技术总结
本发明提供了一种曝光设备，其包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。本发明的曝光设备能够在一个生产节拍周期内使用多块平面曝光光罩对多块基板进行曝光，同时能够全部利用光源提供的曝光光线，从而可以提高曝光效率，同时避免能源的浪费。
技术研发人员：朱美娜
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
文档号码：201710145195
技术研发日：2017.03.10
技术公布日：2017.05.10