一种用于镀膜机中控制膜料沉积角分布的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及光学薄膜元件制备领域，尤其是一种用于镀膜机中控制膜料沉积角分布的方法。
【背景技术】
[0002]光学系统设计日益精密，为满足光学系统的性能指标，光学系统中大量使用平面或者曲面光学元件，并在光学元件表面镀制具有特殊设计的薄膜来提光学元件的性能。当前用于在光学元件上制备薄膜的技术主要可分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。而物理气相沉积是一种在真空条件下，通过蒸发或溅射薄膜材料，并在光学元件表面沉积形成薄膜的工艺过程。为优化光学元件上薄膜分布，光学元件在真空镀膜机内做旋转运动。该旋转运动使得光学元件表面上任意镀膜点处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，并且不同位置上膜料沉积角分布存在显著差异。膜料沉积角是蒸发或溅射膜料在真空环境中的传输方向与光学元件镀膜面上膜料沉积点的表面法向量之间的夹角。以微电子光刻机系统为例，其中使用的球面形光学元件在真空镀膜过程中，球面光学元件上镀膜点的膜料沉积角范围覆盖0-80°。对于任意给定的真空镀膜机配置条件下，选定真空镀膜工艺参数后，影响光学元件镀膜面上薄膜性能一致性的主要因素之一是膜料沉积角。
[0003]热蒸发是一种通过蒸发或者升华方式，将膜料沉积到光学元件上的物理气相沉积技术，被广泛应用于真空紫外、深紫外、可见和红外波段的薄膜制备。相比于其它物理气相沉积技术，如等离子体辅助沉积技术、离子束辅助沉积技术、磁控溅射沉积技术和离子束溅射沉积技术，热蒸发是制备吸收损耗小、抗激光损伤能力强的真空紫外/深紫外薄膜首选沉积技术(J.E.Rudisill,^Design/deposit1n process tradeoffs for high performanceoptical coatings in the DUV spectral reg1n,，，SPIE, 5273 (2004): 30-40.)。热蒸发沉积到光学元件上的膜料能量一般小于十个电子伏特，由此制备的薄膜性能严重依赖于膜料沉积角(C.Zaczek, A.Pazidis and H.Feldermann, “High-performance optical coatingfor VUV lithography applicat1n, ，，in Optical Interference Coatings Topic meeting2007-0SA Technical Digest Series(Optical Society of America, 2007), paper FAL)。以热蒸发制备氟化镁薄膜为例，分别研宄0°、30°、40°、50°、60°和70°沉积角下制备的氟化镁薄膜的光学性能和微观结构，结果表明氟化镁薄膜为柱状、多晶结构生长。随着膜料沉积角增加，氟化镁薄膜本征吸收损耗和散射损耗显著增大；薄膜的折射率、聚集密度和晶粒尺寸下降；薄膜结构疏松、表面粗糙度大，易吸附水和碳氢根污染，严重影响薄膜的环境稳定性(C.Guo, M.D.Kong, et al., 〃Microstructure_related propertiesof magnesium fluoride films at 193nm by oblique-angle deposit1n， "OpticsExpress, 21 (2013):960-967.)。因此，为制备高性能的薄膜，需要优化真空镀膜过程中光学元件上膜料沉积角分布。
[0004]目前，可以通过增加蒸发或溅射源与光学元件间的垂直距离，来控制光学元件表面镀膜点的膜料沉积角分布。但该方案对真空镀膜机的制造和真空镀膜工艺成本带来巨大的挑战。以通光口径300mm、曲率半径300mm的凸球形光学元件为例，为使光学元件镀膜面上任意位置处膜料的沉积角小于45°，蒸发或溅射源与光学元件间的垂直距离至少应大于2800_。如此配置真空镀膜室体积过大，获得高真空镀膜环境成本高，另外膜料消耗大，真空镀膜机维护困难。因此，需要更加简便可行的方法来实现真空镀膜过程中光学元件上膜料沉积角分布优化。
【发明内容】
[0005]本发明要解决的技术问题为:克服现有真空镀膜过程中光学元件表面上镀膜点膜料沉积角分布范围过宽，不同位置处膜料沉积角分布差异过大等问题，通过在蒸发或溅射源与光学元件间放置开孔挡板，优化开孔形状，实现对光学元件上膜料沉积角分布范围控制，降低膜料沉积角及其分布范围，提高薄膜性能。
[0006]本发明解决上述技术问题采用的技术方案为:一种用于镀膜机中控制膜料沉积角分布的方法，该方法步骤如下:
[0007]步骤(I)、真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在光学元件上沉积形成薄膜；为优化薄膜分布，光学元件在镀膜机内做旋转运动；旋转运动使得光学元件上任意位置处膜料沉积角均具有较宽的分布范围，并且不同位置上膜料沉积角分布存在显著差异；所述的膜料沉积角是光学元件上膜料沉积点与蒸发或溅射源间的连线矢量与光学元件上膜料沉积点的表面法向量之间的夹角；
[0008]步骤(2)、通过在蒸发或溅射源与光学元件间放置开孔挡板，真空镀膜过程中，膜料穿过开孔挡板沉积到光学元件上；优化开孔形状，实现对光学元件上膜料沉积角分布控制，降低膜料沉积角及其分布范围，提高薄膜性能。
[0009]其中，所述的光学元件的镀膜面可以是平面或者曲面。
[0010]其中，所述的光学元件旋转运动可以是单轴旋转或者行星旋转，光学元件相对于蒸发或溅射源可以倾斜或水平放置。
[0011 ] 其中，所述的薄膜可以是金属薄膜或者介质薄膜。
[0012]其中，所述的挡板上开孔形状取决于真空镀膜机配置、光学元件形状和目标沉积角分布范围。
[0013]本发明技术解决方案的原理:
[0014]开孔挡板控制膜料沉积角分布技术是一种在真空镀膜过程中利用挡板开孔形状选择性地遮挡被蒸发或溅射的薄膜材料，使得真空镀膜机旋转系统中光学元件上膜料沉积角分布获得优化的方法。在真空镀膜过程中，膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输，并在光学元件上沉积形成薄膜。为优化薄膜分布，光学元件在镀膜