一种抗折型柱面镜基片的制作方法

文档序号:23738325发布日期:2021-01-26 13:33阅读:115来源:国知局
一种抗折型柱面镜基片的制作方法

[0001]
本实用新型涉及柱面镜领域,具体涉及一种抗折型柱面镜基片。


背景技术:

[0002]
柱面镜在生产之前,需要通过裁切打磨装置将基片进行裁切加工,使得基片的外形尺寸满足使用需求。基片的质量影响到柱面镜的质量,因此,基片的性能严重影响到柱面镜的加工质量。
[0003]
现有的柱面镜基片在使用时,基片抗折性能一般,使得基片加工成双面凹柱面镜时,镜片中心部位容易因为受力不稳定折断,影响基片的加工成型率,因此需要一种实用新型来解决现有的问题。


技术实现要素:

[0004]
(一)要解决的技术问题
[0005]
为了解决现有的柱面镜基片在使用时,基片抗折性能一般,使得基片加工成双面凹柱面镜时,镜片中心部位容易因为受力不稳定折断,影响基片的加工成型率的问题。
[0006]
(二)技术方案
[0007]
本实用新型通过如下技术方案实现:本实用新型提出了一种抗折型柱面镜基片,包括基片本体、耐磨层和横向抗折块,所述基片本体两侧涂覆有所述耐磨层,所述基片本体另外两侧一体成型有所述横向抗折块,所述横向抗折块之间设置有纵向抗折块,所述基片本体上下两端设置有弧形凸起块。
[0008]
进一步的,所述耐磨层外侧设置有防尘防静电层,所述防尘防静电层外侧设置有缓冲加硬层。
[0009]
通过采用上述技术方案,所述防尘防静电层使得所述基片本体具有很好的防尘和防静电效果,避免所述基片本体外侧粘附灰尘,所述缓冲加硬层使得所述基片本体的强度得到提高,减缓打磨时的硬性冲击力,避免所述基片本体受损。
[0010]
进一步的,所述基片本体与所述弧形凸起块胶接,所述耐磨层与所述防尘防静电层胶接。
[0011]
通过采用上述技术方案,所述弧形凸起块使得所述基片本体上下两边侧具有很好的抗折效果,提高所述基片本体的抗折性能,所述耐磨层使得所述基片本体的耐磨性能得到提高,降低所述基片本体外侧磨损严重。
[0012]
进一步的,所述防尘防静电层与所述缓冲加硬层胶接,所述纵向抗折块与所述横向抗折块胶接。
[0013]
通过采用上述技术方案,所述纵向抗折块和所述横向抗折块使得所述基片本体两边侧中心的抗折性能得到大大提高,使得所述基片本体中心受力稳定,避免所述基片本体在加工时折断。
[0014]
进一步的,所述横向抗折块在所述基片本体一侧八等份设置,所述纵向抗折块在
所述横向抗折块之间三等分设置。
[0015]
通过采用上述技术方案,所述纵向抗折块使得所述基片本体两边侧在受到折弯力作用时,增强所述基片本体的抗折性能,避免所述基片本体折断。
[0016]
进一步的,所述弧形凸起块材料与所述基片本体材料相同。
[0017]
通过采用上述技术方案,所述弧形凸起块使得所述基片本体上下两端具有很好的支撑作用,提高所述基片本体的强度。
[0018]
(三)有益效果
[0019]
本实用新型相对于现有技术,具有以下有益效果:
[0020]
为解决现有的柱面镜基片在使用时,基片抗折性能一般,使得基片加工成双面凹柱面镜时,镜片中心部位容易因为受力不稳定折断,影响基片的加工成型率的问题,本实用新型通过设置的横向抗折块、纵向抗折块和弧形凸起块,使得基片本体在加工成双面凹柱面镜时,使得基片中心部位受力稳定,避免基片折断,保证基片的加工成型率。
附图说明
[0021]
图1是本实用新型所述一种抗折型柱面镜基片的主视图;
[0022]
图2是本实用新型所述一种抗折型柱面镜基片的左视图。
[0023]
附图标记说明如下:
[0024]
1、基片本体;2、缓冲加硬层;3、弧形凸起块;4、横向抗折块;5、耐磨层;6、防尘防静电层;7、纵向抗折块。
具体实施方式
[0025]
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
[0026]
如图1-图2所示,本实施例中一种抗折型柱面镜基片,包括基片本体1、耐磨层5和横向抗折块4,基片本体1两侧涂覆有耐磨层5,基片本体1另外两侧一体成型有横向抗折块4,横向抗折块4之间设置有纵向抗折块7,基片本体1上下两端设置有弧形凸起块3。
[0027]
耐磨层5外侧设置有防尘防静电层6,防尘防静电层6外侧设置有缓冲加硬层2,防尘防静电层6使得基片本体1具有很好的防尘和防静电效果,避免基片本体1外侧粘附灰尘,缓冲加硬层2使得基片本体1的强度得到提高,减缓打磨时的硬性冲击力,避免基片本体1受损。
[0028]
基片本体1与弧形凸起块3胶接,耐磨层5与防尘防静电层6胶接,弧形凸起块3使得基片本体1上下两边侧具有很好的抗折效果,提高基片本体1的抗折性能,耐磨层5使得基片本体1的耐磨性能得到提高,降低基片本体1外侧磨损严重。
[0029]
防尘防静电层6与缓冲加硬层2胶接,纵向抗折块7与横向抗折块4胶接,纵向抗折块7和横向抗折块4使得基片本体1两边侧中心的抗折性能得到大大提高,使得基片本体1中心受力稳定,避免基片本体1在加工时折断。
[0030]
横向抗折块4在基片本体1一侧八等份设置,纵向抗折块7在横向抗折块4之间三等分设置,纵向抗折块7使得基片本体1两边侧在受到折弯力作用时,增强基片本体1的抗折性
能,避免基片本体1折断。
[0031]
弧形凸起块3材料与基片本体1材料相同,弧形凸起块3使得基片本体1上下两端具有很好的支撑作用,提高基片本体1的强度。
[0032]
本实施例的具体实施过程如下:在使用时,基片本体1两边侧的横向抗折块4和纵向抗折块7使得基片本体1两边侧的抗折性能得到大大提高,避免基片本体1中心在加工时受力不均匀折断,保证基片本体1的加工成型率,弧形凸起块8使得基片本体1上下端具有很好的抗折性能,避免基片本体1在加工时被折断,缓冲加硬层2使得基片本体1外侧具有强度保证,使得基片本体1外侧具有很好的缓冲作用,避免基片本体1在受到硬性冲击力时受到损坏,防尘防静电层6可以使得基片本体1具有很好的防尘性能和防静电性能,耐磨层5使得基片本体1具有很好的耐磨性能。
[0033]
上面所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述,并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下,本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进,均应落入到本实用新型的保护范围,本实用新型请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。
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