6，光源2的使用发射12入射在光学部件41上的入射面积会变化。这可用于降低由于EUV辐射12在光学部件41上所造成的点负载，和/或用于平均由相应被入射的结构42产生的光展量的增加。
[0068]可例如采用从DE 10 2009 047 316 Al已知的方式构造结构42。
[0069]位移45和/或位移46可实施为周期性或非周期性位移。
[0070]结构42构成静止结构。作为散射效果的替代或除了散射效果，结构42还可通过反射和/或衍射影响EUV辐射12的方向。
[0071]图12和图13示出包含结构化的增加光展量光学部件47的增加光展量组件40的另一变型例，该结构化的增加光展量光学部件可代替根据图9和11的光学部件41使用。
[0072]光学部件47实施为具有垂直于图12中的附图平面的纵轴48的柱体。驱动装置43提供增加光展量部件47绕与纵轴48重合的旋转轴线的旋转(参见方向箭头48a)。光源2的使用发射12在增加光展量部件47的侧面壁49处反射。如在根据图13的放大示图中示意性可看到的，该侧面壁49再次具有散射结构42。使用发射12的掠反射发生在侧面壁49处。
[0073]增加光展量组件47可实施为中空柱体或实心柱体。
[0074]根据图11的实施例的情况下的位移45和根据图12的实施例的情况下的位移48a分别使得光学部件41和47的主偏转方向不会改变。
[0075]除了同时增加所述结构由于散射产生的光展量之外，在增加光展量部件47的情况下，还可使侧面壁49经受振动而产生光展量的连续增加。这种经受振动可通过引起或忍受增加光展量部件47的目标不平衡而产生。
[0076]图14示出光学增加光展量组件40的另一实施例。该增加光展量组件具有光学部件50，其实施为透过使用发射12的部件。增加光展量部件50的入射表面又具有用于增加光展量的散射结构42。替代地或额外地，出射表面51可具有这种结构42，这在图14中未示出。
[0077]通过驱动装置43实现透射式增加光展量部件50平行于入射和/或出射表面的位移52。通过透射式增加光展量部件50而光展量增加的使用发射12在穿过部件50之后被传输至中间焦点Z。
[0078]在光学组件13和40中实施为反射镜的各部件(如同光学单元1、3的其它EUV反射镜)还可具增加反射率的多层涂层，如原则上从现有技术已知的。
[0079]以上分别说明的光学组件13和40还可彼此结合使用以增加使用发射12的光展量。例如，在使用发射的光束路径中，可相继地布置光学组件13和40的实施例。
[0080]还可在光源2的操作期间通过其分别与光学部件41、47和50的交互作用而产生结构42。
[0081]位移45、46和48a各自的位移速度选择成光学部件41、47和50各自在各时刻不被破坏。或者，可有针对性引起一定材料移除，使得入射在光学部件41、47、50的EUV辐射12在操作期间制造散射结构42。
[0082]为了制造微结构化或纳米结构化部件，投射曝光设备4如下使用:首先，提供掩模母版10和晶片。然后，借助投射曝光设备4将掩模母版10上的结构投射到晶片11的光敏层上。由于光敏层的显影，随后在晶片11上产生微结构，因此制造微结构化或纳米结构化部件。
[0083]在以上所说明的各示例性实施例中，在每种情况下各自皆有光学组件13和40的各自光学部件的入射区域的重心移动，该入射区域由光源2的发射入射。换言之，例如，整个散射粒子24且因此其重心也移动。整体位移的光学部件41、47和50也执行重心移动。
【主权项】
1.光学系统， -包括光源(2)，具有小于0.1mm2的原始光展量，用于投射光刻的照明系统(5); -包括光学组件(13 ;40)，用于同时增加所述光源(2)的使用发射(12)的光展量； 其特征在于， -所述光学组件(13 ;40)实施成所述光展量以至少10的因子同时增加； -其中，所述光学系统实施成所述光学组件(13 ；40)的要被入射的部件(24 ;41 ;47 ;50)相对于所述光源(2)移位，使得所述光源(2)的发射(12)在所述光学组件(13 ;40)的光学部件(24 ;41 ;47 ；50)上的入射区域随时间变化。2.如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述光学组件(13;40)通过引入具有散射功能的介质(24 ;42)来增加所述光展量。3.如权利要求1或2所述的光学系统，其特征在于，所述光学组件(13)具有产生散射粒子(24)的散射粒子产生器(23)，其中所述散射粒子(24)与所述光源(2)的发射交互作用以增加所述光展量。4.如权利要求3所述的光学系统，其特征在于，所述散射粒子产生器(23)具有原始粒子产生装置(32)和散射粒子散布装置(33)，所述散射粒子散布装置实施成在所述原始粒子产生装置(32)中初始产生的原始粒子(34)借助所述散射粒子散布装置(33)而散布以形成所述散射粒子(24)。5.如权利要求3或4所述的光学系统，其特征在于收集装置(36)，在所述散射粒子与所述光源(2)的发射交互作用之后，所述收集装置在所述散射粒子的轨迹(26)中用于所产生的散射粒子(24)。6.如权利要求1至5中任一项所述的光学系统，其特征在于以增加光展量的方式影响所述光源(2)的发射的光学部件(41 ;47 ;50)，其中，所述光学部件(41 ;47 ；50)具有增加光展量的结构(42)，其中，所述光学部件(41 ；47 ；50)与驱动装置(43)协作以用于所述光学部件(41 ;47 ;50)的位移(45 ;45，46 ;48a)，并由此用于入射区域的时间变化。7.如权利要求6所述的光学系统，其特征在于，所述驱动装置(43)引起所述部件(47)的周期性和/或非周期性位移。8.如权利要求6和7中任一项所述的光学系统，其特征在于，驱动位移由所述驱动装置(43)执行，使得所述光学部件(41 ；47)的主要偏转方向不会改变。9.如权利要求6至8中任一项所述的光学系统，其特征在于，所述光学部件(41；47)实施为偏转反射镜。10.如权利要求1至9中任一项所述的光学系统，包含照明光学单元(I)，并包含光学组件(13 ;40)，所述光学组件用于照明物场￠)，在所述物场中，能够布置能够借助投射曝光设备⑷成像的物(10)。11.如权利要求10所述的光学系统，其特征在于所述光源(2)的使用发射(12)在与所述光学组件(13 ;40)交互作用之后的光束引导的中间焦点(Z)。12.如权利要求10或11所述的光学系统，包含投射光学单元(3)，用于将所述物场(6)成像于像场(7)中，在所述像场中能够布置晶片(11)。13.如权利要求1至12中任一项所述的光学系统，包含作为所述光源(2)的自由电子激光器(FEL)。14.投射曝光设备(4)，包含如权利要求1至13中任一项所述的光学系统。
【专利摘要】一种光学系统具有光源(2)，该光源具有小于0.1mm2的原始光展量，并用于投射光刻的照明系统(5)。光学组件(13)用于同时增加光源(2)的使用发射(12)的光展量。光学组件(13)实施成所述光展量以至少10的因子增加。光学组件(13)的要被入射的部件相对于所述光源(2)移位，使得所述光源(2)的发射(12)在所述光学组件(13)的光学部件上的入射区域随时间变化。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105143981
【申请号】CN201480014883
【发明人】I.赛杰, C.亨纳克斯
【申请人】卡尔蔡司Smt有限责任公司
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2014年3月3日
【公告号】DE102013204443A1, US20150355552, WO2014139815A1