结构化光发生器、对象识别设备、电子装置、结构光系统的制作方法

与本文公开的示例性实施例一致的方法和设备涉及用于产生结构化照明的结构化光发生器和用于通过使用结构化光发生器来感测三维(3d)对象的形状或运动的对象识别设备。

背景技术：

近来，为了识别诸如人或其它物体的对象，已经注重通过使用精确的三维(3d)形状识别来准确地辨别对象的形状、位置、运动等。作为这方面的一种方法，已经开发了使用结构化光的3d感测技术(结构化光系统)，因此，精确的运动识别变得可能。

与以前使用的光系统相比，当与各种电子装置组合时，这种结构化光系统需要具有更小的尺寸和更高的分辨率。为了产生结构化光，通常使用诸如衍射光学元件(doe)的光学部件，并且这种光学部件的体积是影响设计和制造要求的精确度的因素。

技术实现要素：

本文公开的示例性实施例提供了用于产生结构化光的结构化光发生器。

本文公开的示例性实施例还提供了包括结构化光发生器的三维(3d)对象识别设备。

将在下面的描述中部分地阐述另外的方面，并且这些另外的方面将从描述中部分地显而易见，或者可以通过实施所呈现的示例性实施例来了解。

根据示例性实施例的一方面，提供了结构化光发生器，包括：光源，被配置为发射光；以及第一超颖光学装置，其包括第一超颖表面，第一超颖表面包括具有比从光源发射的光的波长小的亚波长尺寸的纳米结构，其中，第一超颖表面被配置为形成从光源发射的光的光线分布，从而辐射结构化光。

第一超颖光学装置的纳米结构可以具有被配置为相对于入射在其上的发射光实现预定的透射强度分布和透射相位分布的形式。

光源可以包括光出射表面，发射的光通过该光出射表面出射，并且第一超颖光学装置可以具有整体式结构，可以直接设置在光源的光出射表面上。

第一超颖光学装置的纳米结构可以具有这样的形状和布置，该形状和布置被确定为使得重复相对于入射在其上的发射光实现的透射强度分布和透射相位分布。

第一超颖光学装置的纳米结构可具有形状和分布，使得获得两个透射相位调制值。

两个透射相位调制值可以是0和π。

可以确定从光源到第一超颖表面的距离，使得由光线的分布形成的结构化光图案的对比度为最大。

从光源到第一超颖表面的距离(d)满足以下条件：

其中λ表示从光源发射的光的波长，a1表示在第一超颖光学装置中重复相同结构的周期，m表示自然数。

结构化光发生器还可以包括第二超颖光学装置，其设置在光源和第一超颖光学装置之间，并且第二超颖光学装置可以包括配置为调节从所述光源发射的光的波束形状的第二超颖表面。

第一超颖光学装置和第二超颖光学装置可以共享支撑第一超颖表面和第二超颖表面的支撑基底，并且第一超颖表面和第二超颖表面可以分别设置在支撑基底的不同表面上，不同表面彼此面对。

结构化光发生器还可以包括第三超颖光学装置，其包括第三超颖表面，第三超颖表面被配置为在预定角空间中重复地形成由第一超颖光学装置形成的光线分布。

第一超颖光学装置和第三超颖光学装置可以共享支撑第一超颖表面和第三超颖表面的基底，并且第一超颖表面和第三超颖表面可以分别设置在基底的相对表面上，相对表面彼此面对。

纳米结构可以具有圆柱形形状或多边形棱柱形状。

纳米结构可以具有不对称形状。

第一超颖光学装置还可以包括支撑纳米结构的基底。

纳米结构可以包括具有比基底的折射率大的折射率的电介质材料。

纳米结构可以包括导电材料。

纳米结构中的一些纳米结构可以包括具有比基底的折射率大的折射率的电介质材料，并且纳米结构中的其他纳米结构可以包括导电材料。

根据另一示例性实施例的一方面，提供了三维(3d)对象识别设备，包括结构化光发生器、传感器和处理器，结构化光发生器包括：光源，被配置为发射光；以及第一超颖光学装置，其包括第一超颖表面，第一超颖表面包括具有比从光源发射的光的波长小的亚波长尺寸的纳米结构，其中，第一超颖表面被配置为形成从光源发射的光的光线分布，从而辐射结构化光，并且其中，结构化光发生器被配置为以预定图案朝向对象辐射结构化光，传感器被配置为接收从对象反射的结构化光，处理器被配置为通过比较由结构化光发生器辐射的结构化光和由传感器接收的结构化光中的图案变化来分析对象的形状或运动。

根据另一示例性实施例的一方面，提供了包括3d对象识别设备的电子装置。

附图说明

通过结合附图对示例性实施例的以下描述，这些和/或其他方面将变得明显和更容易理解，在附图中：

图1是由根据示例性实施例的结构化光发生器中使用的超颖表面形成的结构化光的概念图；

图2是示出通过根据示例性实施例的结构化光发生器中使用的超颖表面执行的光学功能的示例的概念图；

图3是示出了入射在图2中的每个超颖表面上的光束形式的示例的概念图；

图4是根据示例性实施例的结构化光发生器的结构的示意性横截面图；

图5是图4的结构化光发生器中使用的超颖表面的示例结构的透视图；

图6是示出了由图4的结构化光发生器的超颖表面引起的相位变化分布的示例的图表；

图7是示出了由具有图6的相位变化分布的结构化光发生器形成的光线分布(即结构化光图案)作为角空间中的强度分布的图表；

图8是示出了根据光出射表面和图4的结构化光发生器中的超颖表面之间的距离，图7的结构化光图案的对比度的图表；

图9示出了由图4的结构化光发生器形成的光线分布(即结构化光图案)的示例；

图10是根据另一示例性实施例的结构化光发生器的结构的示意性横截面图；

图11是根据另一示例性实施例的结构化光发生器的结构的示意性横截面图；

图12是根据另一示例性实施例的结构化光发生器的结构的示意性横截面图；

图13是根据另一示例性实施例的结构化光发生器的结构的示意性横截面图；

图14是根据另一示例性实施例的结构化光发生器的结构的示意性横截面图；

图15概念性地示出了来自相应光源的入射光束通过图14的结构化光发生器以不同的形式自成像，以形成复合结构化光；以及

图16是根据示例性实施例的三维(3d)对象识别设备的结构的示意性框图。

具体实施方式

现在将详细参考示例性实施例，其示例在附图中示出。附图中相同的附图标记表示相同的元件，并且为了描述的清楚和方便，附图中的元件的尺寸可能被夸大。本示例性实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于本文所阐述的描述。因此，下面仅通过参考附图来描述示例性实施例以解释各方面。

以下，将理解的是，当元件或层被称为“形成在另一元件或层上”时，元件或层可以与另一元件或层接触并直接形成在另一元件或层上或者不与另一元件或层接触并间接形成在其上。

如本文所使用的，除非上下文另有明确指示，否则单数形式“一个”及其变体旨在包括复数形式。还应当理解，当在本文中使用时，术语“包括”及其变体指定其它元件的存在，但不排除其它元件的存在或添加，除非特别地指出。

此外，诸如“-器”的术语是指用于执行至少一个功能或操作的单元，并且该单元可以用硬件或软件或硬件和软件的组合来实现。

图1是由根据示例性实施例的结构化光发生器中使用的超颖表面ms形成的结构化光sl的概念图。

超颖表面ms可以形成从光源ls发射的光的光线分布。光源ls可以是点光源，例如激光二极管。对于由光源ls形成的入射光束，超颖表面ms可以形成在空间上行进的光线的分布。也就是说，从光源ls发射并形成一个束斑10的光通过超颖表面ms被分成多个光线，并且多个光线的每个在预定角空间上形成束斑图像12。束斑图像12具有由超颖表面ms的详细条件确定的各种分布，并且被称为结构化光sl。

图2是示出通过根据示例性实施例的结构化光发生器中使用的超颖表面执行的光学功能的示例的概念图，并且图3是示出了入射在图2中的每个超颖表面上的光束的形式的示例的概念图。

超颖表面可以被实现成配置为使入射光束成形的波束成形器bs、配置为以预定波束图案产生入射光的图案发生器pg、配置为复制由图案发生器pg形成的图案的复制器dp及其组合等。

波束成形器bs可以调整从光源ls发射的光l1的发散角、波束截面形式、尺寸等。由波束成形器bs成形的光束l2入射在图案发生器pg上，然后以要入射在复制器dp上的预定图案作为结构化光sl'发射出。复制器dp可以复制由图案发生器pg形成的结构化光sl'，并且因此可以形成最终结构化光sl。

在图2和3中，以波束成形器bs、图案发生器pg和复制器dp的顺序示出了可以由超颖表面执行的功能，但是示例性实施例不限于此。为了形成结构化光，可以使用波束成形器bs、图案发生器pg和复制器dp中的一个或多个，并且还可以改变排列顺序。

现在描述使用超颖表面的结构化光发生器的各个示例。

图4是根据示例性实施例的结构化光发生器100的结构的示意性横截面图，并且图5是图4的结构化光发生器100中使用的第一超颖光学装置120的示例结构的透视图。

结构化光发生器100包括光源110和第一超颖光学装置120，第一超颖光学装置形成来自光源110的光的光线分布。

光源110可以是激光光源，并且可以包括发射层和多个反射层，发射层在多个反射层之间。

第一超颖光学装置120包括第一超颖表面ms1，其包括多个纳米结构ns，多个纳米结构ns的亚波长尺寸小于从光源110发射的光的波长λ。纳米结构ns的高度h小于从光源110发射的光的波长λ。此外，多个纳米结构ns之间的布置距离p小于波长λ。在图5中，纳米结构ns被示出为具有圆柱形形状，但不限于此。在一些示例性实施例中，纳米结构ns可以具有柱状，该柱状具有各种横截面形状，例如多边形形状，十字形状，星形形状，不对称形状等。可替代地，纳米结构ns可以具有不对称形状。

此外，第一超颖光学装置120还可以包括支撑构成第一超颖表面ms1的纳米结构ns的基底su1。

基底su1可以包括电介质材料。例如，聚合物材料、sio2等可以用于形成基底su1，聚合物材料是比如聚碳酸酯(pc)、聚苯乙烯(ps)或聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)。

纳米结构ns可以包括电介质材料，并且可以包括具有比基底su1的折射率大的折射率的材料。例如，单晶硅、多晶硅、非晶硅、si3n4、gap、tio2、alsb、alas、algaas、algainp、bp和zngep2中的一种可以用于形成纳米结构ns。

可替代地，纳米结构ns可以包括导电材料。导电材料可以是高导电性金属材料，其中可能出现表面等离子体激发。例如，纳米结构ns可以包括选自铜(cu)、铝(al)、镍(ni)、铁(fe)、钴(co)、锌(zn)、钛(ti)、钌(ru)、铑(rh)、钯(pd)、铂(pt)、银(ag)、锇(os)、铱(ir)和金(au)的群组中的至少一种，并且可以包括含有这些材料之一的合金。在一些示例性实施例中，纳米结构ns可以包括具有良好导电性的二维材料，例如石墨烯或导电氧化物。

可替代地，纳米结构ns中的一些可以包括具有高折射率的电介质材料，并且其他纳米结构ns可以包括导电材料。也就是说，纳米结构ns中的一些可以包括具有比基底su1的折射率大的折射率的电介质材料，并且其他纳米结构ns可以包括导电材料。

纳米结构ns可以根据各自的材料和形状各自具有透射强度和透射相位。可以调整纳米结构ns的形状以调整穿过第一超颖表面ms1的光的相位或强度分布。在图5中，示出的所有纳米结构ns具有相同的形状、尺寸和高度。然而，该图示仅仅是示例，并且示例性实施例不限于此。例如，可以根据纳米结构ns的位置来调整单独纳米结构ns的水平或垂直尺寸或组成材料，以获得期望的透射强度分布或透射相位分布。为了获得期望的透射强度分布或透射相位分布，可以相对于包括纳米结构ns的预定群组来确定在每个位置处的纳米结构ns的形状分布。另外，可以以预定周期t重复布置这样形成的纳米结构体ns的群组。例如，图5示出了一组纳米结构ns，并且第一超颖表面ms1可以包括重复布置的所示纳米结构ns的群组。

第一超颖表面ms1可以具有被确定为充当从光源110发射的光的图案发生器的纳米结构ns形状和布置。

第一超颖光学装置120可以被配置为具有直接在光源110的光出射表面110a上的整体式结构。当第一超颖表面ms1包括以预定周期t重复布置的纳米结构ns组时，可以确定第一超颖表面ms1和光出射表面110a之间的距离d，使得由结构化光发生器100产生的结构化光的对比率，即对比度，可以最大，并且可以根据所确定的距离d来确定基底su1的厚度。距离d可以使用以下等式(1)来计算：

在等式(1)中，λ表示从光源110发射的光的波长，a1表示在第一超颖光学装置120中重复相同结构的周期，m表示自然数。即，a1是周期t，具有图5所示的预定形状分布的纳米结构ns组以周期t重复布置。

距离d表示对比度最大时的情况，并且第一超颖表面ms1和光出射表面110a之间的距离不限于此。例如，距离d可以通过考虑结构化光图案的高对比度、复杂性等来确定。

由于整体形成的第一超颖光学装置120直接设置在光源110的光出射表面110a上，所以结构化光发生器100的体积可以大大减小。第一超颖表面ms1可以非常薄，具有几微米或更小的厚度，因此，第一超颖光学装置120的厚度可以大大降低到几十微米或更小。随着结构化光发生器100的整体体积大大减小，对制造的限制(例如，对在其他电子装置中的使用的限制)可以减少，从而提高价格竞争力并拓宽应用范围。

在根据本示例性实施例的结构化光发生器100中使用的第一超颖表面ms1可以具有被确定为用作图案发生器的纳米结构ns形状和布置。例如，可以确定纳米结构ns的形状和布置，使得可以重复地示出相对于入射光的两个相位调制值。例如，第一超颖表面ms1可以具有两个相位调制值0和π。

图6是示出了由图4的结构化光发生器100的第一超颖表面ms1引起的透射相位分布的示例的图表。

标记在图表的横轴上的字母x表示布置纳米结构体ns的一维方向。参考该图表，示出了在0.5μm的周期期间重复发生0和π的透射相位的脉冲序列，并且脉冲序列的占空比为0.5。所实现的透射相位分布的形式是一示例，并且纳米结构ns的形状、布置和材料可以被不同地修改以形成期望的结构化光图案。

图7是示出了由具有图6的透射相位分布的结构化光发生器形成的光线分布(即结构化光图案)作为角空间中的强度分布的图表。

参考图7，强度分布在每个角位置处不是均匀的。然而，可以调整第一超颖表面ms1的设计因素，以使每个角位置处的强度分布均匀。

图8是示出了根据图4的结构化光发生器100中的光出射表面110a和第一超颖表面ms1之间的距离，图7的结构化光图案的对比度的图表。

参考图8，重复示出了对比度从最小值到最大值的变化。可以看出，当距离d是预定值的整数倍时，重复发生对比度的最大值。光出射表面110a和第一超颖表面ms1之间的距离可以通过考虑图8的图表来确定。

图9示出了由图4的结构化光发生器100形成的光线分布(即结构化光图案)的示例。

亮点是由从光源发射的入射光通过第一超颖表面ms1在角空间上形成的光线。这样的结构化光可以用于通过比较在照射到对象上和由对象反射时出现的结构化光的图案变化来分析对象的运动、三维形状等。在这方面，随着指示亮点和暗部之间的差异的对比度增加，这种分析可能变得更容易。此外，在角空间上的均匀强度分布可以使得分析更容易。

图10是根据另一示例性实施例的结构化光发生器101的结构的示意性横截面图。

结构化光发生器101包括光源110、在光源110的光出射表面110a上的第二超颖光学装置123和在第二超颖光学装置123上的第一超颖光学装置121。

第一超颖光学装置121包括基底su1和第一超颖表面ms1，第二超颖光学装置123包括基底su2和第二超颖表面ms2。

在本示例性实施例中，第二超颖表面ms2被设计为用作使来自光源110的光成形的波束成形器。也就是说，第二超颖表面ms2调整从光源110发射的要入射到第一超颖表面ms1的光的发散角。第一超颖表面ms1用作图案发生器，其从具有由第二超颖表面ms2调整的发散角和入射光束形式的入射光中形成光线分布。

第一超颖表面ms1和第二超颖表面ms2各自包括具有亚波长尺寸的多个纳米结构，其中多个纳米结构的形状和布置根据上述功能中的每一个来设计。

图11是根据另一示例性实施例的结构化光发生器102的结构的示意性横截面图。

结构化光发生器102包括光源110和在光源110的光出射表面110a上的超颖光学装置125。根据本示例性实施例的结构化光发生器102从图10的结构化光发生器101的修改在于，根据结构化光发生器102，基底su1由第一超颖表面ms1和第二超颖表面ms2共享，并支撑第一超颖表面ms1和第二超颖表面ms2。即，超颖光学装置125具有分别位于基底su1的两个表面上的第一超颖表面ms1和第二超颖表面ms2。第二超颖表面ms2用作波束成形器并且直接接触光出射表面110a。第一超颖表面ms1从具有由第二超颖表面ms2调整的发散角和入射光束形式的入射光中形成光线分布。

图12是根据另一示例性实施例的结构化光发生器103的结构的示意性横截面图。

结构化光发生器103包括光源110、在光源110的光出射表面110a上的第一超颖光学装置131以及在第一超颖光学装置131上的第三超颖光学装置135。

第一超颖光学装置131包括基底su1和第一超颖表面ms1，第三超颖光学装置135包括基底su3和第三超颖表面ms3。

在本示例性实施例中，第一超颖表面ms1用作形成从光源110发出的光的光线分布的图案发生器，并且第三超颖表面ms3可以被设计为用作复制由第一超颖表面ms1形成的光线分布的复制器。

第一超颖表面ms1和第三超颖表面ms3各自包括具有亚波长尺寸的多个纳米结构，其中多个纳米结构的形状和布置根据上述功能中的每一个设计。

图13是根据另一示例性实施例的结构化光发生器104的结构的示意性横截面图。

结构化光发生器104包括光源110和在光源110的光出射表面110a上的超颖光学装置137。根据本示例性实施例的结构化光发生器104从图12的结构化光发生器103的修改在于，根据结构化光发生器104，基底su3由第一超颖表面ms1和第三超颖表面ms3共享，并支撑第一超颖表面ms1和第三超颖表面ms3。即，超颖光学装置137具有分别位于基底su3的两个表面上的第一超颖表面ms1和第三超颖表面ms3。第一超颖表面ms1和第三超颖表面ms3分别被设计为用作图案发生器和复制器。

根据本示例性实施例的结构化光发生器104与图12的结构化光发生器103的不同在于，第一超颖表面ms1和第三超颖表面ms3在一个基底su3的两个表面上。此外，具有满足光出射表面110a和第一超颖表面ms1之间的距离条件的厚度的基底su1设置在光源110和超颖光学装置137之间。

迄今已经描述了包括两个超颖表面的结构化光发生器的示例。尽管已经描述了其中两个超颖表面被设计为分别用作波束成形器和图案发生器或者分别用作图案发生器和复制器的示例，但是两个超颖表面的示例不限于此。

此外，根据某些示例性实施例，可以使用多于两个超颖表面。例如，可以实现包括分别用作波束成形器、图案发生器和复制器的三个超颖表面的结构化光发生器。

图14是根据另一示例性实施例的结构化光发生器105的结构的示意性横截面图，图15概念性地示出了多个光源的入射光束通过图14的结构化光发生器105自成像，以形成结构化光。

结构化光发生器105包括光源阵列115和在光源阵列115上的超颖光学装置140。

光源阵列115包括多个光源115a至115d。例如，光源阵列115可以是垂直腔表面发射激光器(vcsel)阵列。

超颖光学装置140包括第一超颖表面阵列146和第二超颖表面阵列142。第一超颖表面阵列146和第二超颖表面阵列142可以分别位于基底su的两个表面上。可以确定基底su的厚度d以满足对第一超颖表面阵列146和第二超颖表面阵列142之间的距离的要求。

超颖光学装置140可以集成在光源阵列115上。

第二超颖表面阵列142包括分别面向多个光源115a、115b、115c和115d的多个第二超颖表面142a、142b、142c和142d。多个第二超颖表面142a至142d可以分别用作使从光源115a至115d发射的光成形的波束成形器。

第一超颖表面阵列146包括多个第一超颖表面146a、146b、146c和146d，其形成来自由第二超颖表面142a至142d成形的相应光束的光线分布。

虽然所有多个第一超颖表面146a至146d用作图案发生器，但是分别由第一超颖表面146a至146d产生的结构化光sla至sld的图案可以彼此不同。也就是说，第一超颖表面146a至146d形成图像束12，从每个光源115a至115d发射的入射光束10自成像到图像束，但是分别形成唯一的图案，使得图像束12如何在空间上分布可以是彼此不同的。为了实现该特征，第一超颖表面146a至146d可各自包括具有亚波长尺寸的多个纳米结构，但是重复布置相同结构的相应周期ta、tb、tc和td可以彼此不同。

结构化光发生器105用于产生复杂和精细的结构化光。产生具有彼此不同图案的结构化光的第一超颖表面146a至146d可以分别设置为对应于光源115a至115d，使得可以产生结构化光sla，slb，slc和sld的各个图案，并且由于所产生的结构化光sla至sld的图案的重叠而形成更复杂和更精细的最终结构化光sl。

尽管示出了结构化光发生器105的示例，其中用作波束成形器的第二超颖表面阵列142和用作图案发生器的第一超颖表面阵列146设置在光源阵列115上，但是结构化光发生器105不限于此。结构化光发生器105可以被修改为包括用作图案发生器的超颖表面阵列和用作复制器的超颖表面阵列。

图16是根据示例性实施例的三维(3d)对象识别设备1000的结构的示意性框图。

3d对象识别设备1000包括朝向对象obj辐射预定图案的结构化光sli的结构化光发生器1200、接收从对象obj反射的结构化光slr的传感器1400以及通过比较由结构化光发生器1200辐射的结构化光sli和由传感器1400接收的结构化光slr的图案变化来分析具有3d形状的对象obj的深度信息、形状或运动的处理器1600。

结构化光发生器1200可以包括光源和至少一个超颖表面，并且可以采取根据前述示例性实施例的结构化光发生器100至105中的一个或其组合的形式。

传感器1400感测由对象obj反射的结构化光slr。

处理器1600可以将辐射在对象obj上的结构化光sli和从对象obj反射的结构化光slr彼此进行比较，以分析对象obj的3d形状、位置、运动等。由结构化光发生器1200产生的结构化光sli是其中亮点和暗点被数学编码以唯一地指定相应角度方向位置坐标的图案。当这样的图案撞击在3d对象上并被反射时，反射的结构化光slr的图案采取辐射的结构化光sli的图案的变化形式。可以通过将这些图案相互比较并跟踪每个坐标的图案来提取对象obj的3d信息。

3d对象识别设备1000还可以包括控制器，其控制驱动结构化光发生器1200中的光源的操作、传感器1600的操作或者整个3d对象识别设备1000的总体操作。此外，3d对象识别设备1000还可以包括存储器等，其存储用于要在处理器1600中执行的3d信息提取的操作程序。

处理器1600的操作结果(即关于对象obj的形状和位置的信息)可以被传输到另一单元。例如，信息可以被传输到电子装置的控制器，3d对象识别设备1000用在电子装置中。

3d对象识别设备1000可以用作精确地获得关于对象(例如，在3d对象识别设备1000前面的对象)的3d信息的传感器，因此可以用于各种电子装置。例如，这样的电子装置可以是自主驱动装置(例如无人驾驶汽车、自主车辆、机器人或无人机)、增强现实装置、移动通信装置或物联网(iot)装置。

根据上述示例性实施例中的一个或多个的结构化光发生器可以通过使用包括亚波长的纳米结构的超颖表面来形成从光源发射的光的光线分布(结构化光)。

根据上述示例性实施例中的一个或多个的结构化光发生器使用这样的结构，在该结构中，超颖光学装置集成在光源上并因此易于小型化。

根据上述示例性实施例中的一个或多个的结构化光发生器可以使用一个或多个超颖表面并调整光源与超颖表面之间的距离，以及超颖表面的透射相位分布和透射强度分布，以产生具有高对比率的结构化光。

根据上述示例性实施例中的一个或多个的结构化光发生器可以用于被配置为感测对象的精确运动和3d形状的3d对象识别设备中。

应当理解，本文描述的示例性实施例应当是描述性的，而不是为了限制的目的。每个示例性实施例中的特征或方面的描述应当典型地被认为可用于其他示例性实施例中的其他类似特征或方面。

尽管已经参考附图描述了一个或多个示例性实施例，但是本领域普通技术人员将理解，在不脱离由所附权利要求限定的精神和范围的情况下，可以在形式和细节上进行各种改变。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年3月30日在美国专利和商标局提交的美国临时专利申请no.62/315,267以及于2016年8月31日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请no.10-2016-0112087的优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。