专利名称：一种双面光刻装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及ー种双面光刻装置，具体地说，涉及ー种方便调节对准的双面光刻机械装置。
背景技术：
目前，国内通用双面光刻エ艺采用是投影曝光和红外对准双面曝光エ艺。这两种光刻机的价格昂贵，维修成本较高，不适于低成本大功率半导体器件。大功率双向可控硅及大功率瞬态电压抑制ニ极管等半导体分立器件有着广泛的市场需求。
实用新型内容本实用新型正是为了解决上述技术问题而设计的一种双面光刻装置。 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是—种双面光刻装置，包括光刻机、双面对准光刻版和光刻板固定夹具；其光刻板固定夹具包括调整框、铝盖、锁紧夹和铝座架；双面对准光刻版包括规格相同的光刻版B和光刻版A，光刻版B和光刻版A四个角上均有专用对准标记；光刻版B固定在铝盖上，光刻版A固定在铝座架上，硅片置于光刻版B和光刻版A之间，通过两个锁紧夹将光刻版B、硅片和光刻版A牢牢固定。所述ー种双面光刻装置，其铝座架两个对角上各有ー个可调节锁紧夹，铝座架另两个对角上各有ー个定位孔，定位孔内为M4顶丝手柄滚花，定位孔是在铝座架上开孔然后嵌入铜套，铝座架下方四个角上各有一个硬塑料王支架，两个调节手柄通过固定螺丝将其固定在招座架两侧的中间位直。所述ー种双面光刻装置，其可调节锁紧夹张口中有一个弹簧，固定螺丝穿过弹簧中心，调节手柄通过固定螺丝固定在可调节锁紧夹外側。所述ー种双面光刻装置，其铝盖四个边各有两个定位调整顶丝，两个调节手柄通过固定螺丝将其固定在铝盖两侧的中间位置，铝盖两个对角上各有ー个定位孔。本实用新型双面光刻技术由普通光刻机改造而成，有一个有调节功能的光刻板固定夹具，首先要在在显微镜下完成双面光刻版图的对准，固定好两块光刻板的位置，通过导轨完成毎次光刻对准、锁定和压紧，两面同时曝光完成光刻エ序。本实用新型双面光刻结构简单巧妙，此装置操作便捷，生产效率高，适用于5 以上对准精度要求的大功率半导体分立器件。其エ艺流程是I、准备工作。首先把做好对准标记的光刻版A固定到夹具的底面上，将光刻板B放置在可调节的夹具正面上。在显微镜下，将光刻板A、B对准。2、光刻工作。将涂胶的硅片置于光刻夹具的A、B版之间，平行移动导柱使光刻板A、B面与硅片平行接触。旋转紧固锁，观察到硅片上面有干渉条纹。将硅片双面曝光。3、硅片显影后，检查光刻边缘的整齐度，合格后下传。[0014]本实用新型的有益效果是改善了现有技术的エ艺成本，提供ー种结构性夹具，配合在光刻版图上做出对准标记，应用机械导柱和引导腔体设计，保证上下版图对准重复精度小于3 iim，提高了劳动效率。其结构简单巧妙，操作便捷，重复性能好。
图I为本实用新型双面光刻用光刻版调整/对准锁紧结构示意图。图2为本实用新型光刻版对准标记示意图。图3为本实用新型双面光刻用光刻版调整/对准锁紧夹具外形示意图。图4为本实用新型的铝座架俯视结构示意图。
图5为本实用新型的铝座架正视结构示意图。图6为本实用新型的铝座架上可调节锁紧夹放大结构示意图。图7为本实用新型的铝盖俯视结构示意图。图8为本实用新型的铝盖正视结构示意图。图9为本实用新型的铝盖上调节手柄放大结构示意图。图10为本实用新型调整框结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型进ー步说明。如图1、2和3所示，本实用新型一种双面光刻装置，包括光刻机、双面对准光刻版3 7和光刻板固定夹具；所述光刻板固定夹具包括调整框2、铝盖4、锁紧夹5 8和铝座架6 ;双面对准光刻版包括规格相同的光刻版B3和光刻版A7，光刻版B3和光刻版A7四个角上均有专用对准标记；光刻版B3固定在铝盖4上，光刻版A7固定在铝座架6上，硅片I置于光刻版B3和光刻版A7之间，通过两个锁紧夹5 8将光刻版B3、硅片I和光刻版A7牢牢固定。如图4、5和6所示，铝座架6两个对角上各有ー个可调节锁紧夹5 8，铝座架6另两个对角上各有ー个定位孔26，定位孔26内为M4顶丝手柄滚花21，定位孔26是在铝座架6上开孔然后嵌入铜套23，铝座架6下方四个角上各有一个硬塑料王支架10，两个调节手柄24通过固定螺丝将其固定在铝座架6两侧的中间位置。可调节锁紧夹5 8张口中有一个弹簧27，固定螺丝穿过弹簧27中心，调节手柄(28)通过固定螺丝固定在可调节锁紧夹外侦れ如图7、8和9所示，铝盖4四个边各有两个定位调整顶丝9，两个调节手柄31通过固定螺丝将其固定在铝盖4两侧的中间位置，铝盖4两个对角上各有ー个定位孔32。本实用新型调整框结构如图10所示。其エ艺流程是I、准备工作。首先把做好对准标记的光刻版A固定到夹具的底面上，将光刻板B放置在可调节的夹具正面上。在显微镜下，将光刻板A、B对准。2、光刻工作。将涂胶的硅片置于光刻夹具的A、B版之间，平行移动导柱使光刻板A、B面与硅片平行接触。旋转紧固锁，观察到硅片上面有干渉条纹。将硅片双面曝光。3、硅片显影后，检查光刻边缘的整齐度，合格后下传。[0034] 本实用新型不局限于上述最佳实施方式，任何人在本实用新型的启示下得出的其他任何与本实用新型相同或相近似的产品，均落在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种双面光刻装置，包括光刻机、双面对准光刻版(3) (7)和光刻板固定夹具；其特征在于所述光刻板固定夹具包括调整框(2)、铝盖(4)、锁紧夹(5) (8)和铝座架(6);双面对准光刻版包括规格相同的光刻版B (3)和光刻版A (7)，光刻版B (3)和光刻版A (7)四个角上均有专用对准标记；光刻版B (3)固定在铝盖(4)上，光刻版A (7)固定在铝座架(6)上，硅片(I)置于光刻版B (3)和光刻版A (7)之间，通过两个锁紧夹(5) (8)将光刻版B (3)、硅片(I)和光刻版A (7)牢牢固定。
2.根据权利要求I所述的ー种双面光刻装置，其特征在于铝座架(6)两个对角上各有ー个可调节锁紧夹(5) (8)，铝座架(6)另两个对角上各有ー个定位孔(26)，定位孔(26)内为M4顶丝手柄滚花(21)，定位孔(26)是在铝座架(6)上开孔然后嵌入铜套(23)，铝座架(6)下方四个角上各有一个硬塑料王支架(10)，两个调节手柄(24)通过固定螺丝将其固定在铝座架(6 )两侧的中间位置。
3.根据权利要求I所述的ー种双面光刻装置，其特征在于可调节锁紧夹(5)(8)张ロ中有一个弹簧(27)，固定螺丝穿过弹簧(27)中心，调节手柄(28)通过固定螺丝固定在可调节锁紧夹外側。
4.根据权利要求I所述的ー种双面光刻装置，其特征在于铝盖(4)四个边各有两个定位调整顶丝(9)，两个调节手柄(31)通过固定螺丝将其固定在铝盖(4)两侧的中间位置，铝 盖(4)两个对角上各有ー个定位孔(32)。
专利摘要本实用新型公开了一种双面光刻装置，包括光刻机、双面对准光刻版和光刻板固定夹具；其光刻板固定夹具包括调整框、铝盖、锁紧夹和铝座架；双面对准光刻版包括规格相同的光刻版B和光刻版A，光刻版B和光刻版A四个角上均有专用对准标记；光刻版B固定在铝盖上，光刻版A固定在铝座架上，硅片置于光刻版B和光刻版A之间，通过两个锁紧夹将光刻版B、硅片和光刻版A牢牢固定。本实用新型改善了现有技术的工艺成本，提供一种结构性夹具，配合在光刻版图上做出对准标记，应用机械导柱和引导腔体设计，保证上下版图对准重复精度小于3μm，提高了劳动效率。其结构简单巧妙，操作便捷，重复性能好。
文档编号G03F9/00GK202600360SQ201220216139
公开日2012年12月12日 申请日期2012年5月15日 优先权日2012年5月15日
发明者苗任忠 申请人:朝阳无线电元件有限责任公司