超大板直写式光刻机扫描曝光方法与流程

技术总结
本发明公开了超大板直写式光刻机扫描曝光方法，属于直写曝光技术领域。本发明采用光路覆盖半个整板面积的方式和基板大小自动判断的方法来完成超大板和普通板的兼顾生产，使其在生产超大板时能够有与现有超大板LDI同等的生产产能和效果，生产普通板时能与普通板LDI拥有同等的生产产能和效果，提高设备的利用率和适用性。

技术研发人员：陈海巍
受保护的技术使用者：无锡影速半导体科技有限公司
文档号码：201710156795
技术研发日：2017.03.16
技术公布日：2017.06.06