无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片的制作方法

文档序号:2690063阅读:291来源:国知局
专利名称:无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片的制作方法
技术领域
本发明涉及一种抗静电性能优异且具有高雾度的扩散片的制造方法,更具体地,涉及一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片,所述方法能够大量制造呈现相同的光学特性且抗静电性能优异的高雾度扩散片。
背景技术
液晶显示装置作为一种利用液晶显示图像的平板显示装置,与其他显示装置相t匕,更薄、更轻,且具有更低的驱动电压及更低的功耗的优点,因此,广泛应用于整个产业。
由于液晶显示装置中用于显示图像的显示面板为自身不能发光的非发光元件,因此需要能够给所述显示面板提供光的额外的背光组件。
所述背光组件包括:产生光的光源;从所述光源接收入射的光并将其向上方出射的导光板;以及将通过所述导光板出射的光扩散至整个所述面板的扩散片。
所述扩散片起到将从所述导光板出射并朝向正面的光进行分散从而提高背光组件的亮度均匀性的作用。
通常,扩散片通过在透明材质的基材上固定含有二氧化硅、碳酸钙、氧化钛及玻璃珠等光扩散材料的光扩散层的方式制造(韩国授权专利第1996-0015775号)。但是,在量产过程中,随着时间的推移,所述光扩散层的颗粒会凝聚或其粘度会变化,导致制造呈现相同的光学特性的扩散片方面面临技术限制。为解决这些问题,目前正积极尝试着扩散片的制造方法。
例如,韩国公开专利第2009-0014623号中公开了以提高扩散性能为目的而在光扩散层内通过热分解形成I 20μπι大小的气泡的方法。但是,这种方法对于实现高雾度具有局限性。
另外,韩国公开专利第2007-0003974号中公开了利用转移(transfer)方法在光扩散片表面以数微米深度形成多角锥状的凹凸表面以抑制莫尔干涉条纹。但是,利用该方法无法大量制造具有相同光学特性的扩散片,也无法实现高雾度。
另外,韩国公开专利第2010-0131923号中公开了利用形状转移工艺制造形成有凸状结构的扩散片的方法,而韩国授权专利第0882992号中公开了通过使光扩散剂包含在树脂内而形成的扩散片。但是,通过这些方法制造的扩散片呈现较低的雾度值。
另外,韩国授权专利第1000440号中公开了包括在基膜的一面包括多个第一凸部和多个第一凹部的扩散层的扩散片。所述扩散片的特征在于,所述扩散层包括多个扩散颗粒,所述凸部及凹部由包含在扩散层的多个扩散颗粒形成。但是,这种多个脱离现象呈现降低扩散片的扩散率并且贴装后会降低背光单元的光效率的可靠性的问题。发明内容
为解决现有的问题,本发明的目的在于提供一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片,所述方法能够大量制造呈现相同的光学特性且脱模性及抗静电性能优异的高雾度扩散片。
为实现上述目的,本发明提供一种无颗粒扩散片的制造方法,包括:
第一步骤,在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕(embossed)图案的主模具;
第二步骤,将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中,以形成纳米尺寸的气泡;
第三步骤,利用所述光固化树脂溶液,在紫外线照射下制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕(intaglio)图案的转印模具(transfer mold),其中,所述凹雕图案与所述浮雕图案相对应;以及
第四步骤,利用所述光固化树脂溶液,在紫外线照射下制造包括具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片,其中,所述浮雕图案与所述凹雕图案相对应。
根据本发明,通过在与颗粒形状相对应的凹雕图案的一次半球形状上,利用离子型表面活性剂在表面实现作为纳米尺寸的二次形状的突出形状,而且,利用所形成的凹雕图案实现具有纳米尺寸的凹陷形状的半球形状的浮雕图案,能够制造不仅能够实现高雾度的扩散图案,还能降低表面电阻以赋予抗静电性及脱模性的无颗粒扩散片。
另外,根据本发明,由于不使用扩散剂,能够大量制造具有相同光学特性的无颗粒扩散片。


图la、图1b及图1c为按工序示出本发明的无颗粒扩散片制造方法的示意图2a及图2b为根据本发明实施例1的包括凹雕图案的无颗粒扩散片的扫描电子显微镜(SEM)照片;
图3a及图3b为根据本发明实施例1的包括浮雕图案的无颗粒扩散片的SEM照片;以及
图4为根据本发明比较例的包括浮雕图案的无颗粒扩散片的SEM照片。
<附图标记的说明>
10:基板
20:热固性树脂
30:颗粒
40:光固化树脂
50:包括纳米尺寸的突出部的半球
60:包括纳米尺寸的凹陷部的半球具体实施方式
以下,参照附图对本发明进行更详细的说明。
本发明涉及一种无颗粒扩散片的制造方法,包括:在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具的第一步骤;将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中而形成纳米尺寸的气泡的第二步骤;利用所述树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述浮雕图案相对应的、具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具的第三步骤;及利用所述树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述凹雕图案相对应的、具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片的第四步骤。
本发明中的无颗粒扩散片是指不包含颗粒(bead)的扩散片。
本发明的第一步骤为,在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具的步骤。
所述基膜为透明的基材薄膜,优选地包括选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)及聚苯乙烯(PS)构成的组中的一种以上,但是,此外,只要透明而不阻碍光的透过且具有与目的用途相对应的弹性及耐久性等特性,不管是哪一种都可以使用。
所述基膜的厚度优选为20 400 μ m,更优选为38 380 μ m。
在所述第一步骤中,为了在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具,将颗粒混合至树脂后涂布在基膜的一面上。
作为所述树脂,可以无特殊限制地使用热固性树脂、光固化树脂等。
所述颗粒可以为聚氨酯树脂、氯乙烯、丙烯酸树脂、玻璃等,颗粒的粒度优选为I 100 μ m,更优选为3 30 μ m。
所述颗粒以根据粒度分散度计算的变动系数[=(标准偏差/平均)X 100]为基准可分为单分散颗粒(变动系数未满15% )和多分散颗粒(变动系数15 45% )。本发明中可单独使用单分散颗粒,也可混合使用多分散颗粒。从经济性层面和涂布面的外观层面考虑,更优选混合使用多分散颗粒。
若混合使用多分散颗粒,制造主模具时伴随颗粒大小的曲率差异会导致涂布表面变得更为粗糙,对光的折射更有效,因此,与单分散颗粒的单独使用相比,光扩散效果更大。
涂布在所述基膜的树脂的厚度优选为2 50 μ m,更优选为2 20 μ m。
所述浮雕图案的特征在于,具有从所述主模具表面突出至10 900nm的高度的突出部且具有I 100 μ m大小的直径的半球形图案。
本发明的一个具体例中,将混合厚度为I 100 μ m的多分散颗粒的热固性树脂以2 50 μ m的厚度涂布在透明的基膜的一面上并对其进行加热固化,从而在基膜的一面上形成浮雕图案。
本发明的另一个具体例中,将使用厚度为I 100 μ m的单分散颗粒的热固性树脂以2 50 μ m的厚度涂布在透明的基膜的一面上并对其进行加热固化,从而在基膜的一面上形成浮雕图案。
所述第二步骤为将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中而形成纳米尺寸的气泡的步骤。
离子型表面活性剂使得纳米尺寸的气泡在光固化树脂溶液中稳定地形成,且通过对树脂模具赋予脱模性和抗静电性,使得易于采用本发明的扩散片。
通常,在树脂制造过程中产生的数微米大小的气泡会引起外观不良等很多问题。
但是,本发明人证实了利用树脂制造过程中产生的气泡在一次颗粒形状表面二次形成半球形凹陷部或突出部,从而在凹陷部或突出部表面上强化光的折射引起的扩散,进而能够制造高雾度的扩散片,最终完成本发明。
以下对此具体说明。
气泡被定义为气体被包裹在液体薄膜中而形成的多面体气体单元的蜂窝结构,通常,空气可视为疏水性最大的介质中的一个。由于空气的这种疏水性,与空气接触的表面会成为诸如表面活性剂的两亲性分子能够最先吸着的界面。表面活性剂被吸着在表面上后,表面活性剂会被整齐地配向而具有薄层结构,结果转变成液体-表面活性剂薄层-空气的结构,而不是液体-空气的结构,从而促使表面张力降低。
另外,尽管表面活性剂通过降低表面张力而为气泡赋予稳定性,但是会抑制气泡的薄层厚度变薄,导致气泡的消除被延迟。
为了气泡的稳定性,当气泡膜的厚度达到临界值时,应使液体及气体从气泡的漏出延迟。因为,液体从气泡膜的漏出会导致气泡膜的薄膜化,若达到临界值,气泡自然会被消除。
作为如此诱发使气泡不稳定的液体的漏出的主要原因,可以例如重力和表面张力。其中,重力效果主要作用于较厚的气泡膜,随着本体溶液上的粘度的不同,重力效果会不同。因此,为了获得稳定的气泡,需要在本体溶液上添加增稠剂。在临界胶团浓度以上,形成薄层状的液晶会延迟液体从气泡的漏出,从而能够使气泡稳定。
另外,由于曲率随着薄层表面的位置的不同而不同,会产生压差。其结果,从薄层至普拉特奥边界产生溶液的漏出,从而进行薄膜化。
而且,随着气泡大小差变大,薄层表面张力会增加。
穿过气泡膜而扩散的气体也会影响气泡的稳定性。两个气泡之间的扩散速度q的定义如下:
q = -JA Δ P
ΛΡ = 2r(l/R「l/R2)
J:穿透性
A:有效垂直面(effective perpendicular area)
Λ P:两个气泡之间的压差(拉普拉斯(Laplace)式:ΛΡ = r (1/^+1/ ))
r:表面张力
R2:气泡半径
在上述式中,负符号是指:扩散是压力减少的方向,小气泡的压力大于大气泡,大气泡会吸收小气泡。J值是由气泡膜的透气性获得,当表面活性剂的单分子层在气泡膜上被密集填充时,透气性会减少,从而使气泡稳定性更为稳定。
另外,表面 活性剂为直链型,碳链越长且亲水基的分子量越小,气泡膜的抗渗透性越大。若将一些高级醇添加至离子型表面活性剂中,气泡膜的渗透性会显著降低。
本发明的一实施例中,将分子量大、具有抗静电性的离子型表面活性剂与光固化树脂的固含量相比以0.01 5wt%的配比添加后,利用高速搅拌机(homomixer)进行搅拌,从而形成直径为10 900nm范围的非均匀大小的纳米尺寸的气泡。若气泡直径未满10nm,则需要添加过量的表面活性剂,而导致基材粘结力及经济性降低;若气泡直径超过900nm,制造工艺中,不仅气泡稳定性会降低,而且很难形成均匀的涂布膜。
当利用由离子型表面活性剂制造的凹雕型转印模具生产浮雕图案的无颗粒扩散片时,由于表面活性剂会排列在凹雕型转印模具表面,能够提高抗静电性及脱模性,从而还能获得提高生产性能的效果。
所述离子型表面活性剂与光固化树脂固含量相比,优选以0.01 5wt%添加。
若离子型表面活性剂与光固化树脂的固含量相比添加量未满0.01wt%,气泡稳定性、抗静电性及脱模性则可能会降低,若添加量超过5wt%,基材粘结力则可能会降低。
所述离子型表面活性剂可选用由烧基胺氧化物(alkyl amineoxide)、烧基氧膦(alkylphosphineoxide)、烧基亚砜(alkylsulfoxide)、烧基季铵盐齒化物(alky I quaternary ammonium halide)、烧基咪唑盐 1 化物(alkyl imidazolium halide)、烧基批唳齒化物(alkyl pyridinium halide)、烧基齒化锍(alkyl sulfonium halide)及烧基齒化磷(alkyl phosphonium halide)构成的组中的一种以上。
本发明一实施例中,为了维持气泡的稳定性,混合烃系列的丙烯酸盐或烷基聚氨酯丙烯酸酯树脂。
树脂的折射率优选为1.43 1.53,若树脂的折射率脱离所述范围,存在树脂价格会提高而导致生产成本提高的问题。从光扩散观点来看,树脂的折射率越低,雾度则越高。
另外,考虑到脱模性,树脂优选具有玻璃化转变温度(Tg)为80°C以下的弹性的树脂。
本发明中可用的光固化树脂可采用例如作为实现低玻璃化转变温度的树脂的烷基(甲基)丙烯酸酯,优选可使用选自由丙烯酸己内酯、丙烯酸辛癸酯、丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、环氧乙烷加合(2 8摩尔)苯酚丙烯酸酯、丙烯酸四氢呋喃酯、丙烯酸乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸十八酯、1,6_己二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷加合(2 10摩尔)1,6_己二醇二丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、氧化丙烯加合(2 4摩尔)新戊二醇二丙烯酸酯、二缩三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯及三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯构成的组中的一种以上。
或,作为用于确保耐热、高温可靠性的光固化树脂,可以使用环氧乙烷加合双酚A类的丙烯酸酯,可以优选由双酚A(环氧乙烷加合3 30摩尔)二(甲基)丙烯酸酯及双酚A环氧丙烯酸酯中选用一种以上。
或,为了赋予弹性,可以使用选自由聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷加合聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双官能度聚氨酯丙烯酸酯、三官能度聚氨酯丙烯酸酯、硅聚氨酯(甲基)丙烯酸酯及硅聚酯丙烯酸酯构成的组中的一种以上。
或,为了提 高与基材的粘结力,可以使用多官能度丙烯酸酯,可优选使用选自由三羟甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷加合(3 15摩尔)三羟甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷加合(3摩尔)三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰酸酯三丙烯酸酯、环氧乙烷加合季戊四醇四丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯及二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、六官能度聚氨酯丙烯酸酯构成的组中的一种以上。
优选地,所述光固化树脂溶液包括选自由烷基丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯构成的组中的一种以上的成分。
所述光固化树脂溶液还可包括光引发剂,光引发剂与树脂固含量相比可以以IOwt %以内使用。
作为本发明的一实施例,可将光固化树脂和,相对于光固化树脂的固含量0.01 5wt%的离子型表面活性剂及0.5 IOwt %的光引发剂加入高速搅拌机中,在大气压下进行高速搅拌而形成气泡。
本发明的第三步骤为,利用通过第二步骤形成气泡的光固化树脂溶液形成转印模具的步骤,所述转印模具包括与第一步骤中形成的浮雕图案相对应的、具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案。
所述凹雕图案的特征在于,其为具有从转印模具表面突出至10 900nm高度的突出部的、直径为I 100 μ m的半球形图案。
本发明的一实施例中,在第一步骤中制造的主模具的浮雕图案上涂布第二步骤中制造的光固化树脂溶液,并利用压辊进行按压的同时进行光固化,从而制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具。
所述涂布的树脂溶液的厚度优选为2 50 μ m。
本发明的第四步骤为,利用所述光固化树脂溶液,在紫外线照射下,制造具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片的步骤,其中,所述浮雕图案与包含在所述转印模具的、具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案相对应。
在第三步骤中制造的转印模具上包含的、具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案上,涂布第二步骤中制造的光固化树脂溶液,且利用压辊进行按压的同时进行固化,从而制造包括具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片。
所述涂布的光固化树脂溶液的厚度优选为2 50 μ m。
根据本发明制造的扩散片的特征在于,其表面电阻为1013Ω以下。
根据本发明制造的包括浮雕图案的无颗粒扩散片也可作为用于制造所述第三步骤中的包括凹雕图案的转印模具的浮雕图案使用。
根据本发明的另一方面,提供一种包括凹雕图案的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于,将根据本发明制造的浮雕图案扩散片用作转印模具,制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的无颗粒扩散片。
根据本发明,可将所述第三步骤和第四步骤的扩散片用作转印模具,大量复制生产浮雕或凹雕形状的无颗粒扩散片。
如上所述,根据本发明制造的无颗粒扩散片具有包括纳米尺寸的凹陷部或突出部的扩散图案,在这些微细突出部及凹陷部的倾斜面形成光的折射,从而抑制莫尔干涉条纹,进而呈现具有高雾度和低表面电阻的、抗静电性能优异的特性。
本发明提供根据本发明的无颗粒扩散片制造方法制造的无颗粒扩散片。
以下,利用实施例及比较例对本发明进行更详细的说明。但是,以下实施例及比较例是用于例示本发明,而本发明并不仅限于此,可以进行各种变更和变形。
〈实施例1>
第一步骤:主模具的制造
利用韩国授权专利第1993-0008494号和韩国授权专利第0863773号中公开的方法制造了主模具。所使用的基材为厚度为125μπι的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄片(H32F,KOLON公司),至于颗粒,混合使用了平均粒径为5、10、15 μ m的多分散颗粒(GANTS公司),所使用的树脂为热固性树脂,使用了 AEKYUNG CHEMICAL公司的A811产品,从而制造了浮雕图案的主模具。
第二步骤:形成有纳米气泡的光固化树脂溶液的制造
作为树脂折射率为1.46的光固化树脂,将65wt %的环氧乙烷加合I,6_己二醇二丙烯酸酯(MIWON COMMERCIAL公司,产品名称:M202)、13wt %的季戊四醇四丙烯酸酯(MIWON COMMERCIAL公司,产品名称:M420)、15wt %的氧化丙烯3摩尔加合三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(MIWON COMMERCIAL公司,产品名称:M360)、5wt %的艳佳固(IRGA⑶RE) 1173 (Ciba公司)及2wt %的离子型表面活性剂(Kemton公司,产品名称:CHTA-402(烷基咪唑盐卤化物))加入高速搅拌机中,以3000rpm(每分钟转速)搅拌10分钟,从而制造了形成有10 900nm的纳米气泡的光固化树脂溶液。
第三步骤:凹雕图案转印模具的制造
将上述光固化树脂溶液注入至主模具和125 μ m的PET基材之间并利用压辊进行按压,同时以10 500mJ程度的光亮照射紫外线灯而进行固化,从而制造具有纳米尺寸的半球形突出部的凹雕图案的转印模具。
对制造后的扩散片的平面和侧面实施SEM分析,并将其结果示出在图2a及图2b。另外,对光学特性进行评价,并将该结果示出在表I中。
第四步骤:包括浮雕图案的无颗粒扩散片的制造
在NP-S20 (SHIN-AT&C公司,树脂折射率为1.52)中以相对于固含量的2wt%加入离子型表面活性剂(ΚΕΜΤ0Ν公司,产品名称:CHTA-402 (烷基咪唑盐卤化物)),进行搅拌并制备模具用树脂。
在准备的基材,即厚度为125μπι的PET和在所述第三步骤中制造的具有纳米尺寸的半球形突出部的凹雕图案转印模具之间注入准备的模具用树脂,用压辊进行按压的同时,以10 500mJ程度的光亮照射紫外线,从而制造包括具有纳米尺寸的半球形凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片。
对所制造的扩散片的平面和侧面实施SEM分析,将其结果示出于图3a及图3b。另夕卜,对光学特性进行评价并将其结果示出于表I中。
<实施例2 >
制造包括浮雕图案的无颗粒扩散片时,除了在基材相反面实施涂布以使雾度达到15 %以外,用与实施例1相同的方法制造了无颗粒扩散片。
对光学特性进行评价并将该结果示出于表I中。
<实施例3>
制造包括浮雕图案的无颗粒扩散片时,除了在基材相反面实施涂布以使雾度达到3%以及在实施例1的第一步骤的主模具的制造中使用30 μ m单分散颗粒之外,用与实施例1相同的方法制造无颗粒扩散片。
对光学特性进行评价并将该结果示出于表I中。
<比较例>
利用韩国授权专利第1993-0008494号和韩国授权专利第0863773号中公开的方法同样以实施例1的第一步骤(主模具制造步骤)制造了含颗粒扩散片。制造的扩散膜的雾度为93.2%。
<表I >扩散片光学特性评价
权利要求
1.一种无颗粒扩散片的制造方法,包括: 第一步骤,在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具; 第二步骤,将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液以形成纳米尺寸的气泡; 第三步骤,利用所述光固化树脂溶液,在紫外线照射下,制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具,其中,所述凹雕图案与所述浮雕图案相对应;以及 第四步骤,利用所述光固化树脂溶液,在紫外线照射下,制造包括具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片,其中,所述浮雕图案与所述凹雕图案相对应。
2.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述浮雕图案为具有从所述主模具表面凹陷至10 900nm深度的凹陷部的、直径为I IOOym的半球形图案。
3.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述凹雕图案为具有从所述转印模具表面突出至10 900nm高度的突出部的、直径为I 100 μ m的半球形图案。
4.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述基膜包括选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯、聚乙烯及聚苯乙烯构成的组中的一种以上。
5.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述基膜的厚度为20 400 μ mD
6.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述离子型表面活性剂为选自由烷基胺氧化物、烷基氧膦、烷基亚砜、烷基季铵盐齒化物、烷基咪唑盐齒化物、烧基卩比唳齒化物、烧基齒化琉及烧基齒化憐构成的组中的一种以上。
7.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述气泡具有10 900nm的直径。
8.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述光固化树脂溶液包括选自由烷基丙烯酸酯及聚氨酯丙烯酸酯构成的组中的一种以上。
9.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述无颗粒扩散片的表面电阻为1013 Ω以下。
10.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述离子型表面活性剂相对于所述光固化树脂溶液的固含量以0.01 5wt%添加。
11.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:所述光固化树脂溶液的折射率为1.43 1.53,玻璃化转变温度为80°C以下。
12.一种包括凹雕图案的无颗粒扩散片的制造方法,其特征在于:将根据权利要求1所述的制造方法制造的包括浮雕图案的无颗粒扩散片用作转印模具,在紫外线照射下制造包括凹雕图案的无颗粒扩散片。
13.一种根据权利要求1或权利要求12所述的制造方法制造的无颗粒扩散片。
全文摘要
本发明涉及一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片,所述制造方法包括在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具的第一步骤;将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中而形成纳米尺寸的气泡的第二步骤;利用所述光固化树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述浮雕图案相对应的、具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具的第三步骤;及利用所述光固化树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述凹雕图案相对应的、具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片的第四步骤。
文档编号G02B5/02GK103158258SQ201210501909
公开日2013年6月19日 申请日期2012年11月29日 优先权日2012年4月5日
发明者崔允基, 李在洵, 韩昌烈, 徐东揆, 赵宰亨 申请人:高一智股份公司
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