窄边框型液晶显示装置的制作方法

文档序号:2690081阅读:170来源:国知局
专利名称:窄边框型液晶显示装置的制作方法
技术领域
本发明涉及一种液晶显示(IXD)装置,尤其涉及一种能使非显示区域的宽度最小化,以实现无边界产品的窄边框型IXD。
背景技术
一般来说,液晶显示(IXD)装置根据LC的光学各向异性而操作。具体来说,在LCD装置中,当施加电压时,LC的分子排列根据电场的强度而变化,根据LC的分子排列控制光,从而产生图像。IXD装置可以包括具有公共电极的上基板、具有像素电极的下基板、以及填充在上下基板之间的LC层。将参照图1和2进一步详细描述IXD。图1是现有技术的IXD装置的示意性平面图,图2是现有技术的IXD装置的示意性剖面图。参照图1和2,典型的IXD I包括具有滤色器层35的滤色器基板30 ;具有薄膜晶体管(TFT)、栅极线(未示出)、数据线(未示出)和像素电极15的阵列基板10 ;以及夹在滤色器基板30与阵列基板10之间的LC层40。在位于阵列基板10的上侧和左侧的非显示区域NAl和NA4上,分别形成多个栅极焊盘电极(未示出)和多个数据焊盘电极(未示出),多个栅极焊盘电极和多个数据焊盘电极与外部驱动电路连接。在阵列基板10的上侧和左侧分别形成栅极连线(未示出)和数据连线(未示出),栅极连线和数据连线与所述多个栅极焊盘电极和多个数据焊盘电极连接。此外,在阵列基板10的显示区域DA中,多条栅极线(未示出)和多条数据线(未示出)彼此交叉设置,以界定出多个像素区域(未示出)。多条栅极线分别通过栅极连线与栅极焊盘电极连接并在横向方向上延伸。数据线分别通过数据连线与数据焊盘电极连接并在纵向方向上延伸。此外,在栅极线与数据线之间的交点附近分别形成TFT,在每个像素区域中形成像素电极15,像素电极15与相应TFT的漏极电极(未示出)连接。滤色器基板30与具有上述结构的阵列基板10相对形成。在滤色器基板30上形成滤色器层35和黑矩阵(未示出),并在滤色器基板30的整个表面上形成公共电极。滤色器层35包括与各个像素区域相对应地依次重复设置的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)滤色器图案(未示出)。黑矩阵形成在各个滤色器图案之间并包围阵列基板10的栅极线和数据线,且黑矩阵与配置成包围显示区域DA外部的非显示区域ΝΑΙ、NA2、NA3和NA4对应。此外,LC层40夹在阵列基板10与滤色器基板30之间。在非显示区域ΝΑΙ、NA2、NA3和NA4中形成对应于两个基板10和30边缘的密封图案42,从而形成LC面板2。在具有上述构造的LC面板2的阵列基板10的外侧表面上设置用作光源的背光单元(BLU)。在LC面板2的外部设置配置成驱动LC面板2的驱动器(未示出),由此完成IXD装置I。一般来说,驱动器包含在印刷电路板(PCB) 50上,印刷电路板(PCB) 50分为与LC面板2的栅极线连接的栅极PCB (未示出)和与数据线连接的数据PCB 50。此外,PCB 50安装在位于LC面板2的显示区域DA外部的非显示区域ΝΑΙ、NA2、NA3 和 NA4 上。就是说,PCB 50在阵列基板10的一侧中通过载带封装(TCP)技术或柔性印刷电路板(FPC) 61和62与连接到数据线的数据焊盘电极接触。在该情形中,代替栅极PCB,在包括栅极焊盘电极的第四非显示区域NA4上安装包括驱动IC芯片71的多个栅极FPC 61,所述多个栅极FPC 61与数据PCB 50电连接,其中所述数据PCB 50在阵列基板10中通过多个数据FPC 62附接到包括数据焊盘电极的第一非显示区域NAl。具有上述构造的IXD装置I已被迅速应用于各种电子装置,如电视(TV)、显示器、笔记本电脑、手机和个人数字助理(PDA)。在最新的显示装置中,已要求使显示区域DA的尺寸最大化,并使非显示区域NA1,NA2,NA3和NA4的尺寸最小化。然而,如上所述,在通过插入FPC 61和62而将PCB 50安装在具有栅极焊盘电极的第四非显示区域NA4和具有数据焊盘电极的第一非显示区域NAl上的常规IXD装置I中,通过插入FPC 61和62而将栅极和数据PCB 50安装在IXD装置I的至少两侧表面上。或者,通过插入FPC 62而将数据PCB 50安装在具有数据焊盘电极的第一非显示区域NAl上,而配置成处理栅极信号的驱动IC芯片71可安装在具有栅极焊盘电极的第四非显示区域NA4 上。就是说,与PCB 50或驱动IC芯片71附接的FPC 61和62安装在阵列基板10的非显示区域NA1、NA2、NA3和NA4上。在安装FPC 61和62到阵列基板10上之后,在与背光单元BLU进行模块化的过程中,FPC 61和62可弯曲并设置在阵列基板10的后表面上。在具有上述构造的常规IXD装置I中,FPC 61和62沿阵列基板10的侧表面的末端(end tips)弯曲。最终,IXD装置I的非显示区域NA的宽度wl扩大了一距离,该距离等于每个FPC 61和62的厚度dl以及每个FPC 61和62与阵列基板10的侧表面端部之间的距离d2之和,从而很难提供具有窄边框的无边界产品。

发明内容
因此,本发明涉及一种基本上克服了由于现有技术的限制和缺点而导致的一个或多个问题的窄边框型液晶显示(LCD)装置。本发明的一个目的是提供一种窄边框型IXD装置,其中改变与印刷电路板(PCB)或驱动IC芯片附接的柔性印刷电路板(FPC)的弯曲方向,以进一步减小IXD装置的非显示区域,从而LCD装置可具有进一步减小的宽度。在下面的描述中将列出本发明的其它特征和优点,这些特征和优点的一部分从下面的描述将是显而易见的,或者可通过本发明的实施领会到。通过说明书、权利要求以及附图中特别指出的结构可实现和获得本发明的这些目的和其他优点。
为了实现这些和其他优点并根据本发明的目的,如在此具体和概括描述的,一种LCD装置,包括:第一基板,所述第一基板包括具有多个像素区域的显示区域和设置在所述显示区域外部的非显示区域;位于所述第一基板上的栅极线和数据线,所述栅极线和数据线彼此交叉,以界定出所述像素区域;形成在每个像素区域中的薄膜晶体管(TFT);形成在每个像素区域中并与所述TFT连接的像素电极;与所述第一基板相对设置的第二基板;形成在所述第二基板的内侧表面上的滤色器层;用于与所述像素电极产生电场的公共电极;在所述第一和第二基板之间的液晶层;和与位于所述第一基板一侧上的所述非显示区域连接的柔性印刷电路板(FPC),所述FPC向所述第二基板的外侧表面弯曲,其中与所述第一基板接触的每条栅极线都具有双层结构,所述双层结构包括由透明导电材料形成的第一层和由铜(Cu)或铜合金形成的第二层。应当理解,本发明前面的一般性描述和下面的详细描述都是例示性的和解释性的,意在对要求保护的内容提供进一步的解释。


给本发明提供进一步理解并组成说明书一部分的附解了本发明的实施方式并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中:图1是现有技术的液晶显示(IXD)装置的示意性平面图;图2是现有技术的IXD装置的示意性剖面图;图3是根据本发明实施方式的LCD装置的示意性剖面图;图4是根据本发明实施方式的IXD装置的一个像素区域的剖面图;图5是根据本发明实施方式的LCD装置中形成栅极线的部分的剖面图;图6是根据本发明实施方式的第一个修改例的LCD装置中形成栅极线的部分的剖面图;图7是根据本发明实施方式的第二个修改例的IXD装置的一个像素区域的剖面图;图8是根据本发明实施方式的第三个修改例的IXD装置的一个像素区域的剖面图。
具体实施例方式现在详细描述本发明的优选实施方式,附图中图解了这些实施方式的一些例子。图3是根据本发明实施方式的液晶显示(LCD)装置的示意性剖面图,图4是根据本发明实施方式的LCD装置的一个像素区域的剖面图,图5是根据本发明实施方式的LCD装置中形成栅极线的部分的剖面图。参照图3到5,根据本发明实施方式的IXD装置100包括液晶面板101和柔性印刷电路板(FPC)196。液晶面板101包括阵列基板、滤色器以及在阵列基板与滤色器之间的液晶层195。阵列基板包括第一基板102、栅极线103、数据线130、薄膜晶体管(TFT) Tr和像素电极150。栅极线和数据线103和130彼此交叉,以界定出像素区域P。TFT Tr设置在每个像素区域P中。像素电极150与TFT Tr连接。滤色器基板包括第二基板181和滤色器层186。与阵列基板的非显示区域NA连接的FPC 196向滤色器基板的后侧弯曲。在FPC196上安装有印刷电路板(PCB) 197。在该情形中,在滤色器基板181的后表面上可进一步设置背光单元(BLU) 200。根据本发明实施方式的LCD装置100的一个特征是,阵列基板设置在用户观看的上侧,滤色器基板设置在用户不观看的下侧,BLU 200设置在滤色器基板的后表面上。此外,根据本发明实施方式的LCD装置100的另一个特征是,安装在阵列基板的非显示区域NA上的FPC 196向设置有BLU 200的滤色器基板的后表面弯曲,从而可比常规的IXD装置(参照图2中的I)更大地减小非显示区域NA的宽度。就是说,在常规的IXD装置(参照图2中的I)中,阵列基板(参照图2中的10 )设置在下侧,滤色器基板(参照图2中的30)设置在上侧,BLU (参照图2)设置在阵列基板(参照图2中的10)的外侧表面上。因而,在安装FPC (参照图2中的62)于阵列基板(参照图2中的10)的非显示区域(参照图2中的NAl)上之后,FPC 62覆盖阵列基板10的侧表面的末端,弯曲并设置在BLU 200的后表面上。因而,非显示区域NA的宽度大致等于阵列基板10的非显示区域(参照图2中的NAl)的宽度、弯曲的FPC 62的厚度dl、以及FPC 62与阵列基板10的侧表面的末端之间的距离dl之和。通过对比,在根据本发明实施方式的IXD装置100中,阵列基板设置在用户观看的上侧。因而,FPC 196附接到阵列基板的非显示区域NA之后,FPC196并不弯曲成覆盖阵列基板的侧表面,而是向滤色器基板的后表面弯曲。因此,在根据本发明的IXD装置100中,FPC 196不覆盖阵列基板的侧表面,而是向滤色器基板的外侧表面弯曲,从而弯曲单元设置在阵列基板的非显示区域NA的最外侧表面之内。因而,与常规的LCD装置(参照图2中的I)对比,非显示区域NA的宽度可至少减小一距离,该距离等于FPC 196的厚度以及FPC 196与阵列基板的侧表面之间的距离之和,从而可实现具有更小宽度的窄边框。现在将描述根据本发明实施方式的具有所述外部构造的LCD装置100的LC面板101的内部组件。其中,为简便起见,彼此相对设置的阵列基板和滤色器基板的内侧表面定义为各自的参考位置。因而,当在比阵列基板和滤色器基板的内侧表面高的水平面处形成依次层叠在阵列基板和滤色器基板上的组件时,认为所述组件是设置在阵列基板和滤色器基板上或上方。如图3到5中所示,根据本发明的IXD装置100的LC面板101包括阵列基板、滤色器基板、以及夹在阵列基板与滤色器基板之间的LC层195。首先,将描述设置在上侧的阵列基板的构造。阵列基板包括形成在第一基板102的内侧表面上的多条栅极线103和多条数据线130,第一基板102由透明绝缘基底材料,例如玻璃或塑料形成。栅极线103和数据线130分别形成在栅极绝缘层110下方和上方并在纵向和横向方向上延伸,栅极线103和数据线130彼此交叉,以界定出多个像素区域P。尽管图中未示出,但根据IXD装置100的模式,可在第一基板102的内侧表面上进一步形成公共线(未示出)。公共线可由与栅极线103相同的材料形成,并与栅极线103隔开地穿过每个像素区域P。在位于显示区域DA外部的非显示区域NA上形成栅极焊盘电极(未示出)和数据焊盘电极(未示出)。栅极焊盘电极分别与栅极线103的一端连接,数据焊盘电极分别形成在数据线130的一端上。当形成公共线时,可形成配置成与每条公共线的所有端部连接的辅助公共线(未示出)以及与辅助公共线的一端连接的公共焊盘电极(未示出)。根据本发明实施方式的IXD装置100的另一个特征是,与第一基板102直接接触形成的栅极线103和栅极电极105 (以及公共线)分别具有三层结构,该三层结构包括由透明导电材料形成的第一层103a和105a、由第一金属材料形成的第三层103c和105c、以及由具有低电阻特性的铜(Cu)或铜合金形成的第二层103b和105b。或者,如图6中所示,图6是根据本发明实施方式的第一个修改例的LCD装置中形成栅极线的部分的剖面图,栅极线103和栅极电极105 (以及公共线)与第一基板102接触形成并分别具有双层结构,该双层结构包括由透明导电材料形成的第一层103a和105a、以及由具有低电阻特性的铜或铜合金形成的第二层103b和105b。参照图4,5和6,形成第一层103a和105a的透明导电材料例如是氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(ΙΖ0),第一金属材料可以是钥(Mo)或钥钛(MoTi)。通过形成具有上述双层结构(参照图6)或三层结构(参照图4和5)的栅极线103和栅极电极105 (以及公共线),可减小外部光的反射,且铜可用作线和电极的材料,以应对尺寸增大的需求。更具体地说,当在本实施方式及其修改例中由铜形成第二层103b和105b时,IXD装置100可应用于超过30平方英寸面积的大面积TV。因为30英寸或更大尺寸的IXD 100具有更长的线,所以会产生诸如信号延迟的问题。因此,为使诸如信号延迟的问题最小化,由每单位面积上具有相对低电阻的金属形成线和电极。铜或铜合金在每单位面积上具有较低电阻,且比铝(Al)和铝合金便宜。然而,因为与铝(Al)和铝合金相比,铜或铜合金较难附接到由玻璃或塑料材料形成的第一基板102,所以当在第一基板102上仅沉积铜或铜合金并将其构图为线时,在构图工艺过程中铜或铜合金会与第一基板102分离并脱落。因此,为了防止铜或铜合金脱落,使用不仅对铜或铜合金或者由玻璃形成的基板具有良好附接性的Mo或MoTi形成第三层103c和105c作为下层,或者使用透明导电材料的ITO或IZO形成第一层103a和105a作为下层。在栅极线103和栅极电极105 (以及公共线(未示出))具有三层结构的实施方式中,在第三层103c和105c与第一基板102之间设置由透明导电材料形成的第一层103a和105a,以减小外部光的反射。由于本发明的特征,阵列基板102设置在用户观看的上侧,所以以用户观看的阵列基板102的表面为基础,栅极线103和栅极电极105 (以及公共线)成为大致设置在最高一层的组件。特别是,因为Mo或MoTi对于外部光具有大约68%的高反射率,所以降低了环境对比度。因此,为减小外部光的反射率,在第一基板102与三层结构中的由Mo或MoTi形成的第三层103c和105c之间,或者在第一基板102与由铜或铜合金形成的第二层103b和105b之间,设置由透明导电材料(如ITO或ΙΖ0)形成的第一层103a和105a。因而,当在由Mo或MoTi形成的第三层103c和105c与第一基板102之间,或者在由铜或铜合金形成的第二层103b和105b与第一基板102之间,设置由ITO或IZO形成的第一层103a和105a时,外部光的反射率可减小到大约39%或更小。在栅极线103和栅极电极105 (以及公共线)具有三层结构的实施方式中,由Mo或MoTi形成的第三层103c和105c的每一个都具有大约50人到大约500人的厚度,由透明导电材料的氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)形成的第一层103a和105a的每一个都具有大约200 A到大约600人的厚度。由透明导电材料形成的第一层103a和105a的每一个都形成为比Mo或MoTi形成的第三层103c和105c的每一个厚。当具有双层(或三层)结构的材料层使用至少两种材料形成为特定厚度时,材料层具有不同的折射率。因而,由于折射率和厚度的不同,由各个材料层的表面反射的光会产生破坏性的干涉。这种现象称为抗反射涂层效果。由于抗反射涂层效果,最终减小了反射光的强度。同时,在各个像素区域P中在栅极线103和数据线130之间的交点附近形成TFTTr, TFT Tr包括与具有上述双层或三层结构的栅极线103连接的栅极电极105。通过在栅极电极105上层叠栅极绝缘层110、半导体层120、以及源极电极和漏极电极133和136,形成用作开关器件的TFT Tr0在该情形中,半导体层120包括由非晶硅(a-Si)形成的有源层120a、和由掺杂的a-Si形成的欧姆接触层120b,欧姆接触层120b形成在有源层120a上方。此外,源极电极和漏极电极133和136彼此间隔开。源极电极133与数据线130连接。尽管显示出在数据线130和栅极绝缘层110之间由与半导体层120相同的材料形成具有第一和第二图案121a和121b的双层结构的半导体虚拟图案121,但因为设置在数据线130下方的半导体虚拟图案121是由于制造工艺特性而形成的,所以可省略半导体虚拟图案121。此外,在第一基板102的整个表面上且在TFT Tr上设置第一保护层140。第一保护层140可由诸如氧化硅(SiO2)或氮化硅(SiNx)的无机绝缘材料,或者诸如光学压克力或苯并环丁烯(BCB)的有机绝缘材料形成。在该情形中,在第一保护层140中设置漏极接触孔143,以暴露各个TFTTr的漏极电极136。此外,在第一保护层140中设置栅极焊盘接触孔(未示出)和数据焊盘接触孔(未示出),以暴露各个栅极焊盘电极和各个数据焊盘电极。此外,当形成公共线和辅助公共线时,在每个像素区域P中设置用于暴露公共线的公共接触孔(未示出)和用于暴露与辅助公共线连接的公共焊盘电极的公共焊盘接触孔(未示出)。当公共线用作存储电极时,可省略公共接触孔。同时,在第一保护层140上形成板(plate)形像素电极150以分别对应于像素区域P。板形像素电极150通过漏极接触孔143分别与漏极电极136接触。在非显示区域NA中形成辅助栅极焊盘电极(未示出)和辅助数据焊盘电极(未示出)。辅助栅极焊盘电极通过栅极焊盘接触孔与栅极焊盘电极接触,而辅助数据焊盘电极通过数据焊盘接触孔与数据焊盘电极接触。此外,当形成辅助公共线时,在第一保护层140上形成辅助公共焊盘电极(未示出),辅助公共焊盘电极通过公共焊盘接触孔与公共焊盘电极接触。同时,因为在每个像素区域P中只形成像素电极150,所以具有上述构造的阵列基板是用于扭曲向列(TN)模式LCD装置的阵列基板。然而,当应用于面内切换模式LCD装置或边缘场切换(FFS)模式LCD装置时,可对阵列基板进行各种修改。在阵列基板是用于面内切换模式LCD装置的阵列基板的实施例中,参照图7,图7是根据本发明实施方式的第二个修改例的LCD装置的一个像素区域的剖面图,代替板形像素电极,在各个像素区域P中彼此隔开预定间隔形成多个条形像素电极150。此外,与多个条形像素电极150隔开预定距离并与条形像素电极150平行形成用于与像素电极150产生电场的多个条形公共电极152。多个条形公共电极152与多个条形像素电极150交替。在该情形中,多个条形公共电极152通过公共接触孔与公共线接触。尽管图中未示出,但条形公共电极152和条形像素电极150可以以各个像素区域P的中心部分为基础形成为对称的弯曲形状,从而每个像素区域P具有带上部和下部的双畴区域。当每个像素区域P形成为具有双畴区域时,可抑制与用户观看显示区域DA的视角变化有关的色度,从而提闻显不质量。在阵列基板102是用于FFS模式IXD装置的阵列基板的另一个实施例中,参照图8,图8是根据本发明实施方式的第三个修改例的LCD装置的一个像素区域的剖面图。在板形像素电极150上设置第二保护层160,在第二保护层160上形成具有第一开口 opl的多个条形公共电极170。条形公共电极170分别与板形像素电极150相对应并彼此隔开预定距离。在该情形中,公共电极170形成在显示区域DA的整个表面上。在该情形中,公共电极170可进一步包括对应于TFT Tr的第二开口 op2。类似地,在用于FFS模式IXD装置的阵列基板102中,多个第一开口 opl可以以各个像素区域P的中心部分为基础形成为对称的弯曲形状,从而每个像素区域P具有双畴区域。同时,在用于FFS模式IXD装置的具有上述构造的阵列基板102中,可调换像素电极150和公共电极170的位置。因而,像素电极150可形成在公共电极170上方。在该情形中,在像素电极150中形成多个第一开口 opl。参照图4到8,在与具有上述各种构造的阵列基板102相对应设置的滤色器基板181上形成黑矩阵183。黑矩阵形成在由透明玻璃或塑料形成的第二基板181的内侧表面上,并对应于各个像素区域P之间的边界和TFT Tr0此外,通过依次重复设置与黑矩阵183包围的各个像素区域P对应的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)滤色器图案186a、186b和186c,可形成滤色器层186。当如图4中所示阵列基板102为TN模式阵列基板时,在显示区域DA的整个表面上设置由透明导电材料形成的公共电极188,以覆盖滤色器层186。当如图7和8中所示阵列基板102为用于面内切换模式或FFS模式LCD装置的阵列基板时,形成具有平坦表面的外涂层189,以覆盖滤色器层186。参照图3到8,在具有上述构造的阵列基板102与滤色器基板181之间设置LC层195。此外,LC面板101进一步包括配置成包围显示区域DA以防止LC从LC层195泄漏的密封图案198。密封图案198将阵列基板102和滤色器基板181彼此结合并贴合。尽管未示出,但在像素区域P之间的边界设置多个柱形图案化衬垫料(未示出),柱形图案化衬垫料彼此隔开预定距离,从而夹在阵列基板102与滤色器基板181之间的LC层195可在显示区域DA的整个表面上保持恒定厚度。此外,在具有上述构造的LC面板101的滤色器基板181的后表面上设置BLU 200,PCB 197或具有驱动IC芯片(未示出)的FPC 196附接到滤色器基板181的后表面并与设置在阵列基板102的非显示区域NA中的辅助栅极和数据焊盘电极接触。其上安装有PCB197或驱动IC芯片的FPC 196并不暴露到阵列基板102的侧端部之外,而是向滤色器基板的后表面弯曲,从而组成根据本发明实施方式的LCD装置100。在根据本发明实施方式的具有上述构造的IXD装置100中,阵列基板102设置在用户观看的上侧,滤色器基板181设置在用户不观看的下侧,与PCB 197或驱动IC芯片附接的FPC 196安装在阵列基板102的非显示区域NA上。之后,FPC 196并不弯曲成覆盖阵列基板102的侧表面,而是向滤色器基板181的后表面弯曲,更具体地说是向设置在滤色器基板181的后表面上的BLU 200的后表面弯曲,从而可比常规的IXD (参照图2中的I)更大地减小非显示区域NA的宽度,从而提供具有窄边框的无边界产品。此外,根据本发明的LCD装置100可使用窄边框实现无边界产品,提高了用户对屏幕的专注度。此外,在根据本发明的IXD装置100中,即使阵列基板102设置在用户观看的上侧,仍能减小由于栅极线103和栅极电极105导致的反射,从而可提高环境对比度,由此最
终提高显示质量。在根据本发明的IXD装置中,阵列基板设置在用户观看的上侧,滤色器基板设置在用户不观看的下侧,与PCB或驱动IC芯片附接的FPC安装在阵列基板的非显示区域NA上,并向滤色器基板的后表面弯曲,从而不覆盖阵列基板的侧表面。因而,可比常规的LCD装置更大地减小非显示区域的宽度,从而提供窄边框型无边界产品。此外,根据本发明的LCD装置可实现窄边框型无边界产品并提高用户对屏幕的专注度。而且,在根据本发明的IXD装置中,即使阵列基板设置在用户观看的上侧,仍能减小由于栅极线和栅极电极导致的反射,从而可提高环境对比度,由此最终提高显示质量。在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在本发明的显示装置中可进行各种修改和变化,这对于本领域技术人员来说是显而易见的。因而,本发明意在覆盖落入所附权利要求范围及其等价范围内的本发明的修改和变化。
权利要求
1.一种液晶显示(IXD)装置,包括: 第一基板,在所述第一基板上限定有具有多个像素区域的显示区域和非显示区域,所述非显示区域设置在所述显示区域外部; 设置在所述第一基板上的栅极线和数据线,所述栅极线和数据线彼此交叉,以界定出所述像素区域; 形成在每个像素区域中的薄膜晶体管(TFT); 形成在每个像素区域中并与所述TFT连接的像素电极; 与所述第一基板相对设置的第二基板; 形成在所述第二基板的内侧表面上的滤色器层; 用于与所述像素电极产生电场的公共电极; 在所述第一和第二基板之间的液晶层;和 与位于所述第一基板一侧上的所述非显示区域连接的柔性印刷电路板(FPC),所述FPC向所述第二基板的外侧表面弯曲, 其中与所述第一基板接触的每条栅极线都具有双层结构,所述双层结构包括由透明导电材料形成的第一层和由铜(Cu)或铜合金形成的第二层。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中所述栅极线进一步包括在所述第一和第二层之间的第三层,所述第三层由钥(Mo)或钥合金(MoTi)形成。
3.根据权利要求 2所述的液晶显示装置,其中所述第一层具有大约200人到大约600人的厚度,所述第三层具有大约50人到大约500人的厚度,所述第三层的厚度小于所述第一层的厚度。
4.根据权利要求1所述的液晶显示装置,进一步包括与所述FPC附接的印刷电路板(PCB)或驱动集成电路(IC)芯片。
5.根据权利要求1所述的液晶显示装置,进一步包括设置在所述第二基板的外侧表面上的背光单元,其中所述FPC弯曲成与所述BLU的外侧表面重叠。
6.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中所述TFT的栅极电极与所述栅极线连接,并与所述栅极线由相同的材料形成在同一层。
7.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中所述公共电极形成在所述第二基板上,以覆盖所述滤色器层。
8.根据权利要求1所述的液晶显示装置,进一步包括形成在所述第一基板的所述显示区域的整个表面上以覆盖TFT的第一保护层,其中所述第一保护层具有暴露所述TFT的漏极电极的漏极接触孔,所述像素电极设置在所述第一保护层上。
9.根据权利要求8所述的液晶显示装置,其中所述公共电极形成在所述第一基板上,所述像素电极和所述公共电极的每个都具有分别形成在所述像素区域中的条形形状,其中所述公共电极设置在所述第一保护层上并与所述像素电极交替布置。
10.根据权利要求9所述的液晶显示装置,进一步包括形成在所述第一基板上并与所述栅极线平行地延伸的公共线,所述公共线与所述栅极线由相同的材料形成在同一层,其中所述公共电极与所述公共线连接。
11.根据权利要求1所述的液晶显示装置,进一步包括在所述像素电极与所述公共电极之间的绝缘层,其中所述像素电极和所述公共电极中的一个具有板形形状,所述像素电极和所 述公共电极中的另一个具有开口。
全文摘要
一种LCD装置,包括第一基板,所述第一基板包括具有像素区域的显示区域和设置在显示区域外部的非显示区域;位于所述第一基板上的栅极线和数据线,所述栅极线和数据线彼此交叉,以界定出所述像素区域;位于每个像素区域中的TFT;位于每个像素区域中并与所述TFT连接的像素电极;与所述第一基板相对设置的第二基板;在所述第二基板上的滤色器层;公共电极;在所述第一和第二基板之间的液晶层;和与位于所述第一基板一侧上的所述非显示区域连接的FPC,所述FPC向所述第二基板的外侧表面弯曲,其中每条栅极线都具有双层结构,所述双层结构包括透明导电材料的第一层和Cu或Cu合金的第二层。
文档编号G02F1/1368GK103163702SQ20121050639
公开日2013年6月19日 申请日期2012年11月30日 优先权日2011年12月8日
发明者张斗熙, 李政润, 赵恒燮 申请人:乐金显示有限公司
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