1.一种波像差测量装置，用于测量待测投影物镜模块的波像差，其特征在于，包括设置在所述待测投影物镜模块两端的物面模块和像面模块，所述物面模块包括设置于一掩膜板上的物面标记组，所述像面模块包括设置于一基板上的像面标记组，所述物面标记组与所述像面标记组均包括光栅标记及孔标记，一光束照射至所述物面标记组的光栅标记及孔标记上后，被所述待测投影物镜模块分别投影至所述像面标记组的光栅标记及孔标记上，一检测模块分别从所述像面标记组的光栅标记及孔标记透过的光束中获得波像差测试图及剂量校正光斑图，根据所述剂量校正光斑图校正所述波像差测试图以获取所述待测投影物镜模块的波像差。
2.如权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述波像差测量装置还包括对准所述基板的孔标记的聚光模块，所述聚光模块设置于所述基板与所述检测模块之间或者所述待测投影物镜模块与所述基板之间，通过调整所述聚光模块相对于所述检测模块的距离以调整所述剂量校正光斑图中光斑的尺寸。
3.如权利要求2所述的波像差测量装置，其特征在于，所述聚光模块靠近所述检测模块时，所述剂量校正光斑图中光斑的尺寸增大；所述聚光模块远离所述检测模块时，所述剂量校正光斑图中光斑的尺寸减小。
4.如权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述光栅标记与所述孔标记的中心等高，且所述光栅标记与所述孔标记之间有间距。
5.如权利要求4所述的波像差测量装置，其特征在于，所述光栅标记包括两个对称设置的光栅，且两个所述光栅的栅格垂直。
6.如权利要求5所述的波像差测量装置，其特征在于，两个所述光栅均为一维光栅。
7.如权利要求4所述的波像差测量装置，其特征在于，所述孔标记为圆形孔或方形孔。
8.如权利要求1所述的波像差测量装置，其特征在于，所述物面标记组包括物面光栅标记及物面孔标记，所述像面标记组包括像面光栅标记及像面孔标记，所述像面光栅标记的周期t1为所述物面光栅标记的周期t2的m倍，所述像面光栅标记与所述像面孔标记之间的距离l1为所述物面光栅标记与所述物面孔标记之间的距离l2的m倍，所述像面孔标记的直径d1大于所述物面孔标记的直径d2的m倍，其中，m为述待测投影物镜模块的放大率。
9.一种波像差测量方法，其特征在于，包括：
提供如权利要求1-8中任一项所述的波像差测量装置；
一光束照射至物面标记组的光栅标记及孔标记上，并由待测投影物镜模块分别投影至像面标记组的光栅标记及孔标记上；
移动所述物面标记组以使检测模块获取多个波像差测试图及剂量校正光斑图；
根据多个所述剂量校正光斑图校正所述波像差测试图获取所述待测投影物镜模块的波像差。
10.如权利要求9所述的波像差测量方法，其特征在于，在移动所述物面标记组之前，调整聚光模块相对于所述检测模块的距离以调整所述剂量校正光斑图中光斑的尺寸。
11.如权利要求9所述的波像差测量方法，其特征在于，根据如下公式对所述波像差测试图中任一像素的信号强度值进行校正：
其中，in为第n个波像差测试图中某一像素的信号强度值；