本发明涉及显影装置领域，特别涉及一种新型的显影装置。
背景技术：
由于摩尔定律的作用，半导体器件变得越来越小，在晶圆上形成的图案尺寸也随之变小，随着晶圆尺寸的变大和对显影分辨率要求的提升，对于工艺中的条宽均匀性的要求也在提高，由于掩模与晶圆的条宽是一定比例的投影关系，因此对掩模的条宽均匀性的要求也越来越严格。其中显影对线宽均匀性的影响很大，以往的显影方式会造成中心和边缘处显影液覆盖不均匀导致的条宽均匀性较差的问题；现有的显影装置在使用时存在一定的弊端，不能够有效的改善因显影液覆液不均匀导致的条宽均匀性差，无法满足人们的使用需求，给人们的使用过程带来了一定的影响，为此，我们提出一种新型的显影装置。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种新型的显影装置。
为了解决上述技术问题，本发明提供了如下的技术方案：
本发明一种新型的显影装置，包括承片台，所述承片台的内部中间处贯穿设置有真空吸尘器，所述承片台的一侧外表面固定安装有一号输送管，所述承片台的另一侧外表面固定安装有二号输送管，所述承片台的上端外表面固定安装有掩模，所述掩模的正上方固定安装有喷洒管道，所述喷洒管道的上端外表面一侧设置有去离子水管，所述喷洒管道的上端外表面另一侧设置有显影液管，所述显影液管远离离子水管的一端外表面固定安装有水套，所述掩模的上端外表面设置有显影液分散区，所述掩模的底端外表面中间处固定安装有显影喷头。
优选的，所述显影液管的内部均匀分布有显影液，显影液的温度范围为二十一度到二十四度，显影液的反应时间为一百秒到一百五十秒，显影液的浓度为百分之二点三八，显影液的流量为两百升每分钟到两百六升每分钟。
优选的，所述显影喷头的外表面设置有防尘罩，喷淋压力为零点二到零点三兆帕。
优选的，所述承片台的旋转速率为每分钟十到五千转。
优选的，所述一号输送管与二号输送管关于承片台的中间处对称设置，且二号输送管与去离子水管的衔接处设置有连接套管。
优选的，所述数据存储模块、蓝牙模块、抗干扰模块与无线网络连接设备依次竖直排列，所述真空吸尘器的外表面设置有开关按钮，开关按钮的外表面涂有耐磨涂层。
本发明所达到的有益效果是：该新型的显影装置，采用掩模旋转与喷头固定的方式，能缩短显影液涂布时间，改善显影液在掩模中心处和边缘处覆盖不均的问题，提高线宽均匀性，通过设置有真空吸尘器能够有效的对显影设备进行除尘，有效的防止灰尘对显影液造成污染，整个显影装置结构简单，操作方便，使用的效果相对于传统方式更好。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是本发明一种新型的显影装置的整体结构示意图；
图2是本发明一种新型的显影装置的局部结构示意图；
图3是本发明一种新型的显影装置的俯视图；
图4是本发明一种新型的显影装置图2中a的放大图。
图中：1、承片台；2、真空吸尘器；3、一号输送管；4、二号输送管；5、掩模；6、喷洒管道；7、去离子水管；8、显影液管；9、水套；10、显影液分散区；11、显影喷头。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例1
如图1-4所示，一种新型的显影装置，包括承片台1，承片台1的内部中间处贯穿设置有真空吸尘器2，承片台1的一侧外表面固定安装有一号输送管3，承片台1的另一侧外表面固定安装有二号输送管4，承片台1的上端外表面固定安装有掩模5，掩模5的正上方固定安装有喷洒管道6，喷洒管道6的上端外表面一侧设置有去离子水管7，喷洒管道6的上端外表面另一侧设置有显影液管8，显影液管8远离离子水管7的一端外表面固定安装有水套9，掩模5的上端外表面设置有显影液分散区10，掩模5的底端外表面中间处固定安装有显影喷头11。
显影液管8的内部均匀分布有显影液，显影液的温度范围为二十一度到二十四度，显影液的反应时间为一百秒到一百五十秒，显影液的浓度为百分之二点三八，显影液的流量为两百升每分钟到两百六升每分钟；显影喷头11的外表面设置有防尘罩，喷淋压力为零点二到零点三兆帕；承片台1的旋转速率为每分钟十到五千转；一号输送管3与二号输送管4关于承片台1的中间处对称设置，且二号输送管4与去离子水管7的衔接处设置有连接套管；数据存储模块、蓝牙模块、抗干扰模块与无线网络连接设备依次竖直排列，真空吸尘器2的外表面设置有开关按钮，开关按钮的外表面涂有耐磨涂层。
需要说明的是，本发明为一种新型的显影装置，使用时，首先通过一号输送管3与二号输送管4能够有很好的对去离子水与显影液进行输送，再配合去离子水管7与显影液管8能够很好的将去离子水与显影液注入到喷洒管道6中，其中水套9能够有效的增加其气密性，有效的防止漏液，其次通过在喷洒管道6的底端外表面中间处设置有的显影喷头11，承片台1旋转带动掩模5旋转的同时，显影喷头11喷出显影液能够涂布于掩模5上端设置的显液分散区10上面，最后通过设置有真空吸尘器2能够有效的对显影设备进行除尘，有效的防止灰尘对显影液造成污染，且通过采用掩模旋转与喷头固定的方式，能缩短显影液涂布时间，改善显影液在掩模中心处和边缘处覆盖不均的问题，提高线宽均匀性，较为实用。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。