1.一种配向膜的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上涂覆电阻型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第一图层；
对所述第一图层进行胺化反应；
在形成有胺化后的第一图层的衬底基板上，涂覆光敏型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第二图层；
对所述第二图层进行光照，使该第二图层形成用于使液晶分子定向排列的沟槽；
对所述第二图层进行胺化反应。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，
所述光敏型的聚酰胺共聚物为光异构型材料。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，还包括：
在所述第二图层形成沟槽后，采用加热方式对所述第一图层和第二图层进行固化。
4.根据权利要求1-3任一项所述的制作方法，其特征在于，
对所述第一图层进行胺化反应，包括：
使用加热板对所述第一图层进行加热，使所述第一图层发生胺化反应。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，
使用加热板对所述第一图层进行加热，包括：
在相距所述第一图层21mm-25mm的位置，设置温度为78℃-82℃的加热板以对所述第一图层进行加热，加热时间为25s-35s；之后，
将所述加热板设置在相距所述第一图层15mm-19mm的位置，以对所述第一图层进行加热，加热时间为85s-95s。
6.根据权利要求1-3任一项所述的制作方法，其特征在于，
对所述第二图层进行胺化反应，包括：
使用加热板对所述第二图层进行加热，使所述第二图层发生胺化反应。
7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，
使用加热板对所述第二图层进行加热，包括：
在相距所述第二图层21mm-25mm的位置，设置温度为78℃-82℃的加热板以对所述第二图层进行加热，加热时间为25s-35s；之后，
将所述加热板设置在相距所述第二图层15mm-19mm的位置，以对所述第二图层进行加热，加热时间为85s-95s。
8.一种配向膜的制作装置，其特征在于，包括：
第一涂覆模块，用于在衬底基板上涂覆电阻型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第一图层；
第一胺化模块，用于对所述第一图层进行胺化反应；
第二涂覆模块，用于对在形成有胺化后的第一图层的衬底基板上，涂覆光敏型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第二图层；
光刻模块，用于对所述第二图层进行光照，使该第二图层形成用于使液晶分子定向排列的沟槽；
第二胺化模块，用于对所述第二图层进行胺化反应。
9.根据权利要求8所述的制作装置，其特征在于，
所述光敏型的聚酰胺共聚物为光异构型材料。
10.一种配向膜，其特征在于，所述配向膜为采用权利要求1-7任一项所述的制作方法制成。