专利名称：梳状干涉滤光片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种滤光片，尤其是指一种光纤通信中广泛采用的梳状滤光片。
背景技术：
波分复用技术(WDM)对于光通信技术的发展起到了巨大的推动作用，以DWDM技术为核心的光传送网将成为电信网的主要传送平台。在密集波分复用技术中，随着信道复用密度的提高，一种新型光器件一光学梳状滤波器(Interleaver)应运而生。而制造光学梳状滤波器的关键器件——梳状干涉滤光片的需求也大大增加。现有技术中，是在某种基板上，用各种真空镀膜法交替沉积具有一定厚度的高折
射率或低折射率的金属-介质-金属膜，或者纯金属膜以构成法布里一帕罗(FP)干涉滤光片。存在以下问题1、金属膜或金属-介质-金属膜的吸收较大，限制了滤光片性能的提高；2、透射峰较宽，峰值透射率偏低，结构和制作较复杂，无法大批量生产。
发明创造内容本实用新型目的在于提供一种梳状干涉滤光片，更换了镀膜材料，直接改变了膜层构成，膜层由金属-介质-金属膜或者纯金属膜变更为两种高低折射率的介质膜，膜层对入射光的吸收少了，插入损耗变小，从而提高了滤光片性能。为了实现上述实用新型目的，本实用新型所采用的技术方案为一种梳状干涉滤光片，包括基板，还包括交替重叠设于基板上的复数层高折射率介质膜层及低折射率介质膜层。进一步，所述高折射率介质膜层由高折射率材料制成，所述低折射率介质膜层由低折射率材料制成。本实用新型的有益效果在于更换了镀膜材料，直接改变了膜层构成，膜层由金属-介质-金属膜或者纯金属膜变更为，两种高低折射率的介质膜，膜层对入射光的吸收少了，插入损耗变小了，滤光片在性能上有了显著的提高；其次，干涉峰的间距可控性更强，峰值透射率增高，结构和制作更简单，更利于大批量生产。
图I为本实用新型的结构原理示意图；图2为本实用新型在设置单面膜层的透过曲线图；图3为本实用新型与在设置双面膜层后产生干涉的损耗曲线图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，
以下结合附图和实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。请参考图I所示，大范围可调谐滤光片包括基板41，交替重叠设于基板41上的复数层高折射率膜层42及低折射率膜层43，所述高折射率膜层42及低折射率膜层43叠加后的层数大于100层，复数层高折射率膜层42及低折射率膜层43形成膜层4’。所述高折射率膜层由高折射率材料制成，所述低折射率膜层由低折射率材料制成。如图2所示，为梳妆干涉滤光片已镀单面膜层的产品用Lambda900紫外分光仪实测透过率曲线图。如图3所示，为梳妆干涉滤光片双面镀膜完成后，用光谱分析仪实测产品产生干涉的损耗曲线图，由该图可见I、该滤光片有较宽的工作波长1250-1350nm ；2、自由光谱宽度(干涉峰间距)为2nm ；3、插入损耗小于3. 5db。 以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种梳状干涉滤光片，包括基板，其特征在于，还包括交替重叠设于基板上的复数层高折射率介质膜层及低折射率介质膜层。
2.如权利要求I所述的一种梳状干涉滤光片，其特征在于，所述高折射率介质膜层由高折射率材料制成，所述低折射率介质膜层由低折射率材料制成。
专利摘要本实用新型公开一种梳状干涉滤光片,包括基板，还包括交替重叠设于基板上的复数层高折射率介质膜层及低折射率介质膜层。更换了镀膜材料，直接改变了膜层构成，膜层由金属-介质-金属膜或者纯金属膜变更为，两种高低折射率的介质膜，膜层对入射光的吸收少了，插入损耗变小了，滤光片在性能上有了显著的提高；其次，干涉峰的间距可控性更强，峰值透射率增高，结构和制作更简单，更利于大批量生产。
文档编号G02B5/28GK202693834SQ201220328809
公开日2013年1月23日 申请日期2012年7月9日 优先权日2012年7月9日
发明者黄宇山 申请人:深圳市飞莱特光电技术有限公司