1.一种匀光装置，其特征在于，包括分光层和拓宽光谱层，光源发出的光通过所述分光层散射，再通过所述拓宽光谱层调制并拓宽光谱。
2.根据权利要1所述的匀光装置，其特征在于，所述分光层为衍射光学元件。
3.根据权利要2所述的匀光装置，其特征在于，所述衍射光学元件上设有分光结构。
4.根据权利要3所述的匀光装置，其特征在于，所述分光结构为微纳结构。
5.根据权利要4所述的匀光装置，其特征在于，所述分光结构的排布结构为像素式、遍布式、沿衍射光学元件的周边均匀分布或在衍射光学元件成局部分布结构。
6.根据权利要5所述的匀光装置，其特征在于，当所述分光结构在衍射光学元件上局部分布时，所述局部分布结构整体成环形或方形。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的匀光装置，其特征在于，所述分光层和光谱调制层之间还设有匀光片,所述匀光片用于将从分光层发出的光散射。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的匀光装置，其特征在于，所述光谱调制层为荧光层或量子点层。
9.一种发光设备，其特征在于，包括光源以及权利要求1至8中任一项所述的匀光装置。
10.根据权利要求9所述的发光设备，其特征在于，所述光源为主动式发光光源，所述主动发光光源为led光源。