一种彩色滤光片制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体器件制备领域，特别是涉及一种彩色滤光片制作方法。
【背景技术】
[0002]彩色滤光片(Color Filter)是显示器进行彩色化显示的关键零组件，通常安装在光源的前方，可以精确选择欲通过的小范围波段光波，而过滤掉其它不希望通过的波段，从而使人眼可以接收到饱和的某个颜色光线。
[0003]传统技术中的一种彩色滤光片，结构示意图如图1，包括玻璃基板101、黑色矩阵(BM, Black Matrix) 102、彩色层(Color Layer) 103、保护膜层(Over Coat) 104、ΙΤ0 导电薄膜105和间隔体(PS，Photo Spacer) 106。其中彩色层104包括红色(R)滤光膜、绿色(G)滤光膜和蓝色(B)滤光膜。传统技术的彩色滤光片，其存在的一个问题是工艺比较复杂，先在玻璃基板上制作黑色矩阵，然后重复采用黄光制程，即分别采用涂布、曝光、显影和固化步骤来制作R、G、B三原色滤光膜，之后在彩色滤光层上形成保护膜层，之后在保护膜层上溅镀ΙΤ0导电薄膜，最后再在ΙΤ0导电薄膜上通过黄光制程形成间隔体，间隔体所在的位置都位于BM上方。
[0004]传统技术的彩色滤光片，再一个问题是不含有白色滤光膜，近年来有些研究人员提出了一些增加白色滤光膜的方案，增加白色滤光膜，可以对显示的亮度以及色饱和度进行相关的控制，相对于传统技术改善了显示效果，然而这些方案制作白色滤光膜的工艺一般是参照传统技术，即采用一个黄光制程，由此整个彩色滤光片的制作工艺相比于传统技术更增加了复杂性。
【发明内容】
[0005]基于此，有必要针对提供一种彩色滤光片制作方法，相比于传统技术，能够在彩色滤光片中增加白色滤光通道，然而并不需要增加工艺的复杂性。
[0006]一种彩色滤光片制作方法，包括:
[0007]制作基板，所述制作基板的步骤包括:在玻璃基板的正面或背面形成一透明导电薄膜；
[0008]在所述透明导电薄膜或所述玻璃基板之上形成黑色矩阵；
[0009]在所述黑色矩阵之间的区域制作彩色滤光膜层，并预留空白区域作为白色滤光通道;
[0010]在所述彩色滤光膜层和所述空白区域上方形成一同时包括保护膜层和间隔体的单一膜层，所述单一膜层在所述空白区域处作为白色滤光膜层。
[0011]具体的，所述透明导电薄膜为ΙΤ0导电薄膜；
[0012]所述制作基板的步骤，包括:在所述玻璃基板的正面或背面采用磁控溅射沉积法形成ΙΤ0导电薄膜。
[0013]具体的，在所述透明导电薄膜或所述玻璃基板之上形成黑色矩阵的步骤，包括:
[0014]在所述透明导电薄膜或所述玻璃基板之上涂布黑色遮光材料，并将所述黑色遮光材料制作为黑色矩阵。
[0015]具体的，所述黑色遮光材料为黑色树脂、铬或镍。
[0016]具体的，所述彩色滤光膜层包括红色滤光膜、绿色滤光膜和蓝色滤光膜；
[0017]所述在所述黑色矩阵之间的区域制作彩色滤光膜层的步骤，包括:
[0018]在所述黑色矩阵之间的区域涂布红色、绿色或蓝色负性感光树脂，再经过曝光、显影、固化处理，得到对应的红色、绿色或蓝色滤光膜。
[0019]具体的，在所述彩色滤光膜层和所述空白区域上方形成一同时包括保护膜层和间隔体的单一膜层的步骤，包括:
[0020]在所述彩色滤光膜层和所述空白区域上方涂布负性光阻材料；
[0021]对所述负性光阻材料采用全曝光与部分曝光相结合的方式，再经过显影、固化处理制成一同时包括保护膜层和间隔体的单一膜层，并在空白区域形成白色滤光通道。
[0022]具体的，所述负性光阻材料采用全曝光的位置处形成间隔体，所述负性光阻材料采用部分曝光的位置处形成保护膜层。
[0023]具体的，所述间隔体处于所述黑色矩阵的正上方。
[0024]上述彩色滤光片制作方法，在黑色矩阵之间的区域制作彩色滤光膜层，并预留空白区域作为白色滤光通道，然后在一个工艺步骤中在彩色滤光膜层和空白区域上方形成一同时包括保护膜层和间隔体的单一膜层，利用单一膜层在空白区域处作为白色滤光膜层，相比于传统技术中的彩色滤光片，不仅减少了工艺的复杂性，还增加了白色透光功能。
【附图说明】
[0025]图1为传统技术中的彩色滤光片的结构示意图；
[0026]图2为一个实施例中的彩色滤光片制作方法的流程示意图；
[0027]图3为一个实施例中的彩色滤光片结构示意图；
[0028]图4为另一个实施例中的彩色滤光片的结构示意图。
【具体实施方式】
[0029]为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0030]参见图2至图4，在一个实施例中提供了一种彩色滤光片制作方法，包括:
[0031]201，制作基板。
[0032]具体的，制作基板的步骤包括:在玻璃基板的正面或背面形成一透明导电薄膜。透明导电薄膜通常是ΙΤ0导电薄膜。不同模式的显示器，彩色滤光片的结构中，玻璃基板与透明导电薄膜的位置关系有所不同。在TN模式的显示器中，如图3，在玻璃基板的正面形成ΙΤ0导电薄膜。而在图4中，IPS模式的显示器所采用的彩色滤光片，ΙΤ0导电薄膜位于玻璃基板的背面。在本实施例中，在玻璃基板正面或背面，可以采用磁控溅射沉积法形成ΙΤ0导电薄膜。
[0033]本步骤，相比图1中传统技术，是先在玻璃基板的正面或背面形成ΙΤ0薄膜，而不是在保护膜