1.一种用于确定对图案化过程的校正的方法，所述方法包括：
获得从量测数据以及从在所述图案化过程中使用的设备的数据导出的多个品质；
由硬件计算机系统从所述多个品质选择或产生代表性品质；和
由所述硬件计算机系统基于所述代表性品质确定对所述图案化过程的校正。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述多个品质是多个参数映射，所述多个参数映射中的每个参数映射是从所述量测数据以及从在所述图案化过程中使用的所述设备的所述数据产生的，并且
其中，所述代表性品质是选自所述多个参数映射的代表性参数映射。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述多个品质是针对在所述图案化过程期间处理的衬底的批次的与所述图案化过程的多个参数映射对应的一个或更多个校正，所述多个参数映射中的每个参数映射是从量测数据以及从在所述图案化过程中使用的设备的所述数据产生的，并且
其中，所述代表性品质是选自对所述图案化过程的一个或更多个校正的代表性校正。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述代表性品质的选择基于对所述多个品质的加权平均。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述代表性品质的选择基于对在所述图案化过程中使用的所述设备的校正潜力。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述校正包括针对以下各项中的一项或多项对所述图案化过程的校正：所处理衬底上的后续层、后续批次衬底、针对待使用后续设备处理的所述批次衬底内的衬底的后续处理设备、和/或针对在所述图案化过程中使用的至少一个其他处理设备的校正。
7.根据权利要求2所述的方法，其中，所述参数映射各自与所述图案化过程的单独贡献因素相关。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，还包括：
在所述图案化过程期间针对每个贡献因素基于与不同层和/或衬底相关的参数映射的比较，来确定针对每个参数映射的一致性特性；以及
基于所述一致性特性来确定贡献因素是否是系统性的。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，当选择所述代表性品质时，要么仅使用与被确定为系统性的贡献因素对应的参数映射，要么将较大加权分配给被确定为系统性的贡献因素。
10.根据权利要求7所述的方法，其中，用于确定所述一致性特性的参数映射的所述比较包括确定所述参数映射之间的变化的程度。
11.根据权利要求2所述的方法，其中，所述参数映射的参数是重叠、临界尺寸、聚焦和/或边缘放置误差。
12.根据权利要求2所述的方法，其中，所述设备是光刻设备(扫描器)。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，与所述扫描器相关的数据包括调平数据、对准数据、与投影系统相关联的像差数据，和/或掩模版相位。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述多个参数映射中的每个参数映射是参数的高密度映射，该高密度映射是通过建模和/或模拟所述图案化过程的一个或更多个处理变量对所述参数的贡献而产生的。
15.如权利要求7所述的方法，还包括：
建模至少一个参数映射以获得至少一个单独贡献因素的建模表示；以及
组合所述至少一个建模参数映射与所述至少一个参数映射以获得所述至少一个单独贡献因素的至少一个更新表示。