本实用新型涉及菲林设备技术领域，具体涉及一种双面曝光机。
背景技术：
目前，曝光机是指通过开启光源发出光，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。曝光机具有单面曝光机和双面曝光机，双面曝光机相对于单面曝光机多增加了一个翻转机构使感光物质翻转至背面进行曝光。但无论是单面曝光机还是双面曝光机，都需要进行对位，传统的操作是人工把曝光物料标志点与菲林标志点对正，再用双面胶把两者粘合后放到曝光机曝光。这种操作方法准确度不高，存在较大的移位，同时手工对位效率慢，大大降低生产效率。
技术实现要素：
本实用新型的目的是针对现有技术中的上述不足，提供一种双面曝光机，采用摄像对位装置对待曝光材料进行曝光，相对于传统的手动进行对位，对位更精确。
本实用新型的目的通过以下技术方案实现：
一种双面曝光机，包括用于对物料一面进行曝光的第一曝光机构、用于对物料的另一面进行曝光的第二曝光机构以及用于将第一曝光机构处理后的物料进行翻转面的翻转机构，所述第一曝光机构包括第一曝光装置和滑动设置于第一曝光装置下方的第一曝光平台，所述第一曝光平台设置有第一摄像对位装置，所述第二曝光机构包括第二曝光装置和滑动设置于第二曝光装置下方的第二曝光平台，所述第二曝光平台设置有第二摄像对位装置。
其中，所述第一曝光平台包括用于承载外界感应材料的第一承载座、用于驱动第一承载座移动的第一驱动组件，所述第一承载座包括第一移动底座、活动设置于第一移动底座的第一曝光平板和用于调整第一曝光平板角度与位置的第一调整机构，第一摄像对位装置设置于第一移动底座，所述第一驱动组件用于驱动第一移动底座移动；所述第二曝光平台包括用于承载外界感应材料的第二承载座、用于驱动第二承载座移动的第二驱动组件，所述第二承载座包括第二移动底座、活动设置于第二移动底座的第二曝光平板和用于调整第二曝光平板角度与位置的第二调整机构，第二摄像对位装置设置于第二移动底座，所述第二驱动组件用于驱动第二移动底座移动。
其中，所述第一曝光装置包括用于装截菲林的第一曝光组件、用于对第一曝光组件进行照射曝光的第一曝光光源，所述第一曝光组件包括第一曝光框板、卡设于第一曝光框板的第一装载板和用于吸附外界菲林紧贴第一装载板下表面的第一吸附嘴，所述第一装载板设有与第一吸附嘴连通的第一通孔；所述第二曝光装置包括用于装截菲林的第二曝光组件、用于对第二曝光组件进行照射曝光的第二曝光光源，所述第二曝光组件包括第二曝光框板、卡设于第二曝光框板的第二装载板和用于吸附外界菲林紧贴第二装载板下表面的第二吸附嘴，所述第二装载板设有与第二吸附嘴连通的第二通孔。
其中，所述第一曝光组件还包括用于抽真空的第一真空吸嘴，所述第二曝光组件还包括用于抽真空的第二真空吸嘴，所述第一装载板与第一曝光平板形成容设外界菲林和基材的第一空间，所述第一装载板与第二曝光平板形成容设外界菲林和基材的第二空间。
其中，所述第一曝光组件和第二曝光组件还均包括用于曝光对位的对位光源，所述对位光源包括对位灯和用于驱动对位灯伸出或缩回的驱动气缸。
其中，所述第一曝光组件和第二曝光组件还均包括用于检测曝光光源能量强度的能量检测装置，所述能量检测装置滑动设置于第一曝光框板，能量检测装置分别与第一曝光光源和第二曝光光源连接。
其中，所述第一曝光装置和第二曝光装置均还包括用于清洁基材的清洁装置，所述清洁装置包括两个并列设置的清洁辊。
其中，所述双面曝光机还包括上料机构，所述上料机构包括上料支架、滑动设置于上料支架的上料座和用于将上料座中的物料顶出的顶出组件，所述上料座包括滑动设置于上料支架的上料框和滑动设置于上料支架的上料挡板，所述上料框漏空设有调节槽，所述上料挡板滑动设置于调节槽。
其中，所述翻转机构包括翻转支架、用于承载并输送第一曝光机构处理后的物料的第一翻转载板、用于驱动第一翻转载板进行翻转的翻转电机以及用于承接第一翻转载板所输送的物料的第二翻转载板，所述第一翻转载板设置有用于吸附物料的吸附孔。
本实用新型的有益效果：本实用新型的一种双面曝光机，采用摄像对位装置对待曝光材料进行曝光，相对于传统的手动进行对位，对位更精确。
附图说明
利用附图对实用新型作进一步说明，但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制，对于本领域的普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据以下附图获得其它的附图。
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型第一曝光平台的结构示意图。
图3是本实用新型第一曝光装置的结构示意图。
图4是本实用新型第一曝光装置的部分结构示意图。
图5是本实用新型第一曝光组件的部分结构示意图。
图6是本实用新型第一装载板的结构示意图。
图7是本实用新型第二曝光装置和第二曝光平台的装配结构示意图。
图8是本实用新型第二承载座的结构示意图。
图9是本实用新型第二曝光机构的结构示意图。
图10是本实用新型第二曝光机构的部分结构示意图。
图11是本实用新型第二装载板的结构示意图。
图12是本实用新型翻转机构的结构示意图。
图13是本实用新型上料机构的结构示意图。
附图标记包括：
1——第一曝光机构；
11——第一曝光装置；111——第一曝光组件；1111——第一曝光框板；1112——第一装载板；11121——第一通孔；1113——第一吸附嘴；1114——第一真空吸嘴；1115——对位灯；1116——驱动气缸；1117——能量检测装置；112——第一曝光光源；113——清洁装置；12——第一曝光平台；121——第一摄像对位装置；122——第一承载座；1221——第一移动底座；1222——第一曝光平板；1223——第一调整机构；123——第一驱动组件；
2——第二曝光机构；
21——第二曝光装置；211——第二曝光组件；2111——第二曝光框板；2112——第二装载板；21121——第二通孔；2113——第二吸附嘴；2114——第二真空吸嘴；212——第二曝光光源；
22——第二曝光平台；221——第二摄像对位装置；222——第二承载座；2221——第二移动底座；2222——第二曝光平板；2223——第二调整机构；223——第二驱动组件；
3——翻转机构；31——翻转支架；32——翻转电机；33——第一翻转载板；331——吸附孔；34——第二翻转载板；
5——上料机构；51——上料支架；52——上料座；521——上料框；5211——调节槽；522——上料挡板。
具体实施方式
结合以下实施例及附图对本实用新型作进一步描述。
如图1、图2、图3、图7和图8所示，本实施例的一种双面曝光机，包括用于对物料一面进行曝光的第一曝光机构1、用于对物料的另一面进行曝光的第二曝光机构2以及用于将第一曝光机构1处理后的物料进行翻转面的翻转机构3，所述第一曝光机构1包括第一曝光装置11和滑动设置于第一曝光装置11下方的第一曝光平台12，所述第一曝光平台12设置有第一摄像对位装置121，所述第二曝光机构2包括第二曝光装置21和滑动设置于第二曝光装置21下方的第二曝光平台22，所述第二曝光平台22设置有第二摄像对位装置221。进行曝光时，将基材放置于第一曝光平台12，第一摄像对位装置121对基材进行第一次对位，使基材的标记点出现第一摄像对位装置121的视野中央，第一曝光平台12滑动至第一曝光装置11正下方，第一摄像对位装置121对基材进行第二次对位，使第一曝光装置11中菲林标记点与基材的标记点重合，第一曝光装置11对基材进行曝光，完成基材的双面曝光操作。
如图2、图7和图8所示，本实施例的第一曝光平台12包括用于承载外界感应材料的第一承载座122、用于驱动第一承载座122移动的第一驱动组件123，所述第一承载座122包括第一移动底座1221、活动设置于第一移动底座1221的第一曝光平板1222和用于调整第一曝光平板1222角度与位置的第一调整机构1223，第一摄像对位装置121设置于第一移动底座1221，所述第一驱动组件123用于驱动第一移动底座1221移动；所述第二曝光平台22包括用于承载外界感应材料的第二承载座222、用于驱动第二承载座222移动的第二驱动组件223，所述第二承载座222包括第二移动底座2221、活动设置于第二移动底座2221的第二曝光平板2222和用于调整第二曝光平板2222角度与位置的第二调整机构2223，第二摄像对位装置221设置于第二移动底座2221，所述第二驱动组件223用于驱动第二移动底座2221移动。具体地，第一驱动组件123驱动第一移动座移动滑出，基材放置于第一曝光平板1222的表面，第一摄像对位装置121对基材进行第一次对位，第一调整机构1223对第一曝光平板1222进行调整，使放置于第一曝光平板1222的基材的标记点出现在第一摄像对位装置121的视野中央，第一驱动组件123驱动第一移动座移动至第一曝光装置11正下方，第一摄像对位装置121对基材进行第二次对位，使第一曝光装置11中菲林标记点与放置于第一曝光平板1222的基材的标记点重合，第一曝光装置11对基材进行曝光，从而完成基材的一面曝光处理。同理，经过第一曝光机构1处理的基材，翻转机构3对基材进行翻转，具体地，第二驱动组件223驱动第二移动座移动滑出，基材放置于第二曝光平板2222的表面，第二摄像对位装置221对基材进行第一次对位，第二调整机构2223对第二曝光平板2222进行调整，使放置于第二曝光平板2222的基材的标记点出现在第二摄像对位装置221的视野中央，第二驱动组件223驱动第二移动座移动至第二曝光装置21的正下方，使第二曝光装置21中菲林标记点与放置于第二曝光平板2222的基材的标记点重合，第二曝光装置21对基材进行曝光，完成基材的双面曝光处理。
如图4至图11所示，本实施例的第一曝光装置11包括用于装截菲林的第一曝光组件111、用于对第一曝光组件111进行照射曝光的第一曝光光源112，所述第一曝光组件111包括第一曝光框板1111、卡设于第一曝光框板1111的第一装载板1112和用于吸附外界菲林紧贴第一装载板1112下表面的第一吸附嘴1113，所述第一装载板1112设有与第一吸附嘴1113连通的第一通孔11121；所述第二曝光装置21包括用于装截菲林的第二曝光组件211、用于对第二曝光组件211进行照射曝光的第二曝光光源212，所述第二曝光组件211包括第二曝光框板2111、卡设于第二曝光框板2111的第二装载板2112和用于吸附外界菲林紧贴第二装载板2112下表面的第二吸附嘴2113，所述第二装载板2112设有与第二吸附嘴2113连通的第二通孔21121。进行曝光前，菲林在第一吸附嘴1113的作用下吸附并紧贴第一装载板1112的下表面，承载了基材的第一曝光平台12滑动至第一曝光装置11的正下方，第一曝光光源112对第一曝光平台12进行曝光，完成对基材的一面曝光，第一晃平台滑出，对基材进行更换，继续滑动至第一曝光装置11的正下方，如此重复操作，对多个基材进行曝光。一面曝光后的基材翻转后放置于第二曝光机构2，承载了基材的第二曝光平台22滑动至第二曝光装置21的正下方，第二曝光光源212对第二曝光平台22进行曝光，完成对基材的双面曝光，第二曝光平台22滑出，对完成双面曝光的基材进行下料，第二曝光平台22继续滑动至第二曝光装置21的正下方，如此重复操作，对多个基材进行曝光。优选地，第一曝光平台12与第二曝光平台22协同工作，大大缩短多个基材进行曝光的时间，增加工作效率。
如图3、图5、图7和图10所示，本实施例的第一曝光组件111还包括用于抽真空的第一真空吸嘴1114，所述第二曝光组件211还包括用于抽真空的第二真空吸嘴2114，所述第一装载板1112与第一曝光平板1222形成容设外界菲林和基材的第一空间，所述第一装载板1112与第二曝光平板2222形成容设外界菲林和基材的第二空间。第一曝光装置11进行曝光时，第一真空吸嘴1114对容设外界菲林的第一空间进行吸真空，使菲林与基材紧合得更紧，使曝光精度更高，失真率更少。同理，第二曝光装置21进行曝光时，第二真空吸嘴2114对容设外界菲林的第二空间进行吸真空，使菲林与基材紧合得更紧，使曝光精度更高，失真度更少。
如图2、图4、图7、图9、图10所示，本实施例的第一曝光组件111和第二曝光组件211还均包括用于曝光对位的对位光源，所述对位光源包括对位灯1115和用于驱动对位灯1115伸出或缩回的驱动气缸1116。进行第二次对位时，由于需要将基材中的标记点移动至视野的中央处，需要更清晰的光线来提供视野，驱动气缸1116驱动对位灯1115伸出，第一摄像对位装置121和第二摄像对位装置221在清晰的光线下进行第二次对位，使基材中的标记点快速、准确地移动至视野的中央处，增加曝光精度，减少失真度。
如图3、图4、图9和图10所示，本实施例的所述第一曝光组件111和第二曝光组件211还均包括用于检测曝光光源能量强度的能量检测装置1117，所述能量检测装置1117滑动设置于第一曝光框板1111，能量检测装置1117分别与第一曝光光源112和第二曝光光源212连接。不同的基材需要不同的曝光时间，曝光光源长时间曝光后容易出现曝光能量强度减弱，能量检测装置1117能够分别检测出第一曝光光源112和第二曝光光源212的能量强度，并对第一曝光光源112和/或第二曝光光源212进行调整，使曝光强度保证一致，有效地保证曝光精度，减少失真度。
如图3、图4、图7和图10所示，本实施例的第一曝光装置11和第二曝光装置21均还包括用于清洁基材的清洁装置113，所述清洁装置113包括两个并列设置的清洁辊。第一曝光平台12和第二曝光平台22分别滑向第一曝光装置11和第二曝光装置21正下方时，均分别经过清洁装置113，使放置于第一曝光平台12和第二曝光平台22的基材的上表面进行清洁，清洁装置113包括两个并列设置的清洁辊，其中一个清洁辊直接与基材上表面接触，在第一曝光平台12经过时对基材上表面进行清洁，第二个清洁辊与第一个清洁辊抵接，第二个清洁辊的粘性较好，能够粘附在第一曝光平台12表面的杂质，从而对第一清洁辊进行清洁，避免第一清洁辊在长时间使用后导致的清洁性下降。
如图1、图2、图3和图13所示，本实施例的双面曝光机还包括上料机构5，所述上料机构5包括上料支架51、滑动设置于上料支架51的上料座52和用于将上料座52中的物料顶出的顶出组件，所述上料座52包括滑动设置于上料支架51的上料框521和滑动设置于上料支架51的上料挡板522，所述上料框521漏空设有调节槽5211，所述上料挡板522滑动设置于调节槽5211。第一曝光装置11还设置有用于将上料机构5输送的物料移送至第一曝光机构1的第一移料臂，待曝光的基材放置于上料座52中，基材在顶出组件的作用下顶出并被第一移料臂移取至第一曝光平台12。同时，由于放置于上料座52的基材有大有小，上料挡板522能够根据基材的大小进行滑动，使基材牢固地容设于上料座52。具体地，基材紧贴上料框521放置，上料挡板522沿着调节槽5211进行移动，并与基材的另一端紧贴，使基材合适地装设于上料座52，顶出组件从上料座52的底部顶出，第一移料臂对基材进行移料至第一曝光平台12，完全基材的上料。
如图2和图11所示，本实施例的翻转机构3包括翻转支架31、用于承载并输送第一曝光机构1处理后的物料的第一翻转载板33、用于驱动第一翻转载板33进行翻转的翻转电机32以及用于承接第一翻转载板33所输送的物料的第二翻转载板34，所述第一翻转载板33设置有用于吸附物料的吸附孔331。第一曝光平台12完成基材的单面曝光后，第一曝光平台12滑出，第一移料臂吸取完成单面曝光的基材并输送至第一翻转载板33，真空泵对第一翻转载板33的吸附孔331进行抽真空，使物料在紧贴在第一翻转载板33，翻转电机32工作，第一翻转载板33翻转180度，物料紧贴着第一翻转载板33翻转至第二翻转载板34，真空泵停止工作，物料在重力的作用下脱离第一翻转载板33并放置于第二翻转载板34的上表面，完成物料的翻转。
最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。