量子点显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种量子点显示面板的制作方法。
【背景技术】
[0002]随着显示技术的不断发展，人们对显示装置的显示质量要求也越来越高。量子点(Quantum Dots，简称QDs)通常是由I1- V1、或II1- V族元素组成的球形或类球形的半导体纳米微粒，粒径一般在几纳米至数十纳米之间。由于QDs的粒径尺寸小于或者接近相应体材料的激子波尔半径，会产生量子限域效应，其能级结构从体材料的准连续变为量子点材料的离散结构，导致QDs展示出特殊的受激辐射发光的性能。随着QDs的尺寸减小，其能级带隙增加，相应的QDs受激所需要的能量以及QDs受激后回到基态放出的能量都相应的增大，表现为QDs的激发与荧光光谱的“蓝移”现象，通过控制QDs的尺寸，使其发光光谱可以覆盖整个可见光区域。如砸化镉(CdSe)的尺寸从6.6nm减小至2.0nm，其发光波长从红光区域635nm “蓝移”至蓝光区域的460nm。
[0003]量子点材料具有发光光谱集中，色纯度高、且发光颜色可通过量子点材料的尺寸、结构或成分进行简易调节等优点，利用这些优点将其应用在显示装置中可有效地提升显示装置的色域及色彩还原能力。如专利CN102944943A、及专利US20150002788A1均提出了用具有图案结构的量子点层替代彩色滤光膜(Color Filter)以达到彩色显示目的的技术方案，但是该些专利并未对量子点层图形化的方法进行说明。
[0004]专利CN103226260A提供了一种把量子点分散于光刻胶中，通过光刻工艺图形化量子点层的方法，但量子点分散于光刻胶中，由于光刻胶中具有起始剂(initiat1n)、聚合物单体(monomer)、聚合物(polymer)、添加剂(additive)等多种高分子材料，量子点的表面化学环境复杂，对量子点的发光效率影响很大。除上述方法以外，还可以通过转印、网印等方法来制作量子点图形，但是转印的方法所得到的量子点图形分辨率不高，图形边缘呈现锯齿状，并且量子点层与基体的黏着力有待提高；而喷墨打印形成图形化量子点层的方法对喷墨打印设备要求很高，如何保证喷墨墨滴的稳定性及打印精度仍有技术壁皇，仍不能大规模生产。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种量子点显示面板的制作方法，原料制备及制作工艺简单、图形解析度高、可大规模量产，节约成本与制程时间。
[0006]为实现上述目的，本发明提供了量子点显示面板的制作方法，包括如下步骤:
[0007]步骤1、将经表面修饰的红色量子点、经表面修饰的绿色量子点、碱可溶性树脂、溶剂、分散剂、及添加剂按一定比例混合均匀，得到量子点树脂组合物；
[0008]步骤2、提供彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底基板、位于所述衬底基板上的黑色矩阵、及彩色滤光层，所述彩色滤光层包括红色色阻层、绿色色阻层、及透明光阻层；
[0009]采用旋涂或狭缝式涂布的方式将所述量子点树脂组合物均匀地涂布在所述彩膜基板的彩色滤光层的一侧，随后，将涂有所述量子点树脂组合物的彩膜基板在100-150°C的温度下进行预烘烤，去除量子点树脂组合物中的有机溶剂，得到量子点膜；
[0010]步骤3、采用黄光制程、或结合干法蚀刻制程对所述量子点膜进行图案化处理，去除掉所述量子点膜上对应所述透明光阻层的部分，得到量子点层，进而完成量子点彩膜基板的制作；
[0011]步骤4、提供TFT基板，在所述量子点彩膜基板与TFT基板上分别设置上偏光片与下偏光片；并经过液晶成盒制程后得到量子点显示面板；
[0012]所述量子点显示面板包括量子点彩膜基板、与所述量子点彩膜基板相对设置的TFT基板、密封于所述量子点彩膜基板与TFT基板之间的液晶层、位于所述量子点彩膜基板一侧的上偏光片、及位于所述TFT基板一侧的下偏光片。
[0013]所述步骤3中采用黄光制程对所述量子点膜进行图案化处理，所述步骤3具体包括以下步骤:
[0014]步骤31、采用旋涂或狭缝式涂布的方式在所述经预烘烤后得到量子点膜上均匀地涂布一层透明光刻胶材料；
[0015]步骤32、提供光罩，利用光罩对所述透明光刻胶材料进行曝光、显影，所述光罩包括对应所述红色色阻层和绿色色阻层的透光部分、及对应所述透明光阻层的不透光部分；在曝光过程中，位于所述透光部分下的透明光刻胶材料在光照下发生聚合反应而固化，位于所述不透光部分下的透明光刻胶材料不发生聚合反应而未固化，在显影过程时，该固化的透明光刻胶材料不会被显影液洗掉，对应的位于其下的量子点膜的部分也会被保留下来，而未固化的光刻胶材料及对应的位于其下的量子点膜的部分会被显影液清洗掉；从而得到图案化的量子点层及位于其上的光阻层；
[0016]步骤33、在150_250°C的温度下对所述彩膜基板进行烘烤处理，以对所述量子点层进行充分固化。
[0017]所述步骤3中采用黄光制程结合干法蚀刻制程对所述量子点膜进行图案化处理，所述步骤3具体包括以下步骤:
[0018]步骤31’、经步骤2的预烘烤后，再在200_250°C的温度下对所述彩膜基板进行烘烤处理，以使得所述量子点膜充分固化；
[0019]步骤32’、采用旋涂或狭缝式涂布的方式在所述量子点膜上均匀地涂布一层透明光刻胶材料；提供光罩，利用光罩对所述透明光刻胶材料进行曝光、显影，得到图案化的光阻层；所述光罩包括对应所述红色色阻层和绿色色阻层的透光部分、及对应所述透明光阻层的不透光部分；
[0020]步骤33’、以所述光阻层为遮蔽层，采用干法蚀刻工艺对所述彩膜基板进行处理，在干法蚀刻过程中，所述量子点膜的位于所述红色色阻层和绿色色阻层上的部分受到所述光阻层的覆盖保护从而在干法蚀刻过程不被蚀刻掉，而所述量子点膜的位于所述透明光阻层上的部分没有所述光阻层覆盖保护从而在干法蚀刻过程中被蚀刻掉，得到图案化的量子点层。
[0021]所述步骤1中，所述量子点树脂组合物中的红色量子点与绿色量子点为I1-VI族半导体材料、II1- V族半导体材料、IV -VI族纳米半导体材料中的一种或多种，所述红色量子点与绿色量子点的粒径为l-10nm。
[0022]所述步骤1中，所述碱可溶性树脂由苯乙烯与马来酸酐共聚物组成、或由苯乙烯与芳香酸(甲基)丙烯酸半酯组成。
[0023]所述步骤1中，所述溶剂为甲酸、乙酸、氯仿、丙酮、丁酮、脂肪醇、乙二醇单甲醚、
乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇二乙醚乙酸乙酯、甲乙酮、甲基异丁基酮、单甲基醚乙二醇酯、γ - 丁内酯、丙酸-3-乙醚乙酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇、醋酸酯、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯、环己烷、二甲苯和和异丙醇中的一种或多种组成。
[0024]所述步骤2中，在所述彩膜基板上涂布量子点树脂组合物的厚度为1 μ m-200 μ m。
[0025]所述步骤4中所得到的量子点显示面板中，所述上偏光片采用内置式，所述上偏光片设置于所述量子点彩膜基板面对所述TFT基板的一侧；所述上偏光片为染料系偏光片。
[0026]所述步骤4中所得到的量子点显示面板中，所述下偏光片采用内置式或外置式，所述下偏光片设置于所述TFT基板面对或远离所述量子点彩膜基板的一侧；所述下偏光片的偏振方向与上偏光片的偏振方向垂直。
[0027]所述步骤4中所得到的量子点显示面板用于背光为蓝光的显示装置中。
[0028]本发明的有益效果:本发明提供了一种量子点显示面板的制作方法，借由彩色滤光片的现有的黄光制程、或结合干法蚀刻制程将含有表面修饰的红色、绿色量子点的树脂组合物制作得到具有较为精细图形结构的量子点层，与其他现有的量子点显示面板的制作方法相比，具有原料制备及制