技术特征：
技术总结
本发明公开一种曝光对准方法包含以下步骤：对第一组基板的多个对位标记中的每一个进行计测并进行平均，以得到第一计测平均值；对第二组基板的多个组的对位标记中的一组进行计测以得到多个第二计测值；对第一计测平均值及多个第二计测值进行比较，以得到一预测补偿值；及使用预测补偿值对第二组基板未进行计测的其他多个组的对位标记的对准进行补偿。如此可以改善曝光的节拍时间，提升基板的产能。
技术研发人员：高通
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
技术研发日：2018.12.17
技术公布日：2019.04.16