技术特征：
技术总结
本发明公开了一种纳米金属光栅的制作方法及纳米金属光栅。该方法包括：提供一基板，在基板上形成平坦层；在平坦层上形成刻蚀阻挡层；在刻蚀阻挡层上形成金属层；在金属层上形成具有光栅周期图形的压印胶；以压印胶为掩模，对金属层进行刻蚀，以形成光栅层。通过上述方式，本发明能够避免出现平坦层被刻蚀而出现平坦层阻隔水氧的能力下降以及因光学衍射导致显示不均的问题。
技术研发人员：侯俊;陈书志
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
技术研发日：2018.07.19
技术公布日：2018.12.18