1.一种双面曝光机，其特征在于：包括用于对物料一面进行曝光的第一曝光机构、用于对物料的另一面进行曝光的第二曝光机构以及用于将第一曝光机构处理后的物料进行翻转面的翻转机构，所述第一曝光机构包括第一曝光装置和滑动设置于第一曝光装置下方的第一曝光平台，所述第一曝光平台设置有第一摄像对位装置，所述第二曝光机构包括第二曝光装置和滑动设置于第二曝光装置下方的第二曝光平台，所述第二曝光平台设置有第二摄像对位装置。
2.根据权利要求1所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述第一曝光平台包括用于承载外界感应材料的第一承载座、用于驱动第一承载座移动的第一驱动组件，所述第一承载座包括第一移动底座、活动设置于第一移动底座的第一曝光平板和用于调整第一曝光平板角度与位置的第一调整机构，第一摄像对位装置设置于第一移动底座，所述第一驱动组件用于驱动第一移动底座移动；所述第二曝光平台包括用于承载外界感应材料的第二承载座、用于驱动第二承载座移动的第二驱动组件，所述第二承载座包括第二移动底座、活动设置于第二移动底座的第二曝光平板和用于调整第二曝光平板角度与位置的第二调整机构，第二摄像对位装置设置于第二移动底座，所述第二驱动组件用于驱动第二移动底座移动。
3.根据权利要求1所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述第一曝光装置包括用于装截菲林的第一曝光组件、用于对第一曝光组件进行照射曝光的第一曝光光源，所述第一曝光组件包括第一曝光框板、卡设于第一曝光框板的第一装载板和用于吸附外界菲林紧贴第一装载板下表面的第一吸附嘴，所述第一装载板设有与第一吸附嘴连通的第一通孔；所述第二曝光装置包括用于装截菲林的第二曝光组件、用于对第二曝光组件进行照射曝光的第二曝光光源，所述第二曝光组件包括第二曝光框板、卡设于第二曝光框板的第二装载板和用于吸附外界菲林紧贴第二装载板下表面的第二吸附嘴，所述第二装载板设有与第二吸附嘴连通的第二通孔。
4.根据权利要求3所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述第一曝光组件还包括用于抽真空的第一真空吸嘴，所述第二曝光组件还包括用于抽真空的第二真空吸嘴，所述第一装载板与第一曝光平板形成容设外界菲林和基材的第一空间，所述第一装载板与第二曝光平板形成容设外界菲林和基材的第二空间。
5.根据权利要求3所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述第一曝光组件和第二曝光组件还均包括用于曝光对位的对位光源，所述对位光源包括对位灯和用于驱动对位灯伸出或缩回的驱动气缸。
6.根据权利要求3所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述第一曝光组件和第二曝光组件还均包括用于检测曝光光源能量强度的能量检测装置，所述能量检测装置滑动设置于第一曝光框板，能量检测装置分别与第一曝光光源和第二曝光光源连接。
7.根据权利要求1所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述第一曝光装置和第二曝光装置均还包括用于清洁基材的清洁装置，所述清洁装置包括两个并列设置的清洁辊。
8.根据权利要求1所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述双面曝光机还包括上料机构，所述上料机构包括上料支架、滑动设置于上料支架的上料座和用于将上料座中的物料顶出的顶出组件，所述上料座包括滑动设置于上料支架的上料框和滑动设置于上料支架的上料挡板，所述上料框漏空设有调节槽，所述上料挡板滑动设置于调节槽。
9.根据权利要求1所述的一种双面曝光机，其特征在于：所述翻转机构包括翻转支架、用于承载并输送第一曝光机构处理后的物料的第一翻转载板、用于驱动第一翻转载板进行翻转的翻转电机以及用于承接第一翻转载板所输送的物料的第二翻转载板，所述第一翻转载板设置有用于吸附物料的吸附孔。