本发明涉及一种在微电子设备、传感器和光学元件等领域的先进光刻技术，具体涉及可重复将高分辨率和复杂图案压印到制品表面的一种用于压印衬底表面的微接触印刷装置。
背景技术：
带有微米或亚微米特征图案表面的现有方法包括照射光刻方法如光刻、电子束光刻、X射线光刻，伴随电子束光刻，穿过刻件表面光束扫描光栅产生图案，这是一个缓慢、昂贵的过程，被用于照片和X射线光刻方法的该设备不容易做大面积图案，半导体应用的典型光刻打印机具有小区域，这些小区域必须被缝合在一起形成一个连续的大面积衬底上的图案，缝合过程是昂贵和费时的。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题是方便、经济，可重复打印大面积的图案，从而提高吞吐量，具有成本效益。
为了解决上述技术问题，本发明采用技术方案是：一种用于压印衬底表面的微接触印刷装置。
一种用于压印衬底表面的微接触印刷装置，包括：压力室，微接触印刷盖被安装在压力室内，且具有主要表面和具有多个接触表面的压印表面，第一平台结构定位在压力室内用来接收衬底，使得衬底表面与压印表面相对，机械止动器被连接到第一平台结构来允许在接近压印表面的位置放置衬底，而不会带来二者接触，弹性膜连接到第一平台结构使得衬底表面和压印表面在靠近的位置接触，抽针被安装到顶部塑料板使得利用压力室压力将衬底表面从压印表面分离。
所述的第一平台结构包括一真空吸盘。
所述的微接触印刷盖包括一支撑结构，机械止动器与支撑结构相对。
所述的弹性膜包括一种充气弹性体膜片。
还包括第二平台结构，其与第一平台结构相对，还包括连接到第一平台结构的构件，其具有可调整的高度，在第一平台结构和第二平台结构之间延伸。
所述的构件包括一弹簧，沿高度的一部分延伸，提供构件的调整高度来响应微接触印刷盖的主要表面的压力变化。
本发明要解决的优点和有益效果是：方便、经济，可重复打印大面积的图案，从而提高吞吐量，具有成本效益。
附图说明
附图1：一种用于压印衬底表面的微接触印刷装置横截面示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步说明：一种用于压印衬底表面的微接触印刷装置包括压力室（10），微接触印刷盖（1）被安装在压力室（10）内，且具有主要表面（5）和具有多个接触表面（4）的压印表面（3），第一平台结构（13）定位在压力室（10）内用来接收衬底（11），使得衬底表面（12）与压印表面（3）相对，所述的第一平台结构（13）包括一真空吸盘，机械止动器（6）被连接到第一平台结构（13）来允许在接近压印表面（3）的位置放置衬底（11），而不会带来二者接触，所述的微接触印刷盖（1）包括一支撑结构（2），机械止动器（6）与支撑结构（2）相对，弹性膜（7）连接到第一平台结构（13）使得衬底表面（12）和压印表面（3）在靠近的位置接触，所述的弹性膜（7）包括一种充气弹性体膜片，抽针（8）被安装到顶部塑料板（9）使得利用压力室压力将衬底表面（12）从压印表面（3）分离，还包括第二平台结构（15），其与第一平台结构（13）相对，还包括连接到第一平台结构（13）的构件（14），其具有可调整的高度，在第一平台结构（13）和第二平台结构（15）之间延伸，所述的构件（14）包括一弹簧，沿高度的一部分延伸，提供构件的调整高度来响应微接触印刷盖（1）的主要表面（5）的压力变化。