1.一种光罩的制作方法，其特征在于，包括：
提供透明基材；
在所述透明基材表面形成吸收层；
在所述吸收层表面形成半透膜层；
在所述半透膜层表面形成光催化薄膜层。
2.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，形成所述光催化薄膜层的方法为溶胶凝胶法或液相沉积法。
3.如权利要求2所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述溶胶凝胶法采用的溶剂为无水乙醇。
4.如权利要求2所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述液相沉积法采用的反应溶液为四氯化钛的氢氧化钠溶液。
5.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述光催化薄膜层厚度为50nm～2000nm。
6.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述光催化薄膜层为二氧化钛薄膜层。
7.如权利要求6所述的光罩的制作方法，其特征在于，形成所述二氧化钛薄膜层后，还包括：对所述二氧化钛薄膜层进行掺杂。
8.如权利要求7所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述掺杂包括非金属掺杂、过渡金属掺杂、贵金属掺杂或镧系元素掺杂。
9.如权利要求6所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述二氧化钛薄膜层由锐钛矿和金红石组成，其中，所述锐钛矿的质量比例为20％～40％。
10.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述半透膜层为铬化合物层。
11.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，形成所述半透膜层的方法为化学气相沉积法。
12.一种光罩，其特征在于，包括：
透明基材；
吸收层，所述吸收层设置于所述透明基材表面；
半透膜层，所述半透膜层设置于所述吸收层表面；
光催化薄膜层，所述光催化薄膜层设置于所述吸收层表面。