专利名称：一种微影制作方法
技术领域：
本发明属于太阳能电池技术领域，尤其涉及一种微影制作方法。_
背景技术：
微影工艺(lithography process)在如今的微电子工业中扮演着十分重要的角色，其主要包括贴膜、曝光(exposure)与显影(development)等步骤。其中，贴膜过程是通过贴膜机把干膜贴到处理好的芯模上，为接下来的图形转移做准备。贴膜操作好能使干膜很好的粘附在芯模上，避免产生变形与气泡。曝光则是得到优良的干膜抗蚀图像非常重要的一个制作过程。当曝光不足时，由于单体聚合的不彻底，在显影过程中，胶膜溶涨变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶，在电镀前处理或电镀过程中，膜起翘、渗镀、甚至脱落。当曝光过头时，会造成难于显影，胶膜发脆、留下残胶等弊病。更为严重的是不正确的曝光将产生图像线宽的偏差，因此曝光掌握好对于生产出高品质产品是相当重要的。显影操作一般在显影机中进行，控制好显影液的温度，传送速度，喷淋压力等显影参数，能够得到好的显影效果。显影点太高，未聚合的抗蚀膜得不到充分的清洁显影，抗蚀剂的残余可能留在板面上。如果显影点抓得太低，已聚合的干膜由于与显影液过长时间的接触，可能被浸蚀而变得发毛，失去光泽，因此需要对显影点做一个很好的管控。基于以上的分析 ，贴膜、曝光与显影就需要有一个很好的工艺范围。而对于不同的干膜所包含的化学组分与化学特性也是不同的，因此在贴膜、曝光与显影过程中的工艺参数也是不同的，所以需要提供一种技术方案，已解决该等问题。
发明内容
为解决上述问题，本发明的目的在于提供一种微影制作方法，贴膜、曝光、显影以最优组合搭配参数来提高产品质量，确定不同种类干膜对应的曝光量以及显影参数来达到最佳广品质量。为实现上述目的，本发明的技术方案为:
一种微影制作方法，包括如下步骤:
510:选择芯模,选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题；
511:确定不同种类干膜对应的曝光量，对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定；
512:确定显影参数。进一步地，所述步骤SlO中，选择不锈钢304材质的钢板作为电铸芯模。
进一步地，所述芯膜的厚度为0.3mm或者1.8mm。进一步地，对于IOOum及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50Mr500MJ之间；而对于100unTl30um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500Mri000MJ之间。进一步地，所述步骤S12包括有:计算显影点，首先确定显影段的长度L，使贴膜的板以速度V1匀速前进，当板的前端到达显影段末尾时停止显影喷淋，让板传送出显影机，等板面水溃干净测量显净部分长度I，通过公式(L-l)/L*100%来计算显影点。本发明微影制作方法以合适厚度的芯模来解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题。确定不同种类干膜对应的曝光量以及显影参数来达到最佳产品质量。提高显影质量，提高了芯模表面质量以及使用次数，贴膜、曝光、显影以最优组合搭配参数提高产品质量。
图1是本发明微影制作方法的流程图示。
具体实施例方式为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。请参照图1所示，本发明微影制作方法包括如下步骤:
SlO:选择芯模
选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题。本发明实施例中，选择不锈钢304材质的钢板作为电铸芯模，不锈钢304材质的钢板表面及硬度都较其他材质的芯模好；其中，优选两种厚度:0.3mm、l.8mm。Sll:确定不同种类干膜对应的曝光量
对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定。本发明实施例中，IOOum及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50Mr500MJ之间，显影点控制在85% 90%之间，实用于电铸mask类产品。而100unTl30um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500Mri000MJ之间，显影点控制在899^93%之间，实用于普通PCB电铸产品。S12:确定显影参数
计算显影点，首先确定显影段的长度L，然后用速度V1使贴膜的板匀速前进，当板的前端到达显影段末尾时停止显影喷淋，让板传送出显影机，等板面水溃干净测量显净部分长度I。套用公式(L-l)/L*100%来计算显影点。如果没有达到预期的显影点，可以通过修改速度来调整显影点，具体公式为:V:=
(V1*预期的显影点)/本次的显影点。应用时，采用控制变量法分别对芯模、干膜、曝光能量、显影点进行定性的分析。其中，针对芯模，主要包括有如下分析步骤: 使用前检查板面的状况(包括平整度、光亮度、硬度、是否有划痕)，对不同型号的芯模进行标号分等级；将不同型号的芯模表面情况等级一样的取用做相同次数的生产；
观察、记录使用n次后芯模表面的状况以及做出产品的质量；
根据记录数据对芯模进行评定优、中、差，并对于评定优的生产进行选用。而对于干膜、曝光能量、显影点，针对不同的干膜曝光能量与显影点不尽相同。以一种干膜A为例进行介绍，主要包括如下步骤:
选用各种类型的开口图形进行曝光，曝光能量XmrYmj采用24节曝光尺进行确定；
固定曝光能量为Wmj (Xmj<ffmj<Ymj),做显影点实验，范围50% 95% ;根据作出的板开口情况确定显影点范围85% 93%。另外，还需进行组合试验以及定量分析。组合试验为:将曝光参数XmrYmj，显影参数859^93%进行组合实验，选出最优组合。确定最优组合:优等级芯模，Zmj曝光能量，859^93%显影点；而定量分析主要是按照定性参数优等级芯模，Zmj曝光能量，85% 93%显影点，做n轮实验验证效果，根据开口表现的具体情况进行改进，得出最后参数。以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的 任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种微影制作方法，其特征在于，包括如下步骤: 510:选择芯模,选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题； 511:确定不同种类干膜对应的曝光量，对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定； 512:确定显影参数。
2.如权利要求1所述的微影制作方法，其特征在于:所述步骤SlO中，选择不锈钢304材质的钢板作为电铸芯模。
3.如权利要求1所述的微影制作方法，其特征在于:所述芯膜的厚度为0.3mm或者1.8mm。
4.如权利要求3所述的微影制作方法，其特征在于:对于IOOMffl及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50Mr500MJ之间；而对于100unTl30um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500Mri000MJ之间。
5.如权利要求4所述的微影制作方法，其特征在于:所述步骤S12包括有:计算显影点，首先确定显影段的长度L，使贴膜的板以速度V1匀速前进，当板的前端到达显影段末尾时停止显影喷淋，让板传送出显影机，等板面水溃干净测量显净部分长度1，通过公式(L-1) /L*100%来计算显影点。
全文摘要
本发明公开一种微影制作方法，包括步骤S10选择芯模，选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题；S11确定不同种类干膜对应的曝光量，对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定；S12确定显影参数。本发明微影制作方法以合适厚度的芯模来解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题。确定不同种类干膜对应的曝光量以及显影参数来达到最佳产品质量。提高显影质量，提高了芯模表面质量以及使用次数，贴膜、曝光、显影以最优组合搭配参数提高产品质量。
文档编号G03F7/30GK103207525SQ20121001074
公开日2013年7月17日 申请日期2012年1月16日 优先权日2012年1月16日
发明者魏志凌, 高小平, 赵录军, 陈龙英 申请人:昆山允升吉光电科技有限公司