本发明涉及一种光学镀膜产品，特别涉及一种光学镀膜材料及其加工方法。
背景技术：
光学镀膜是指可以改变光学组件的光学性质的镀膜，其目的可以是抗反射抗眩光、滤光等，而依照目的的不同，光学组件制造商需选用不同的材料进行镀膜。随着光学领域发展塑胶镀膜产品应用范围不断的扩大化，业界对塑胶镀膜产品要求越来越高，方法相对难度较大。目前光学塑胶产品的常规镀膜产品的光学机能低。光学塑胶产品常规镀膜工艺需使用离子源进行辅助镀膜，在整个镀膜工艺开发方面如真空度、膜层工艺参数控制不当容易出现膜层脱落及膜裂现象，且在镀膜过程中出现异常时导致整炉报废。在镀膜机台离子源使用耗材相当昂贵，镀膜效率较低。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种光学镀膜材料，解决了现有技术中光学塑胶产品的光学性能低的技术问题；
本发明的目的还在于提供一种光学镀膜材料的加工方法，解决了现有技术中光学塑胶产品的光学机能低的技术问题。
为了解决上述问题，本发明提供了一种光学镀膜材料，包括一混合物，所述混合物包括二氧化硅和硅铝混合物，所述二氧化硅与所述硅铝混合物的比例为40％～180％∶20％～50％，所述混合物是将所述二氧化硅和所述硅铝混合物按比例搅拌而成。
依照本申请较佳实施例所述的一种光学镀膜材料，所述二氧化硅和所述硅铝混合物按比例通过专用搅拌机搅拌。
为了解决上述问题，本发明还提供一种光学镀膜材料的加工方法，包括以下几个步骤：
一、分别打开装有二氧化硅的真空包装和装有硅铝混合物的真空包装后，按所需比例进行称量；
二、开启搅拌机电源，启动搅拌机，搅拌机在转动过程中，先将称量好的二氧化硅缓慢倒入搅拌机的搅拌槽内，然后再将称量好的硅铝混合物缓慢倒入搅拌机的搅拌槽内；
三、停止搅拌机后打开搅拌槽的卸料口，使用盛装容器来承接搅拌好的混合物；
四、将混合物用真空袋进行分装。
依照本申请较佳实施例所述的一种光学镀膜材料的加工方法，上述操作所需的操作环境选择在万级无尘车间，所需温度控制在24±3℃，相对湿度RH为50％±10％。
依照本申请较佳实施例所述的一种光学镀膜材料的加工方法，步骤三中所述的盛装容器选用玻璃容器，在搅拌机开启电源前将所述玻璃容器内使用无尘布及酒精来擦拭干净，确保内部保持洁净状态。
依照本申请较佳实施例所述的一种光学镀膜材料的加工方法，在所述步骤四中，使用不锈钢勺子分别往真空袋内进行分装，以电子称进行称量，每袋重1kg，并通过真空打包机进行抽真空。
与现有技术相比，本发明存在以下技术效果：
本发明提供一种光学镀膜材料及其加工方法，提高光学塑胶产品的光学机能，达到或超出日系及欧美光学工业信赖性测试标准，除此之外，还具有其他优点，如，可以取消镀膜前清扫及镀膜过程中辅助功能，降低离子源高额的耗材成本；可降低传统工艺镀膜过程中因离子源异常而导致整炉产品报废；提升镀膜机台加工效率20％～40％；综合成本可降低10％～50％。
具体实施方式
本发明提供一种光学镀膜材料，此光学镀膜材料为混合物，此混合物包括二氧化硅和硅铝混合物，二氧化硅与硅铝混合物的比例为40％～180％∶20％～50％，其中，二氧化硅占40％～180％不等，硅铝混合物占20％～50％不等。此光学镀膜材料采用所述二氧化硅和所述硅铝混合物按比例通过专用搅拌机进行搅拌而成，为保证良好安定的品质后期导入提炼方式。
本发明还提供一种光学镀膜材料的加工方法，包括以下几个步骤：
一、选择操作环境，本发明选在万级无尘车间，所需温度控制在24±3℃，相对湿度RH为50％±10％；
二、分别打开装有二氧化硅的真空包装和装有硅铝混合物的真空包装后，按所需比例进行称量。本发明选用电子称进行称量。
三、开启搅拌机电源，启动搅拌机，搅拌机在转动过程中，先将称量好的二氧化硅缓慢倒入搅拌机的搅拌槽内，然后再将称量好的硅铝混合物缓慢倒入搅拌机的搅拌槽内。在本实施例中，搅拌机的转速控制在30～40转/分钟。
四、停止搅拌机后打开搅拌槽的卸料口，使用盛装容器来承接搅拌好的混合物。在本实施例中，两种材料全数搅拌约15～30分钟(可视搅拌现状来定)。
在步骤四中所述的盛装容器选用玻璃容器，在搅拌机开启电源前将玻璃容器内使用无尘布及酒精(无水乙醇)来擦拭干净，确保内部保持洁净状态。
五、将混合物用真空袋进行分装。在本步骤中，使用不锈钢勺子分别往真空袋内进行分装，以电子称进行称量，每袋重1kg，并通过真空打包机进行抽真空。
工艺参数设定方式：
镀膜机台真空度设定：4.0*10-4Pa～5.0*10-3Pa；
镀膜参数设定：Substrate与新型混合料(代号：Suj-001)为相互接合层；
离子源设定：无(镀膜前、镀膜过程中、镀膜后均不需要离子源进行辅助蒸镀及清扫)；
膜层厚度：可根据光谱的需求进行设定；
镀膜温度设定：30℃～100℃(根据产品的需求进行设定不同温度)；
新型混合料(代号：Suj-001)蒸速率：2埃/s～15埃/(根据产品的需求进行设定不同蒸发速率)；
新型混合料(代号：Suj-001)密度：2.1～2.4(g/cm2)；
新型混合料(代号：Suj-001)蒸发温度：1500～2200℃；
新型混合料(代号：Suj-001)折射率：1.44～1.47；
新型混合料(代号：Suj-001)透明波段：0.2～9um
在上述参数中出现的新型混合料是指包括二氧化硅和硅铝的混合物，即本申请的光学镀膜材料。
以上公开的仅为本申请的一个具体实施例，但本申请并非局限于此，任何本领域的技术人员能思之的变化，都应落在本申请的保护范围内。