1.一种曝光装置，对至少一部分具有圆形状的衬底进行曝光处理，且包括：
圆筒形状的周壁部件，形成能够收容所述衬底的处理空间并且具有上部开口及下部开口；
光出射部，以盖住所述周壁部件的所述上部开口的方式设置于所述周壁部件的上方且具有能够向所述处理空间出射真空紫外线的出射面；
封闭部件，在所述周壁部件的下方设置成能够沿上下方向移动且构成为能够封闭及打开所述下部开口；
衬底支撑部，以所述衬底与所述出射面对向的方式在所述出射面与所述封闭部件之间支撑所述衬底；
供给部，以在所述处理空间内利用所述衬底支撑部来支撑所述衬底且利用所述封闭部件封闭所述下部开口的状态将惰性气体供给到所述处理空间；及
排出部，以在所述处理空间内利用所述衬底支撑部来支撑所述衬底且利用所述封闭部件封闭所述下部开口的状态将所述处理空间内的环境气体排出到所述处理空间的外部。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中
在所述周壁部件的内部，形成着将所述周壁部件的外部与所述处理空间连通的第1气体流路及第2气体流路，
所述供给部设置成能够通过所述第1气体流路将惰性气体供给到所述处理空间内，
所述排出部设置成能够通过所述第2气体流路将所述处理空间内的环境气体排出到所述处理空间的外部。
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中
所述第1气体流路及所述第2气体流路分别形成于所述周壁部件中的隔着所述处理空间而彼此对向的部分。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中
所述封闭部件具有与所述出射面对向的平坦的上表面，
在所述封闭部件的所述上表面安装着多个所述衬底支撑部。
5.根据权利要求4所述的曝光装置，其还包括多个支撑销，所述多个支撑销分别具有在所述处理空间的下方的位置处沿上下方向延伸且能够支撑所述衬底的多个上端部，
所述封闭部件具有供所述多个支撑销插入的多个贯通孔，
所述多个支撑销以如下方式设置，即，当利用所述封闭部件封闭所述下部开口时，所述多个支撑销的上端部位于比所述多个衬底支撑部的上端更靠下方处，当利用所述封闭部件打开所述下部开口时，所述多个支撑销的上端部位于比所述多个衬底支撑部的上端更靠上方处。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其还包括控制部，所述控制部控制所述光出射部及所述供给部，
所述控制部以如下方式控制所述供给部，即，在从在所述处理空间内利用所述衬底支撑部来支撑所述衬底且利用所述封闭部件封闭所述下部开口的时间点到预定的第1时间内，以第1流量将惰性气体供给到所述处理空间内，在从经过所述第1时间的时间点到第2时间内，以比所述第1流量低的第2流量将惰性气体供给到所述处理空间内；并且以如下方式控制所述光出射部，即，在所述第2时间内将真空紫外线从所述出射面出射到所述衬底。
7.一种曝光装置，对衬底进行曝光处理，且包括：
周壁部件，形成能够收容衬底的处理空间并且具有上部开口；
光出射部，盖住所述上部开口且具有能够出射真空紫外线的出射面；及
衬底支撑部，在由所述光出射部进行的曝光时，在所述光出射部的下方的所述处理空间内支撑衬底；
所述周壁部件具有将惰性气体从下方引导到上方的流路、及使所述流路与所述处理空间连通的开口部，
所述开口部具有彼此对向的第1侧面及第2侧面，
所述第1侧面与所述第2侧面之间的距离从所述流路的下游端部朝向所述处理空间逐渐增加，
设置着供从所述流路的所述下游端部流出到所述开口部的惰性气体碰撞的碰撞面，所述碰撞面位于比曝光时由所述衬底支撑部支撑的衬底更靠上方处。
8.根据权利要求7所述的曝光装置，其中
所述周壁部件具有圆筒形状。
9.根据权利要求7或8所述的曝光装置，其中
所述周壁部件包含排出所述处理空间的环境气体的排气部。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的曝光装置，其中
所述碰撞面包含所述光出射部的下表面的一部分。
11.根据权利要求7至9中任一项所述的曝光装置，其中
所述碰撞面设置于所述周壁部件内。
12.根据权利要求7至11中任一项所述的曝光装置，其中
在所述周壁部件形成着下部开口，
所述曝光装置还包括：
封闭部件，构成为能够封闭及打开所述下部开口；及
升降驱动部，以如下方式控制所述封闭部件，即，在外部与所述衬底支撑部之间交接衬底时所述封闭部移动到位于所述下部开口的下方的第1位置，在衬底曝光时所述封闭部件移动到将所述下部开口封闭的第2位置。
13.根据权利要求12所述的曝光装置，其中
所述衬底支撑部设置于所述封闭部件的上表面。