一种光刻机的硅片转移装置的制作方法

文档序号:11048446阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种光刻机的硅片转移装置,包括机架,其特征在于:所述机架上设置有成直线排列的等待工位、校正工位和光刻工位,所述机架上水平滑动安装有错位设置的第一转移架和第二转移架,所述第一转移架和第二转移架的滑动方向与校正工位和光刻工位的连线平行,所述第一转移架和第二转移架均与同一个水平动力装置传动连接,该第一转移架和第二转移架的运动状态相反;所述第一转移架处于光刻工位时,第二转移架处于校正工位一侧的等待工位;所述第一转移架和第二转移架的结构相同,所述第一转移架包括第一滑板,所述第一滑板滑动安装于机架上,所述第一滑板的底部安装有水平设置的第一转移框,所述第一转移框上设置有避让校正机构的避让口,所述第一转移框上设置有与抽气系统连通的吸气孔,所述机架上设置有校正对射式传感器的发射端,该校正对射式传感器的发射端位置与校正工位位置对应,对应的所述第一滑板以及第二转移架上的第二滑板上均设置有校正对射式传感器的接收端,所述机架上还设置有对第一转移架或第二转移架定位于光刻工位的光刻定位装置。

2.如权利要求1所述的一种光刻机的硅片转移装置,其特征在于:所述机架上设置有安装侧板,所述安装侧板上设置有平行的上滑槽和下滑槽,所述第一滑板包括第一水平板部和第一竖直板部,所述第一水平板部滑动安装于上滑槽内,所述第二转移架的第二滑板与第一滑板的结构相同;第二滑板的第二水平板部滑动安装于下滑槽内,所述第一滑板的第一水平板部以及第二滑板的第二水平板部均与所述水平动力装置传动连接。

3.如权利要求2所述的一种光刻机的硅片转移装置,其特征在于:所述上滑槽和下滑槽的长度相同,且上滑槽的两端分别与等待工位和光刻工位位置对应;所述校正对射式传感器的发射端的位置对应于上滑槽的中段且处于等待工位和光刻工位之间。

4.如权利要求3所述的一种光刻机的硅片转移装置,其特征在于:所述水平动力装置包括转动安装于安装侧板上的主动带轮和从动带轮,所述主动带轮与伺服电机连接,所述主动带轮和从动带轮之间安装有封闭的皮带环,所述第一水平板部和第二水平板分别固定于皮带环的上皮带段和下皮带段上。

5.如权利要求4所述的一种光刻机的硅片转移装置,其特征在于:所述第一转移框包括三根第一转移杆,所述三根第一转移杆依次连接成矩形框结构,所述吸气孔设置于三根第一转移杆上,所述三根第一转移杆中靠近安装侧板的一根第一转移杆通过第一连接杆与第一滑板的底部连接,第一连接杆处于安装侧板的下方,所述第一转移框的高度低于第二转移框的高度,第一滑板的第一竖直板部与安装侧板之间设置有方便第二滑板穿过的通过间隙。

6.如权利要求5所述的一种光刻机的硅片转移装置,其特征在于:所述光刻定位装置包括设置于上滑槽和下滑槽的同侧端部的第一接触开关和第二接触开光,所述第一接触开光和第二接触开光分别与第一转移架和第二转移架对应配合。

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