量子点保护膜以及使用其而得到的波长变换片及背光单元的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明提供一种量子点保护膜，其是用于对荧光体进行封装的量子点保护膜，该量子点保护膜具有：保护层，其具有最大尺寸为100～500μm的异物；以及涂层，其形成在该保护层的一个面上，保护层中的最大尺寸为100～500μm的异物的丰度比为0.01～5.0个/m2，雾度值大于或等于20％。

技术研发人员：村田光司;松政健司;冈村贤吾;岩田贤;黑川真登
受保护的技术使用者：凸版印刷株式会社
技术研发日：2016.04.01
技术公布日：2017.12.01