技术特征：
技术总结
本发明提供一种保存稳定性优异且形成有抗蚀剂图案时的图案线宽的波动(LWR)较小的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有通过光化射线或放射线的照射而产生由下述式(I)表示的酸的化合物及树脂。抗蚀剂膜由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成。图案形成方法及电子器件的制造方法中使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物。
技术研发人员：小岛雅史;浅川大辅;后藤研由;加藤启太;王惠瑜
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2017.06.09
技术公布日：2019.04.16