专利名称：一种液晶显示器亮点维修方法
技术领域：
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器的维修领域，尤其涉及一种液晶显示器亮点维修方法。
背景技术：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)的制造过程中，为了提高产品的良品率和品质，对不良进行维修是必不可少的。实际生产过程中，不良的种类很多。其中，有一种不良表现为IXD的显示屏上存在亮点，目前有一种维修方法可以将所述亮点维修成暗点。该维修方法为在TFT-LCD为常白模式时，将栅极的高电压采用激光焊接的方式加在漏极上，使液晶两端的电压保持在+4V以上，从而使对应像素显示为暗点。在进行上述维修的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题一方面，液晶两端的电压过高将导致RGB像素出现低亮点的情况；另一方面，在漏极上施加电压导通TFT和彩膜上的像素电极，会造成Particle (异物颗粒)类不良，维修成功率低下，甚至造成线不良。
发明内容
本发明的实施例提供一种亮点维修方法，可以解决低亮点问题，并提高维修成功率。为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案—种液晶显示器亮点维修方法，用于对液晶显示器的彩膜基板进行维修，彩膜基板主要包括基板、设置于该基板上的黑矩阵及彩膜层，所述黑矩阵包括多个矩阵条，利用激光进行如下步骤对被维修的子像素区域的彩膜进行改性处理；对所述被维修的子像素区域的彩膜进行碳化，形成碳化彩膜；对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜相邻的矩阵条进行老化处理，形成老化彩膜和老化矩阵条；在所述老化彩膜与基板之间形成缝隙；对所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中，使所述黑色颗粒覆盖于所述被维修的子像素区域的碳化彩膜上。具体的，对所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中具体包括对所述被维修子像素一侧的所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中； 对所述被维修子像素另一侧的所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中。
具体的，在所述缝隙中的黑色颗粒不足时，继续对与所述被维修子像素接触的所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中。优选地，所述方法还包括利用激光将所述缝隙中的黑色颗粒扩散均匀。优选地，在利用激光对被维修的子像素区域的彩膜进行改性处理之前，还包括对所述被维修的子像素区域的彩膜及与所述被维修子像素区域的彩膜相邻的矩阵条进行老化处理。优选地，当所述被维修的子像素区域为红色像素区域时，在对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜相邻的矩阵条进行老化处理，形成老化彩膜和老化矩阵条之后，还包括利用激光作用于所述红色像素区域的边缘。具体的，对被维修的子像素区域的彩膜进行碳化，形成碳化彩膜所用的激光的波长为第一波长，所述第一波长的取值范围为270nm 480nm ;其他步骤所用的激光的波长为第二波长，所述第二波长的取值范围为270nm 390nm。优选地，所述第一波长为466nm ;所述第二波长为349nm。本发明实施例提供的液晶显示器亮点维修方法，采用将彩膜碳化的化学性遮光方法，和将矩阵条颗粒化覆盖在彩膜上的物理性遮光方法相结合的方法维修液晶显示器上存在的亮点问题，这样可以解决低亮点问题，并提高维修成功率。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图；图2为本发明实施例提供的一种亮点维修方法的流程示意图；图3为本发明实施例提供的方法的第一种效果示意图；图4为本发明实施例提供的方法的第二种效果示意图；图5为本发明实施例提供的方法的第三种效果示意图；图6为本发明实施例提供的另一种亮点维修方法的流程示意图。
具体实施例方式
、
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。如图I所示为薄膜晶体管液晶显示器的彩膜基板，所述彩膜基板包括彩膜层2以及与彩膜层相邻的矩阵条1，图I中所示的彩膜为被维修的子像素区域的彩膜2，该子像素区域中处存在亮点，故需要对图中所示的彩膜处进行维修。本发明实施例提供了一种亮点维修方法，如图2所示，当需要维修子像素区域的彩膜有保护层时，所述方法包括以下步骤
201、对被维修的子像素区域的彩膜2进行改性处理。
可选的，利用波长范围为270nm 390nm，激光强度为225nJ 375nJ的激光以速率40 60 y m/s照射被维修的子像素区域的彩膜2，优选的激光强度为300nJ，速率为45 u m/s 该激光可以改变组成所述彩膜的材料的分子键结构，从而改变所述的材料性质，提高彩膜材料的耐热性，这样有利于激光对所述彩膜进行碳化。202、对所述被维修的子像素区域的彩膜进行碳化，形成碳化彩膜2-1。如图3所示为形成碳化彩膜2-1的效果示意图。可选的，利用波长范围为270nm 480nm的激光以速率60 75 y m/s照射被维修的子像素区域的彩膜2，对所述彩膜2进行碳化，使其变成黑色阻光的碳。优选的，所述激光的速率为70i!m/S。至此，已形成碳化彩膜2-1，完成了化学性遮光。优选的，此步骤中所用的激光波长为466nm。在对彩膜进行碳化的过程中，由于各像素区域的彩膜对激光的透过率不同，故碳化各像素区域时利用的激光的能量也不同，在现有技术中碳化蓝色像素区域所用的激光强度最大为2250 2650nJ，优选的激光强度为2500nJ。红色像素区域和绿色像素区域所用的激光强度为1750 2250nJ，优选的激光强度2000nJ。203、对所述碳化彩膜2-1及其周边与所述碳化彩膜相邻的矩阵条I进行老化处理，形成老化彩膜2-2和老化矩阵条1-1。可选的，利用波长范围为270nm 390nm，激光强度为150 225nJ的激光以速率60 75 y m/s对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜相邻的矩阵条进行预热，达到老化的目的，该激光强度优选175nJ，激光速率优选为70 u m/s。204、在所述老化彩膜2-2与基板之间形成缝隙3。如图4所示为形成缝隙3的效果示意图。可选的，利用波长范围为270nm 390nm的激光照射所述老化彩膜2-2，使所述老化彩膜2-2的材质发生变化，产生微小的收缩，从而在所述老化彩膜2-2与基板之间形成缝隙3。由于红、绿、蓝三个像素区域的彩膜对激光的透过率不同，为了保证不出现由于激光能量太低将导致形成的缝隙不完全，或激光能量太高又导致形成的缝隙太大，现有技术中采用作用于不同像素区域处的激光的能量也不同，分别为作用在蓝像素区域处的激光强度为900 1350nJ，速率为60 75iim/s，该激光强度优选llOOnJ，速率优选为70 y m/s ;作用于绿色像素区域处的激光强度为1275 1425nJ，速率为60 75 y m/s，该激光强度优选1350nJ，速率优选为70 y m/s ;作用于红色像素区域处的激光强度为1725 1875nJ，速率为50 65 y m/s，该激光强度优选1800nJ，速率优选为55iim/s。205、对所述老化矩阵条1-1进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒1-2落入所述缝隙中，使所述黑色颗粒覆盖于所述被维修的子像素区域的碳化彩膜2-1上。如图5所示为将黑色颗粒1-2覆盖在所述老化彩膜2-2上的效果示意图。可选的，利用波长范围为270nm 390nm的激光作用于所述老化矩阵条1_1，切断所述老化矩阵条1-1的分子键，将所述老化阵条1-1颗粒化。由于老化矩阵条1-1已颗粒化，形成的矩阵条黑色颗粒1-2之间不再存在分子作用力，故生成的黑色颗粒1-2会自动落入步骤204形成的缝隙3中，从而使所述黑色颗粒1-2覆盖于所述被维修的子像素区域的碳化老化彩膜2-2上。此步骤具体的可以为先利用波长范围为270nm 390nm的激光对所述被维修子像素一侧的所述老化矩阵条1-1进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒1-2落入所述缝隙3中；再对所述被维修子像素另一侧的所述老化矩阵条1-1进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒1-2落入所述缝隙3中。优选的，在所述缝隙3中的黑色颗粒1-2不足时，可以继续对与所述被维修子像素接触的所述老化矩阵条1-1进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒1-2落入所述缝隙中。步骤205中所用的激光强度为975nJ 1650nJ，速率为85 105 u m/s ;优选为激光强度为1300nJ，速率为95iim/s。
进一步的,如图6所示,所述方法还包括206、利用激光作用于所述红色像素区域的边缘。由于所述彩膜可以由红、绿、蓝三个像素形成，而同一激光对各像素的透过率是不同的，在步骤202用第二波长270nm 390nm的激光对所述彩膜进行碳化后，由于所述红色和绿色像素区域对激光对红像素的透过率小于蓝色像素区对激光的透过率，因此红色和绿色像素区域碳化较严重，导致所述红色像素区域和绿色像素区域的彩膜和与所述红色像素区域和绿色像素区域相邻的矩阵条交界处不平滑，故需要利用激光作用于所述红色像素区域的边缘。此步骤所使用的激光强度为1500nJ 1725nJ，速率为60 75 y m/s ;优选的激光强度为1600nJ，速率为70iim/s。207、利用激光将所述缝隙中的黑色颗粒1-2扩散均匀。可选的，在步骤205后可以利用波长范围为270nm 390nm，激光强度为1050nJ 1650nJ的激光以速率60 75 ii m/s将所述缝隙3中的黑色颗粒1_2扩散均匀，使所述老化彩膜2-2上的均匀、平整的覆盖上所述黑色颗粒，该步骤中激光强度优选1300nJ，速率优选为 70 u m/s。上述方法为需要维修子像素区域的彩膜有保护层时的方法，而当所述彩膜无保护层时，如图6所示，在步骤201之前，还包括步骤2001 2001、对所述被维修的子像素区域的彩膜2及与被维修的子像素区域的彩膜相邻的矩阵条I进行老化处理。由于所述被维修的子像素区域的彩膜无保护层，为了提高被维修的子像素区域的彩膜2所述彩膜及被维修的子像素区域的彩膜相邻的矩阵条I的耐热性，方便进行以后的步骤，降低异常现象产生的比率，需要对所述被维修的子像素区域的彩膜2所述彩膜及与被维修的子像素区域的彩膜相邻的矩阵条I进行老化处理。此步骤所使用的激光波长为270nm 390nm，激光强度为150nJ 225nJ，速率为60 75 y m/s ;该激光强度优选170nJ，速率优选为70iim/s。上述方法中步骤201、203 207、2001所用的激光的波长为第二波长，所述第二波长的范围为270nm 390nm,优选的，所述第二波长为349nm。本实施例中提供的液晶显示器亮点维修方法，采用将彩膜碳化的化学性遮光方法，和将矩阵条颗粒化覆盖在彩膜上的物理性遮光方法相结合的方法维修液晶显示器上存在的亮点问题，这样可以解决低亮点问题，并提高维修成功率。以上所述，仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求
1.一种液晶显示器亮点维修方法，用于对液晶显示器的彩膜基板进行维修，彩膜基板主要包括基板、设置于该基板上的黑矩阵及彩膜层，所述黑矩阵包括多个矩阵条，其特征在于，利用激光进行如下步骤 对被维修的子像素区域的彩膜进行改性处理； 对所述被维修的子像素区域的彩膜进行碳化，形成碳化彩膜； 对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜相邻的矩阵条进行老化处理，形成老化彩膜和老化矩阵条； 在所述老化彩膜与基板之间形成缝隙； 对所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中，使所述黑色颗粒覆盖于所述被维修的子像素区域的碳化彩膜上。
2.根据权利要求I所述的方法，其特征在于，所述对所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中具体包括 对所述被维修子像素一侧的所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中； 对所述被维修子像素另一侧的所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述缝隙中的黑色颗粒不足时，继续对与所述被维修子像素相邻的所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中。
4.根据权利要求I 3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括利用激光将所述缝隙中的黑色颗粒扩散均匀。
5.根据权利要求I 3所述的方法，其特征在于，在利用激光对被维修的子像素区域的彩膜进行改性处理之前，还包括 对所述被维修的子像素区域的彩膜及与所述被维修子像素区域的彩膜相邻的矩阵条进行老化处理。
6.根据权利要求I所述的方法，其特征在于，当所述被维修的子像素区域为红色像素区域时，在对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜的矩阵条进行老化处理，形成老化彩膜和老化矩阵条之后，还包括 利用激光作用于所述红色像素区域的边缘。
7.根据权利要求I 3或6所述的方法，其特征在于，所述对被维修的子像素区域的彩膜进行碳化，形成碳化彩膜所用的激光的波长为第一波长，所述第一波长的取值范围为.270nm 480nm ； 其他步骤所用的激光的波长为第二波长，所述第二波长的取值范围为270nm 390nm。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一波长为466nm； 所述第二波长为349nm。
全文摘要
本发明实施例提供了一种液晶显示器亮点维修方法，涉及薄膜晶体管液晶显示器基板的维修领域，可以解决低亮点问题，并提高维修成功率。所述方法包括利用激光对被维修的子像素区域的彩膜进行改性处理并对所述被维修的子像素区域的彩膜进行碳化，形成碳化彩膜；进而对所述碳化彩膜及与所述碳化彩膜相邻的矩阵条进行老化处理，形成老化彩膜和老化矩阵条；并在所述老化彩膜与基板之间形成缝隙；然后对所述老化矩阵条进行颗粒化处理，生成的黑色颗粒落入所述缝隙中，使所述黑色颗粒覆盖于所述被维修的子像素区域的碳化彩膜上。本发明实施例用于液晶显示器的亮点维修。
文档编号G02F1/13GK102629004SQ20121005560
公开日2012年8月8日 申请日期2012年3月5日 优先权日2012年3月5日
发明者吴涛, 张钟石, 钮曼萍 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司