专利名称：防反射色差补正成膜滤光片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及数码相机等光学仪器使用的一种滤光片，特别与其中的防反射色 差补正成膜滤光片有关。
背景技术：
数码相机是通过C-M0S和(XD把拍照的对象从模拟对象转化为成数字式，这种情 形下作为C-M0S和CCD的盖片玻璃需要使用一种滤光片，采取滤光片的目的是为了抑制光 亮衰减。为了实现上述抑制光亮衰减的需要，通常在滤光片的玻璃基片上设置有反射防止 膜。但现有技术中上述滤光片的反射防止膜所采取的技术方式不尽合理，还有待于进一步 改进。
实用新型内容本实用新型的任务在于提供一种防反射色差补正成膜滤光片。其技术解决方案是一种防反射色差补正成膜滤光片，包括玻璃基片，在玻璃基片的某一侧面或两侧 面设置有成膜，上述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五 膜层作为最上层；上述第一膜层的厚度为18nm，第二膜层的厚度为93nm，第三膜层的厚度 为125nm，第四膜层的厚度为21nm，第五膜层的厚度为73nm。上述第一膜层为氟化镁膜层，第二膜层为氧化铝膜层，第三膜层为氧化镧与氧化 钛复合膜层，第四膜层为二氧化硅膜层，第五膜层为氟化镁膜层。上述第五膜层的外表面向内形成深度为30微米的凹陷部。本实用新型的有益技术效果是本实用新型采取上述成膜方式，经验证波长在420 680nm范围内，反射率能够达 到0. 8%以下，能够更为有效地抑制光亮衰减。此外，最下层采取氟化镁膜层，可以提高成膜与玻璃基片的附着性与紧密度即密 着性好。最上层也采取氟化镁膜层，有利于提高滤光片的强度，不易被划伤。第五膜层的外 表面采取凹陷部的方式，更便于接近画像元件。
以下结合附图
与具体实施方式
对本实用新型作进一步说明图为本实用新型的一种实施方式的剖示结构原理示意图。
具体实施方式
结合附图，一种防反射色差补正成膜滤光片，在玻璃基片1的一侧面设置有成膜。 上述成膜由第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5及第五膜层6依次制备形成。 第一膜层2作为最下层即与玻璃基片1的邻接层，第五膜层作为最上层即最远离玻璃基片1的一层。第一膜层为氟化镁膜层，膜层厚度为18nm，第二膜层为氧化铝膜层，膜层厚度为 93nm，第三膜层为氧化镧与氧化钛复合膜层即由氧化镧与氧化钛混合物制备的膜层，膜层 厚度为125nm，第四膜层为二氧化硅膜层，膜层厚度为21nm，第五膜层为氟化镁膜层，膜层 厚度为73nm。上述成膜中各膜层的制备可采取现有技术中的有关镀膜技术方式如真空蒸镀法， 或磁控管溅镀法等实施。还可通过设定镀膜时发生飞溅的条件，使上述第五膜层的外表面向内形成深度为 30微米的凹陷部，即得到满足表面凹陷要求的滤光片。除上述实施方式外，防反射色差补正成膜滤光片也可以这样实施，即在玻璃基片 的两侧面均设置有上述方式中的成膜。
权利要求一种防反射色差补正成膜滤光片，包括玻璃基片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜，其特征在于所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五膜层作为最上层；所述第一膜层的厚度为18nm，第二膜层的厚度为93nm，第三膜层的厚度为125nm，第四膜层的厚度为21nm，第五膜层的厚度为73nm。
2.根据权利要求1所述的防反射色差补正成膜滤光片，其特征在于所述第一膜层为 氟化镁膜层，第二膜层为氧化铝膜层，第三膜层为氧化镧与氧化钛复合膜层，第四膜层为二 氧化硅膜层，第五膜层为氟化镁膜层。
3.根据权利要求1或2所述的防反射色差补正成膜滤光片，其特征在于所述第五膜 层的外表面向内形成深度为30微米的凹陷部。
专利摘要本实用新型公开一种防反射色差补正成膜滤光片，在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜，特征是所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成，第一膜层作为最下层，第五膜层作为最上层，第一膜层的厚度为18nm，第二膜层的厚度为93nm，第三膜层的厚度为125nm，第四膜层的厚度为21nm，第五膜层的厚度为73nm。其中第一膜层为氟化镁膜层，第二膜层为氧化铝膜层，第三膜层为氧化镧与氧化钛复合膜层，第四膜层为二氧化硅膜层，第五膜层为氟化镁膜层。本实用新型采取上述成膜方式，经验证波长在420～680nm范围内，反射率能够达到0.8％以下，能够更为有效地抑制光亮衰减。
文档编号G02B5/20GK201583677SQ20102010272
公开日2010年9月15日 申请日期2010年1月28日 优先权日2010年1月28日
发明者中山恭司, 山崎武志, 石田克则 申请人:青岛豪雅光电子有限公司