专利名称:弧矢聚焦双晶单色器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种双晶单色器。
背景技术：
在我国已有的两台同步辐射装置，即上海同步辐射装置和北京同步辐射装置，它们是双平晶单色器，都是采用平面晶体，因此这种单色器只具有将同步辐射光单色化的功能。而且他们的水冷系统采用的是外部间接冷却的方式，冷却剂不进入晶体内部，而是通过金属介质将晶体上的热量传导至冷却剂，因此单色器的热负载能力较低，一般适用于热功率密度小于0.1W/mm2的情况。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种能够在弧矢方向进行聚焦且能承受高热负载的双晶单色器。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的一种弧矢聚焦双晶单色器，包括一个用于反射光线的第一晶体和一个再次反射光线的第二晶体，还包括一个设在该第二晶体背面的用于压弯该第二晶体的压弯机构。
其中，该压弯机构是一个四连杆柔性铰链机构。该四连杆柔性铰链机构包括四个连杆和上、下铰链底座，各该连杆之间通过柔性铰链与上、下铰链底座相连，该四连杆柔性铰链机构还包括两个与上铰链底座相连的顶片。
其中，该第二晶体背面设有多个用于抑制晶面扭曲的筋板，并且各该筋板为长方形。
其中，该第一晶体的背面设有多个用于通入冷却剂的凹槽，各该凹槽的底部为弧形。
本实用新型的积极进步效果在于在对X射线进行单色化的同时还能在水平方向上对光束进行聚焦，从而得到高强度的单色X光束，并且能够承受高热负载。
图1为本实用新型一实施例的压弯机构和第二晶体的剖视示意图。
图2为本实用新型一实施例的第二晶体的底面示意图。
图3为本实用新型一实施例的第一晶体的横向剖视示意图。
图4为本实用新型一实施例的第一晶体的纵向剖视示意图。
图5为本实用新型一实施例的第一晶体的底面示意图。
具体实施方式
下面结合附图给出本实用新型较佳实施例，以详细说明本实用新型的技术方案。
如图1所示，一种弧矢聚焦双晶单色器，包括一个用于反射光线的第一晶体3和一个再次反射光线的第二晶体1，在该第二晶体1的背面设有一个压弯机构2，用于压弯该第二晶体1，以使从第二该晶体1反射出的光线在弧矢方向聚焦，从而得到高强度的单色X光束。
其中，该压弯机构2是一个四连杆柔性铰机构，包括四个连杆21、上铰链底座23、23′和下铰链底座24，各该连杆通过柔性铰链结构22与上铰链底座23、23′以及下底座24相连，还包括两个顶片25、25′，各该顶片分别与上铰链底座23、23′相连。
该第二晶体1安装在晶体座4上，当通过一个现有的微位移器(图未示)同时推动顶片25、25′时，所产生的应力通过晶体座4传递到该第二晶体1，从而压弯该第二晶体1。
如图1、2所示，该第二晶体1的底部设有多个筋板11，用于抑制压弯晶面时产生的扭曲，从而能够获得较好的晶面弯曲形状。各该筋板11均为长方形。
由图3、4、5可知，该第一晶体3的底部设有多个凹槽31，用于通过冷却剂，从而能够获得较好的冷却效果，使得第一晶体3能够承受较高的热负载。各该凹槽31的底部为弧形，这样的形状有利于冷却剂的流动，使得该第一晶体3的能够更快的散热，进一步提高了该第二晶体3承受热负荷的能力。
权利要求
1.一种弧矢聚焦双晶单色器，包括一个用于反射光线的第一晶体和一个再次反射光线的第二晶体，其特征在于，其还包括一个设在该第二晶体背面的用于压弯该第二晶体的压弯机构。
2.根据权利要求
1所述的弧矢聚焦双晶单色器，其特征在于，该压弯机构是一个四连杆柔性铰链机构。
3.根据权利要求
2所述的弧矢聚焦双晶单色器，其特征在于，该四连杆柔性铰链机构包括四个连杆和上、下铰链底座，各该连杆之间通过柔性铰链与上、下铰链底座相连，该四连杆柔性铰链机构还包括两个与上铰链底座相连的顶片。
4.根据权利要求
3所述的弧矢聚焦双晶单色器，其特征在于，该第二晶体背面设有多个用于抑制晶面扭曲的筋板。
5.根据权利要求
4所述的弧矢聚焦双晶单色器，其特征在于，各该筋板为长方形。
6.根据权利要求
5所述的弧矢聚焦双晶单色器，其特征在于，该第一晶体的背面设有多个用于通入冷却剂的凹槽。
7.根据权利要求
6所述的弧矢聚焦双晶单色器，其特征在于，各该凹槽的底部为弧形。
专利摘要
本实用新型公开了一种弧矢聚焦双晶单色器，包括一个用于反射光线的第一晶体和一个再次反射光线第二晶体，还包括一个设在该第二晶体背面的用于压弯该第二晶体的压弯机构。本实用新型在对X射线进行单色化的同时还能在水平方向上对光束进行聚焦，从而得到高强度的单色X光束，并且能够承受高热负载。
文档编号G21K1/00GKCN2784962SQ200520041551
公开日2006年5月31日 申请日期2005年5月13日
发明者何建华, 夏绍建, 赵雁, 巩金龙, 侯铮迟 申请人:中国科学院上海应用物理研究所导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan