一种低温减反屏蔽层及其制备方法与流程

本发明涉及液晶显示领域，具体为一种低温减反屏蔽层及其制备方法，将其应用在液晶显示屏上，达到减反和屏蔽的效果。

背景技术：

低温ito镀膜广泛应用于触控显示领域，如ips液晶盒子屏蔽层低温镀膜；oncell或hybrid-incell低温镀膜；tft低温ito镀膜；柔性pet基板的低温ito镀膜等。其作为屏蔽层的应用则较为突出，屏蔽外界噪声信号，优化模块使用性能。由于屏蔽层较薄，对lcd屏显示效果影响相对较小，肉眼无法区分其差别，目前并未涉及减反效果的应用。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题是提供一种低温减反屏蔽层及其制备方法，通过ar层的镀制，达到减反及屏蔽的目的，具有屏蔽和减反的双重功能，进一步提升显示模组视觉效果。

为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：一种低温减反屏蔽层，包括ar复合膜层和ito层，ar复合膜层采用高折射率材料层和低折射率材料层进行搭配得到，其中高折射率材料层的厚度在50-72å，低折射率材料层的厚度在410-510å，ito层的厚度在160-180å。

进一步地，所述的高折射率材料层为nb2o5、si3n4、tio2或ta2o5，所述的低折射率材料层为sio2、sioxny或mgf2。

进一步地，所述的高折射率材料层为nb2o5，所述的低折射率材料层为sio2。

进一步地，包括依次设置的高折射率材料层、低折射率材料层和ito层。

进一步地，所述高折射率材料层的厚度在55å，低折射率材料层的厚度在490å，ito层的厚度在170å。

本发明还涉及制备所述的低温减反屏蔽层的方法，

利用真空磁控溅射技术，将高折射率材料层、低折射率材料层和ito层的厚度控制在要求的范围之内进行镀膜，即可得到所述的低温减反屏蔽层。

进一步地，镀膜的温度在80-100℃。传统ar膜镀膜温度为常温，采用蒸镀方式获取膜层，与本发明获取方式不一样，本发明采用连续式真空磁控溅射方式获得。由于液晶显示屏在镀膜过程中，温度过高会导致爆盒，破坏液晶，温度过低，导致ito膜层光学性能无法优化，折中采用80-100℃范围进行膜层制备。

本发明还涉及所述的低温减反屏蔽层在液晶显示屏中的应用。

利用真空磁控溅射技术，将ar+ito层镀于液晶显示屏上，然后将上、下偏光片分别贴于液晶显示屏两个面。

本发明经膜层结构优化，利用真空镀膜技术，在低温条件沉积减反层及屏蔽层，通过镀制减反屏蔽层，增加介质接触面，则相应增加膜层之间的反射，实现整体叠加效果，具体表现为ito与lcd屏之间，通过在lcd屏与屏蔽层之间镀ar，匹配相应ito膜层，ito与lcd屏接触面整体反射率趋于0，从而使得整体反射率降低，达到屏蔽及减反效果，提升显示模组视觉效果。

本发明为低温镀膜，低温镀膜需考虑ito膜层性能，不同镀膜条件，ito性能差异较大，主要表现为光谱曲线及电阻率。高温等影响极易出现膨胀、溢出造成模块损坏，为了保证液晶盒的完整性，需考虑液晶盒耐温问题，镀膜温度设置为80-100摄氏度，可进一步优化ito膜层性能。

目前在屏蔽功能膜中暂未应用减反技术，本发明通过减反射膜的应用，将其应用领域进一步延伸，经减反提升面板透光性能，提升显示效果。

附图说明

图1是传统的lcd显示屏的反射原理图。

图2是增加本发明提供的低温减反屏蔽层后的lcd显示屏的反射原理图。

图3为理论设计减反屏蔽层的反射光谱曲线图，其中a为ito层的曲线图，b为本发明中的ar+ito层的曲线图。

图4为与lcd屏及上、下偏光片贴合后测试的反射数据；其中c为ito层贴合lcd屏及上、下偏光片贴合后的曲线图，d为本发明中的ar+ito层贴合lcd屏及上、下偏光片后的曲线图。

图5为实施例2中增镀ar层与未增镀ar层的反射光谱曲线，其中e为ito层的曲线图，f为实施例2中的ar+ito层的曲线图。

具体实施方式

下面结合实施例，进一步阐明本发明。这些实施例应理解为仅用于说明本发明而不是用于限制本发明的保护范围。在阅读了本发明记载的内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，这些等效变化和修饰同样落入本发明权利要求书所限定的范围。

如图1所示传统的lcd显示屏，其中反射部分为r1+r2，整体反射率偏大。本发明的反射图如图2所示：其利用ar+ito膜层结构，实现ito、ar与lcd屏之间的减反功能，反射部分为r1，r3，r4叠加，使得r3+r4反射率趋于0，即反射部分只有r1，为空气与ito介质之间的反射。

实施例1：

减反屏蔽层各膜层及其厚度分别为：nb2o5层，厚度为55±5å；sio2层，厚度为490±20å；ito层，膜厚为170±10å。

所选材料在550nm处折射率如下：

nb2o5折射率为2.34；sio2折射率为1.46；ito折射率为1.95；

其具体的制备方法是：在80-100℃，利用真空磁控溅射技术，将nb2o5、sio2、ito镀膜厚度控制在如上范围即可

得到减反屏蔽层及采用单纯的ito屏蔽层进行测试得到的反射光谱曲线如图3所示。

然后将上下偏光片贴于lcd屏两个面，校正sd7000光学测试设备，lcd屏镀膜面朝下，测试反射数据，如图4所示。

通过对比二者反射曲线，减反射效果明显，增加ar镀层后，反射率下降明显；lcd屏后续需贴上下偏光片，在膜层设计时，需考虑入射介质及出射介质，减反射区域在二者之间，入射及出射介质分别为oca、玻璃基板，通过增加ar镀层，测试实际反射率较低。

实施例2：如采用tio2、mgf2材料进行制备，所选材料在550nm处折射率如下：

tio2折射率为2.38；mgf2折射率为1.38；ito折射率为1.95；

减反屏蔽层各膜层及其厚度分别为：tio2层，厚度为67±5å；mgf2层，厚度为430±20å；ito层，膜厚为170±10å。

根据实际测试数据，绘制二者反射光谱曲线，通过制备ar层，降低整体反射率，具体光谱曲线如图5所示：通过光谱曲线，可明显看出，增加ar层可降低整个波段（380-780nm）反射率，实现显示效果提升。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种低温减反屏蔽层及其制备方法，该低温减反屏蔽层包括AR复合膜层和ITO层，AR复合膜层采用高折射率材料层和低折射率材料层进行搭配得到，其中高折射率材料层的厚度在50‑72 Å，低折射率材料层的厚度在410‑510 Å，ITO层的厚度在160‑180 Å。本发明经膜层结构优化，利用真空镀膜技术，在低温条件沉积减反层及屏蔽层，增加介质接触面，则相应增加膜层之间的反射，实现整体叠加效果，具体表现为ITO与LCD屏之间，通过在LCD屏与屏蔽层之间镀AR，匹配相应ITO膜层，ITO与LCD屏接触面整体反射率趋于0，从而使得整体反射率降低，达到屏蔽及减反效果，提升显示模组视觉效果。

技术研发人员：江涛;方凤军;何建军;洪蒙;陈多
受保护的技术使用者：宜昌南玻显示器件有限公司;中国南玻集团股份有限公司
技术研发日：2017.07.24
技术公布日：2017.10.20