勻地涂覆于整个粘接 面。另外，通过将粘接宽度设定得比框体1的宽度窄，能够抑制粘接剂的涂覆不均、涂覆残 留，结果能够防止异物堆积在与涂覆不均、涂覆残留部分相对应的空间内。另外，当Wc = Wd 时，不用在长边和短边改变涂覆量就能够涂覆所有边，因此优选Wc = Wd0作为制造上述那样的满足Wa = Wb > Wc = Wd的关系的构造的方法，只要在表膜 构件框体1的表膜的粘接面侧形成倾斜面，就能够不形成台阶地形成倾斜面。另外，该倾斜 面也可以是曲面状。通过上述那样在表膜构件框体1的宽度与表膜的粘接面的宽度之间设计可达到 Wa = Wb > Wc = Wd的宽度差，也能获得防止粘接剂溢出框体1的膜粘接面Ibl而下垂到框 体1的内周部的效果。另外，以上说明的是Wa = Wb的情况，但即使表膜构件框体1的长边 Ia和短边Ib不是相同的宽度WaJb，只要满足Wa > ffc, Wb > Wd的关系，则能够获得上述 效果，另外，在Wc = Wd时，不用在长边和短边改变涂覆量就能够涂覆所有边，因此优选Wc
=Wdo第一技术方案的表膜构件框体能够较佳地追随该种光掩模光掩模的长边长度为 表膜构件框体的长边长度以上且在表膜构件框体的长边长度+150mm以下、且光掩模的短 边长度为表膜构件框体的短边长度以上且在表膜构件框体的短边长度+200mm以下。光掩 模的厚度只要是在粘贴了表膜构件框体之后能够承受表膜构件框体的重量(不损坏光掩 模那样的程度)的程度即可。作为光掩模的材质，可以使用碱石灰玻璃、无碱玻璃、低碱玻 璃、石英玻璃等，无论光掩模是何种材质，第一技术方案的表膜构件框体都能良好地追随该 光掩模。以上说明了第一技术方案的表膜构件框体的结构。接下来，说明本发明的第二技术方案。首先说明第二技术方案的表膜构件框体1的宽度。图2所示的表膜构件框体1的 长边Ia的宽度Wa的下限为13. Omm以上，优选下限为14. Omm以上，最优选为16. Omm以上。 另一方面，该宽度的上限为30. Omm以下，优选上限为25. Omm以下，更优选上限为19. Omm以下。另外，例如如图2、图3所示，表膜构件框体的边的宽度是指宽度Wa、Wb那样的各 边的最大宽度。图3所示的表膜构件框体1的短边Ib的宽度Wb必须至少比长边Ia的宽度Wa宽， 详细而言，短边Ib的宽度恥与长边Ia的宽度Wa的比例(Wb/Wa)的下限为1. 05以上，优 选为1. 1以上，该比例的上限为1.50以下，优选为1.25以下，最优选为1.2以下。因而，表 膜构件框体的短边宽度恥为13. 65mm 45. Omm的范围内的值。在长边长度为1400mm以上的大型表膜构件中，为了提高处理工序中的自由度，优 选只把持短边侧的两个边或长边侧的两个边的任意一方的边而进行处理，特别是考虑到作业效率，优选把持短边侧的两个边的把持方法。在表膜构件框体的短边宽度Wb与长边宽度 Wa之比ffb/Wa为1.05以上时，当以把持短边侧的两个边的把持方法进行处理时，能够始终 从刚性高的边侧把持，从而能够抑制在处理时产生褶皱。当能够从表膜构件的宽幅的短边 方向进行该表膜构件的处理时，把持时的把手部分较宽，也能提高方便性。从提高可处理 性的观点出发，特别优选在表膜构件框体的短边侧形成把持用的凸部、凹部。另外，当Wb/ Wa为1. 50以下时，即使在立起表膜构件框体的情况下(使长边侧与地面垂直、使短边侧与 地面平行的情况)，由于能够抑制长边侧变形，因此能够抑制产生褶皱。在表膜构件的有效 面积为16000cm2以上那样的超大型表膜构件中，为了提高作业效率，优选使表膜构件旋转 而对表膜表面进行异物检查。届时，虽然经由立起表膜构件框体的工序，但由于当ffb/Wa为 1. 50以下时能够抑制长边侧变形，因此在异物检查工序等中也能够抑制表膜产生褶皱。另外，优选框体1的厚度为4. Omm以上，更优选为5. Omm以上，进一步优选为6. Omm 以上。另外，优选该厚度的上限为IOmm以下，更优选为8mm以下，进一步优选为7mm以下， 最优选为6. 5mm以下。作为表膜构件框体的各边的截面形状，没有特别限定，可以是矩形、H字形、T字形 等，但最优选矩形。截面也可以是中空构造。本发明的表膜构件框体1越是大型，效果越明显，详细而言，在表膜构件框体1的 长边Ia的长度La为1400mm以上、特别是为1700mm 2100mm、且届时的表膜构件的有效 面积为16000cm2以上、24000cm2以上、特别是为25000cm2以上的情况下，能够起到显著效 果。另外，虽然本发明的表膜构件框体1是越大型越能起到显著的效果，但是从用于制造 TFTIXD的掩模等所要求的尺寸来看，框体的有效面积的上限为35000cm2就已足够。另外，在长边长度为1400mm以上的大型表膜构件中，对于将表膜构件粘贴在掩模 上之后的处理，在作业工序上，多数情况不是只把持掩模的短边、而是一起把持掩模和表膜 构件框体1的相对的一组短边Ib中的、各短边Ib的至少一处，当这样操作时能够提高作业 效率，在该情况下由掩模的自重而产生的挠曲在长边和短边上是不同的。详细而言，未把持 的相对的长边Ia方向上的掩模的挠曲变大。因此，要求表膜构件框体的挠曲追随长边方向 的挠曲。第二技术方案的表膜构件框体也能充分地追随具有该种特异性的掩模的挠曲。本发明的表膜构件框体通过满足上述要件而能够兼具适度的刚性和柔软性，因此 不会因铺展表膜而使框体变形，当然，在单独对该表膜构件进行处理时该表膜构件也不会 挠曲，而且在之后的将该表膜构件粘贴在掩模上后的处理中该表膜构件还能追随掩模自身 的挠曲。结果，不会因在将表膜铺展在表膜构件框体上时产生的表膜构件框体的变形而使 表膜构件的有效面积减小，该表膜构件还能追随掩模的挠曲，因此还能起到不会产生气体 通路的这一优异效果。此外，通过使短边的宽度大于长边的宽度，在处理表膜构件时能够易于把持表膜 构件框体的短边侧。结果，能够易于从与处理掩模时的把持部分相同的一侧处理表膜构件， 从而能够提高作业效率。在本发明的表膜构件框体1中，也优选上述框体1的长边Ia和短边Ib的表膜2 的粘接面IalUbl的宽度Wc、W大致相等。这里所述的长边Ia和短边Ib的膜粘接面lal、 Ibl的宽度Wc、W大致相等是指，使长边Ia和短边Ib的膜粘接面IalUbl的宽度Wc、Wd的差小于长边Ia和短边Ib的宽度Wa、ffb的差。S卩，如图2和图3的剖视图所示，指 > Wd-Wc。通常，利用粘接剂涂覆装置、例如X-Y分配机器人等涂覆表膜2与表膜构件框体1 的粘接剂。在该情况下，由于长边Ia和短边Ib的每单位长度的粘接剂涂覆量相同，因此， 若Wc < Wd，在将表膜2粘贴在表膜构件框体1上时，长边Ia上的粘接剂量较多，粘接剂有 时溢出框体1的膜粘接面Ial而下垂到框体1的内周部。另外，短边Ib上的粘接剂量不够充分，粘接剂不能在膜粘接面Ibl的整个表面上 均勻扩展开，在内侧、在表膜2与表膜构件框体1之间产生狭窄的间隙，异物有时被夹在该 间隙中。从该观点出发，通过如上所述那样使长边Ia和短边Ib的膜粘接面IalUbl的宽 度Wc、Wd大致相等，即使采用以往那样的简单的粘接剂涂覆装置，也能获得更加优选的表 膜构件。作为使长边Ia和短边Ib的膜粘接面IalUbl的宽度Wc、Wd大致相等的方法，只 要在表膜构件框体的至少框体1的长边Ia的表膜2的粘接面侧形成倾斜面，就能够不形成 台阶地形成倾斜面，从而能够防止异物堆积在表膜构件框体中。另外，该倾斜面也可以是曲 面状。另外，通过设置该倾斜面，能够防止粘接剂下垂到框体的内周部。优选倾斜面是不 会影响表膜构件框体的刚性、柔软性那样程度的大小。接下来，说明如下所述那样做成在上述本发明的第一技术方案和第二技术方案的 表膜构件框体的内侧面积为16000cm2以上的超大型表膜构件框体上铺展并粘接表膜而获 得的超大型表膜构件。作为表膜，可以使用纤维素衍生物(硝基纤维素、醋酸纤维素、醋酸丙酸纤维素、 醋酸丁酸纤维素等，或这些中的2种以上的混合物)、氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六 氟丙烯三元共聚物、主链中具有环状结构的聚合物即DUP ONT公司制的Teflon AF(商品 名)、旭硝子公司制的CYTOP (商品名)、7 ^ >卜公司制的Algoflon (商品名)等)等 聚合物等。表膜例如使用由聚合物溶液成膜形成的薄膜。该薄膜具有张力。另一方面，为了 防止表膜挠曲或产生褶皱，该张力是必需的。若表膜挠曲或产生褶皱，在想要通过鼓风而将附着在表膜上的异物去除时，该表 膜会大幅度地振动，很难去除上述异物。另外，由于表膜的高度在不同的位置是不同的，因 此表膜的异物检查机不能正常地发挥作用。另外，存在以光学方法测量表膜的高度时产生 误差等问题。对于现在所用的一次曝光液晶曝光机的光源即超高压水银灯，从提高耐光性、节 省成本的观点出发，优选使用醋酸丙酸纤维素、醋酸丁酸纤维素。表膜的膜厚优选为0. 5 μ m 10 μ m左右，在本发明的大型表膜构件中，从表膜的 强度、均勻的膜的制作难易度方面出发，优选表膜的膜厚为2μπ 8μπ 。利用上述聚合物 所分别适用的溶剂(酮系、脂系、乙醇类、氟系等)将该聚合物形成为聚合物溶液。相对于上述醋酸丙酸纤维素、醋酸丁酸纤维素，优选使用乳酸乙酯等酯系。依据需 要利用深度过滤器(cbpth filter)、膜式过滤器(membrane filter)等过滤聚合物溶液。
聚合物溶液的成膜法有旋涂法、滚涂法、刮刀涂覆法、铸涂法等，从均勻性、管理异 物的方面出发，优选旋涂法。当利用旋涂法在成膜基板上成膜了之后，依据需要利用加热板 (hotplate)、洁净烘箱(clean oven),(远)红外线加热等烘干溶剂，从而形成均勻的膜。 作为此时的成膜基板，利用合成石英、熔融石英、无碱玻璃、低碱玻璃、钠钙硅酸盐玻璃等。由于本发明的大型表膜构件的成膜用基板的尺寸较大，因此有时因为烘干时的温 度不均而使成膜基板断裂。为了防止该情况发生，优选成膜用基板的热膨胀系数越小越好。 特别是，优选0°c 300°C的线膨胀系数为50X10_7m/°C以下。另外，利用硅系、氟系等的材料对成膜用基板的表面预先实施分型处理较好。另 外，优选在上述表膜的单侧或两侧形成折射率比该表膜低的层(即防反射层)，从而能够提 高相对于曝光光线的透过率。作为防反射层的材料，可使用氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六氟丙烯三元 共聚物、主链中具有环状结构的聚合物即DUPONT公司制的Teflon AF(商品名)、旭硝子公 司制的CYTOP (商品名)、7々>卜公司制的Algoflon (商品名)、聚氟代丙烯酸酯等)、 氟化钙、氟化镁、氟化钡等低折射率的材料。在防反射层为聚合物的情况下，可以同样采用上述的旋涂法来形成该防反射层， 在防反射层为无机物的情况下，可以采用真空蒸镀、溅射等薄膜形成法来形成该防反射层。 考虑到异物，优选采用聚合物溶液的旋涂法。优选使用杜邦公司(〒.工·《 >社)生产的 特氟隆AF(歹7 口 > AF)(商品名)、奥斯蒙公司(々夕 >卜‘社)生产的Algoflon ( T > rf 7 口 > )(商品名)，这是因为这些材料的折射率小，所以防反射效果好。可以利用在铝合金、不锈钢、树脂等上粘贴粘合材料而形成的模板将利用上述方 法形成在成膜基板上的表膜从成膜基板上剥下，改贴在期望的表膜构件框体上。另外，也可 以在将期望的表膜构件框体粘接于成膜基板上之后从成膜基板上剥下该表膜构件框体。这样获得的大型表膜对表膜构件框体施加张力而在粘接剂的作用下粘接于框体 上。当膜的张力在适度的范围内时，能够抑制大型表膜因自重、大型表膜的内外气压 差而沿大型表膜的膜表面的铅垂方向膨胀、凹陷，从而能够防止曝光不良。另外，能够解 决在通过鼓风去除附着在表膜上的异物时、该表膜大幅度地振动而很难去除异物这样的问 题，还能解决由于表膜的高度因位置的不同而不同所导致的该表膜的异物检查机不能正常 发挥作用这样的问题，还能解决当以光学方法测量表膜的高度时产生误差这样的问题。另 外，能够确保相对于大型表膜构件的内外的气压变动的追随性能。用于粘接表膜和表膜构件框体的膜粘接剂根据表膜的材质和表膜构件框体的材 质而适当选择。例如，可以使用环氧系、丙烯系、硅系、氟系等粘接剂。另外，粘接剂的硬化方法可以采用各种粘接剂所适用的硬化方法(热硬化、光硬 化、厌氧硬化等)。从发尘性、成本、可操作性的方面出发，优选使用丙烯系的紫外线硬化型 粘接剂。作为用于将表膜构件框体粘贴在光掩模上的掩模粘合材料，可以应用本身具有粘 接力的热熔系(橡胶系、丙烯系)材料、在基材的两面涂覆粘合材料而形成的带类材料(作 为基材，可以应用丙烯系、PVC系等片材或橡胶系、聚烯烃系、聚氨酯系等泡沫等，作为粘合 材料，可以应用橡胶系、丙烯系、硅系等粘合材料)等。
在本发明的大型表膜构件中，作为掩模的粘合材料，为了能够以低负荷将表膜构 件均勻地粘贴在掩模上，优选使用比较柔软的热熔材料、泡沫。在使用泡沫的情况下，利用 丙烯系、醋酸乙烯系的粘合性材料或非粘合性材料来覆盖该泡沫的截面，从而能够防止自 泡沫发尘。掩模的粘合材料的厚度通常为0. 2mm以上，但为了能够将表膜构件均勻地粘贴在 光掩模上，优选该厚度为Imm以上。为了在将表膜构件粘贴于光掩模之前的期间内保护上 述掩模的粘合材料的粘接面，使用以硅系、氟系材料分型处理后的聚酯薄膜作为掩模的粘 合材料。用于输送表膜构件的壳体通过对丙烯系、ABS系、PVC系、PET系等的材料进行注 塑成形、真空成形而做成。为了防止上述材料带电，可以在上述材料中混炼入防带电剂，也 可以使用具有防带电构造的聚合物(” >〃公司生产的BAYON(商标)、旭化成公司生产的 ADION(商标))。为了防止壳体在输送过程中变形而损坏壳体内的表膜构件，本发明的超大型表膜 构件用的壳体优选在壳体的盖、盘或壳体的两侧设置加强筋构造，以提高对外力的抵抗性。另外，需要一种能够实现下述目的的方法除了能够可靠地把持表膜构件框体，还 能在之后的从收纳容器取出表膜构件时不使框体挠曲、扭转地取出框体的方法。并且，特别 是对于表膜构件本身较大、处理也较为困难的大型表膜构件来说，需要一种能够实现下述 目的的方法能够在收纳、搬运、保管该表膜构件时可靠地把持该表膜构件，而且在从收纳 容器取出该表膜构件时，能够不使表膜构件从保护膜与粘合材料的界面发生变形、挠曲地 取出该表膜构件，从而能够在取出后将该表膜构件直接粘贴于掩模等上。于是，为了不受光掩模的制约，通过在表膜构件框体的所有边部上分别形成把持 用的凸部或凹部，能够把持最长边的长度为1. 4m 2. Om的大型表膜构件。特别是，在第二技术方案中，由于短边侧的宽度大于长边侧的宽度，因此易于在短 边侧形成把持用的凸部、凹部。第二技术方案的表膜构件框体能够较佳地追随下这样的光掩模，该光掩模的长边 长度为表膜构件框体的长边长度以上且在表膜构件框体的长边长度+150mm以下，该光掩 模的短边长度为表膜构件框体的短边长度以上且在表膜构件框体的短边长度+200mm以下 的光掩模。光掩模的厚度只要是在粘贴了表膜构件框体之后能够承受表膜构件框体的重量 (不损坏光掩模那样的程度)的程度的厚度即可。作为光掩模的材质，可以使用碱石灰硅酸 盐玻璃、无碱玻璃、低碱玻璃、石英玻璃等，但无论光掩模是何种材质，第二技术方案的表膜 构件框体都能良好地追随该光掩模的挠曲。接下来，利用实施例更加详细地说明本发明。实施例第一技术方案的实施例实施例1 99、比较例1 71超大型表膜构件用框体1的长边Ia的长度(La)、短边Ib的长度(Lb)、框体的内 侧面积(有效面积)及框体的厚度如表1 表9所示。另外，表膜构件框体的长边Ia的宽 度(Wa)、短边Ib的宽度OVb)如表1 表9所示。另外，表膜构件框体的材质均使用铝合金，框体的截面形状为长方形。并且，所用的表膜构件框体是实施了黑色铝钝化处理的没有微裂纹的框体。使用上述那样的框体评价了实际的表膜构件的性能。详细内容如下所述。作为表膜，将纤维素酯的聚合物溶液涂覆在低碱玻璃上，利用旋涂法形成主膜。然后，同样地使用在该主膜上利用旋涂法涂覆氟系聚合物溶液而形成有防反射层 的、厚度为4μπι的表膜。将获得的表膜铺展并粘接在上述表膜构件框体上。在这里，评价了在将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上时是否产生褶皱(铺展膜 时的褶皱产生结果)。评价结果如表1 表9所示。在评价结果的标记中，“〇”表示完全 没有褶皱的状态，“Δ”表示在仔细观察膜时发现有少量波纹的状态，“ X，，表示有少量褶皱 的状态。然后，将铺展并粘接有表膜的表膜构件框体粘贴在石英玻璃上。此时的掩模粘合 材料均使用厚度为1. 2mm的苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯共聚物的橡胶系热熔粘合材料，在表膜 构件框体的掩模粘接面上涂覆该热熔粘合材料，然后将表膜构件框体粘贴在石英玻璃的规 定位置上。另外，各构件在使用前进行了超声波清洗。另外，石英玻璃的尺寸是石英玻璃的长边为所粘接的表膜构件的长边长度 +50mm，石英玻璃的短边为所粘接的表膜构件的短边长度+100mm。所用的石英玻璃的尺寸和 厚度如表17所示。此外，关于表膜构件框体的柔软性，通过测量表膜构件对掩模的追随度而进行了 评价。在使掩模的粘贴有表膜构件的面朝下地把持掩模的两个短边的状态下使粘贴在掩模 上的表膜构件悬浮在空中而放置，评价表膜构件追随掩模因自重而产生的挠曲的追随度。评价结果如表1 表9所示。追随度的评价基准是，将在粘贴于掩模后的一年内 没有变化的情况评价为“〇”，将粘接部分稍微翘起的情况评价为“Δ”，将产生了气体通路 的情况评价为“ X ”。另外，使用与上述框体相同规格的表膜构件框体以与上述条件相同的条件另外制 作将表膜铺展并粘接在该框体上而成的样品，使用该样品，把持长边地用上述测量条件测 量了相同边的应变度α和追随度β，结果综合参照表1 表9。综合评价中，将“追随度的评价结果”、“铺展膜时的褶皱产生结果”均为“〇”的情 况评价为“◎”、将上述两项中即使有一项为“Δ”的情况评价为“〇”，将上述两项中即使有 一项为“ X，，的情况评价为“ X ”。第二技术方案的实施例首先，说明本发明的表膜构件框体的评价方法。本发明的表膜构件框体兼具适度的刚性和柔软性，关于刚性，通过以目测的方式 判断在将表膜铺展在表膜构件框体上时是否产生了褶皱以及在之后处理表膜构件时是否 产生了褶皱来进行评价，关于柔软性，在使掩模的粘贴有表膜构件的面朝下地把持掩模的 两个短边的状态下使粘贴在掩模上的表膜构件悬浮在空中而放置，评价表膜构件追随掩模 因自重而产生的挠曲的追随度。实施例100 197、比较例72 141实施例和比较例所用的超大型表膜构件用框体1的长边Ia的长度(La)、短边Ib 的长度(Lb)、框体的内侧面积(有效面积)如表10 表16所示。另外，表膜构件框体的长边Ia的宽度(Wa)、短边Ib的宽度(Wb)和表膜构件框体的厚度也如表10 表16所示。另外，表膜构件框体的材质均使用铝合金，框体的截面形状为长方形。并且，所用 的表膜构件框体是实施了黑色钝化铝的没有微裂纹的框体。使用上述那样规格的表膜构件用框体来实际评价了性能。作为表膜，将纤维素酯的聚合物溶液涂覆在低碱玻璃上，利用旋涂法形成主膜。然后，同样地使用在该主膜上利用旋涂法涂覆氟系聚合物溶液而形成有防反射层 的、厚度为4μπι的表膜。将获得的表膜铺展并粘接在上述表膜构件框体上。另外，表膜构 件框体的处理均是通过把持一组短边中的各个边的一部分而实施的。在这里，评价了在将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上时是否产生了褶皱(铺展 膜时的褶皱产生结果)。评价结果如表10 表16所示。在评价结果的标记中，“〇”表示 完全没有褶皱的状态，“Δ”表示在仔细观察膜时发现有少量波纹的状态，“ X ”表示在膜上 有少量褶皱的状态。然后，将铺展并粘接有表膜的表膜构件框体粘贴在石英玻璃上。此时的掩模粘合 材料均使用厚度为1. 2mm的苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯共聚物的橡胶系热熔粘合材料，在表膜 构件框体的掩模粘接面上涂覆该热熔粘合材料，然后将表膜构件框体粘贴在石英玻璃的规 定位置上。另外，各构件在使用前进行了超声波清洗。另外，石英玻璃的尺寸是石英玻璃的长边为所粘接的表膜构件的长边长度 +50mm，石英玻璃的短边为所粘接的表膜构件的短边长度+100mm。所用的石英玻璃的尺寸和 厚度如表17所示。观察上述那样获得的被粘贴在光掩模上的表膜构件的表膜的表面，也评价了在从 将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上后到将该表膜构件粘贴在光掩模上的期间内的一连 串的处理工序中是否产生了褶皱(因处理而产生的褶皱的产生结果)。这里，一连串的处理工序是指由组装(表膜的铺展、粘接)工序后的输送工序一检 查工序一包装工序一出厂工序一取出工序一将表膜构件粘贴在光掩模上的工序构成的处 理工序。在组装工序后的输送工序中，使用工序内搬运用保持体以不会使表膜构件掉落那 样程度的把持力把持表膜构件框体的短边侧的4个角附近的部分，将表膜构件搬运至检查 工序。此时，以表膜构件的长边与地面平行、短边与地面垂直的状态将该表膜构件搬运至检 查工序。在检查工序中，经过一次绕表膜构件的水平轴线的上下旋转、一次绕铅垂轴线的左 右旋转、一次在以表膜的中心为轴线的表膜的平面上的90度旋转地进行检查。以表膜构件 的长边与地面平行、短边与地面垂直的状态将表膜构件搬运到包装工序。在包装工序中，以 附带着工序内搬运用保持体的状态将表膜构件收纳在表膜构件的收纳容器中。然后，在收 纳容器的内部卸下工序内搬运用保持体，从而仅将表膜构件收纳在收纳容器中。在出厂工 序中，以预计采用卡车输送的通常输送方式进行输送。此时，将收纳容器维持在水平状态。 在取出工序中，以表膜构件框体与地面水平的状态自收纳容器中取出表膜构件。在取出表 膜构件时，以不会使表膜构件掉落那样程度的把持力把持表膜构件框体的短边侧的4个角 附近的部分。在将该表膜构件粘贴在光掩模上的工序中，在表膜构件框体与地面水平的状 态下以不会使表膜构件掉落那样程度的把持力把持表膜构件框体的短边侧的4个角附近 的部分，保持该状态不变地借助表膜构件的掩模粘接剂将表膜构件粘贴在掩模上。在将表 膜构件粘贴在掩模上之后，仍然以不会使表膜构件的外形改变的那样的粘贴力牢靠地进行粘贴。评价结果如表10 表16所示。另外，评价基准与将表膜铺展并粘接在表膜构件 框体上时的评价基准相同。此外，以上述的对表膜构件对掩模的追随度的评价条件评价了柔软性。评价结果 如表10 表16所示(追随度的评价结果)。追随度的评价基准是在将表膜构件粘贴在 掩模上后，在使掩模的粘贴有表膜构件的面朝下地把持掩模的两个短边的状态下使粘贴在 掩模上的表膜构件悬浮在空中而放置，将在一年内没有变化的情况评价为“〇”，将粘接部 分稍微翘起的情况评价为“Δ”，将产生了气体通路的情况评价为“ X ”。综合评价中，将“追随度的评价结果”、“铺展膜时的褶皱产生结果”、“因处理而产 生的褶皱的产生结果”均为“〇”的情况评价为“◎”，将上述三项中即使有一项为“Δ”的情 况评价为“〇”，将上述三项中即使有一项为“ X，，的情况评价为“ X ”。
权利要求
1.一种表膜构件框体，其为矩形，该表膜构件框体的应变度α为0.06%以下，下述通 用式(1)所示的该表膜构件框体的各边的追随度β为3mm以上，该表膜构件框体的长边的 追随度β为32mm以下，且框体的长边长度为1400mm 2100mm，并且该表膜构件框体的内 侧面积为15000cm2以上。β = (1/表膜构件的挠曲量)X厚度X宽度 (1)
2.根据权利要求1所述的表膜构件框体，其特征在于，该表膜构件框体的短边宽度是长边宽度的1. 05倍 1. 50倍。
3.一种表膜构件框体，其为矩形，该表膜构件框体的长边宽度Wa为13. Omm 30. 0mm， 短边宽度Wb与长边宽度Wa之比Wb/Wa为1. 05 1.50，长边长度为1400mm 2100mm，框 体的内侧面积为16000cm2以上。
4.根据权利要求1 3中任意一项所述的表膜构件框体，其中，构成该表膜构件框体的材料是铝或铝合金。
5.根据权利要求1 4中任意一项所述的表膜构件框体，其特征在于，对上述表膜构件框体的表面实施铝钝化处理、黑色化处理以及封孔处理，从而实际上 在该表面上不存在微裂纹，该封孔处理是对因进行了铝钝化处理而形成的微小的孔的开口 部实施的处理。
6.一种表膜构件，通过将表膜铺展在权利要求1 5中任意一项所述的表膜构件框体 上而获得该表膜构件。
7.—种表膜构件框体的使用方法，分别把持权利要求6所述的表膜构件的表膜构件框 体的相对的一组短边中的各短边的至少一处，将表膜构件粘贴在掩模上，之后将粘贴有该 表膜构件的掩模使用于曝光处理。
全文摘要
本发明提供表膜构件框体、表膜构件和表膜构件框体的使用方法。在将表膜铺展并粘接在表膜构件框体上时框体不会变形，此外在将表膜构件粘贴在掩模上后，表膜构件框体自身也能追随掩模因自重而产生的挠曲。表膜构件框体为矩形，该表膜构件框体的应变度α为0.06％以下，下述通用式(1)所示的该表膜构件框体的各边的追随度β为3mm以上，该表膜构件框体的长边的追随度β为32mm以下，且框体的长边长度为1400mm～2100mm，并且该表膜构件框体的内侧面积为15000cm2以上。β＝(1/表膜构件的挠曲量)×厚度×宽度(1)。
文档编号G03F1/64GK102132210SQ20098013349
公开日2011年7月20日 申请日期2009年9月11日 优先权日2008年9月12日
发明者北岛慎太郎, 栗山芳真 申请人:旭化成电子材料株式会社