彩膜基板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示面板的制造领域，尤其涉及一种彩膜基板的制作方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示装置(LCD，LiquidCrystal Display)具有机身薄、省电、无福射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。通常液晶显示面板由彩膜基板(CFSubstrate, Color Filter Substrate)、薄膜晶体管阵列基板(TFT Array Substrate ,ThinFilm Transistor Array Substrate)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板之间的液晶(LC,Liquid Crystal)及密封框胶(Sealant)组成;其成型工艺一般包括:前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)；其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段CelI制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
[0003]CF基板是LCD用来实现彩色显示的主要器件，其基本构成通常包括:玻璃基板、黑色矩阵(Black Matrix，BM)、彩色色阻层等等。背光源发出的光经过液晶分子的调制入射到CF基板，通过CF基板上彩色色阻层的红色色阻、绿色色阻、以及蓝色色阻的滤光作用，分别显示红，绿，蓝三种光线，不同颜色的色阻分别透射对应颜色波段的光，从而实现显示器的彩色显示。
[0004]为顺应液晶显示器越来越薄的发展趋势，当今TFTLCD显示面板中的玻璃的厚度也逐步薄化。通常在完成Array/CF/Cell等制程之后，对玻璃要进行薄化处理。玻璃表面的凹凸点，称为Dimple XF基板侧的Dimple由于直接面对观看者的肉眼，所以直径(Φ ) ^ 1.5μm即被视为不良，需进行降级或者返修。而Dimple产生的主要原因是，在Array/CF/Cell制程中，承载台(Stage)表面不平整或者滚轮(Roller)不平滑，造成玻璃表面存在较小的凹凸点，在薄化过程中，由于薄化液的侵蚀，使小的凹凸点，变成了直径较大、深度较大的凹凸点。
[0005]一般而言，对于Dimple不良可以用研磨处理，然而采用研磨处理的缺点是提高了研磨碎亮点的风险与应力不足(Fail)的风险，尤其是对于应力要求比较高的大尺寸屏幕(如8.6寸、10.1寸等)。
[0006]因此，有必要提供一种彩膜基板的制作方法，以解决上述问题。
【发明内容】
[0007]本发明的目的在于提供一种彩膜基板的制作方法，在基板的表面上形成保护膜，能够有效防止制程中各设备对基板表面造成的损伤，防止基板表面凹凸点的产生，以避免薄化时造成凹凸点不良进一步加重，从而提升显示面板的良率。
[0008]为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:
[0009]步骤1、提供基板，设定所述基板上相对两侧的两表面分别为第一表面和第二表面，在所述基板的第一表面上形成金属材料的保护膜；
[0010]步骤2、将基板放置于承载台上，此时，第一表面面向承载台，第一表面上的保护膜与承载台相接触，在基板的第二表面上形成黑色矩阵、色阻层、及外敷层；
[0011]步骤3、提供酸性溶液，将第一表面上的保护膜清除掉；
[0012]步骤4、提供薄化液，利用薄化液从基板的第一表面对基板进行薄化，得到彩膜基板。
[0013]所述保护膜包括依次形成于所述第一表面上的第一保护层、及第二保护层。
[0014]所述第一保护层的材料为铝，所述第二保护层的材料为铁。
[0015]所述保护膜通过物理气相沉积工艺形成。
[0016]所述酸性溶液为盐酸溶液。
[0017]所述基板为玻璃基板。
[0018]所述薄化液为氢氟酸溶液。
[0019]所述步骤2中，还包括在基板的第二表面上形成公共电极层、及聚酰亚胺层。
[0020]所述色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层、及蓝色色阻层。
[0021]所述彩膜基板用于尺寸大于8.6寸的显示面板。
[0022]本发明的有益效果:本发明提供一种彩膜基板的制作方法，首先在来料基板的一表面上沉积保护膜，然后在后续制程中使该基板上形成有金属材料的保护膜的表面与承载台相接触，在基板的另一表面上形成黑色矩阵、色阻层、及外敷层等，之后在薄化之前用盐酸等酸性溶液清除基板表面上的保护膜，最后对基板进行薄化，完成彩膜基板的制作，从而得到彩膜基板，该保护膜可有效保护基板的表面，防止制程中各设备对基板表面造成损伤而导致表面凹凸点的产生，从而避免在对基板进行薄化时造成凹凸点不良进一步加重，提升显不面板的良率。
【附图说明】
[0023]下面结合附图，通过对本发明的【具体实施方式】详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
[0024]附图中，
[0025]图1为本发明的彩膜基板的制作方法的流程示意图；
[0026]图2为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤I的示意图；
[0027]图3为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤2的示意图；
[0028]图4为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤3的示意图。
【具体实施方式】
[0029]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0030]请参阅图1，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:
[0031]步骤1、如图2所示，提供基板10，设定所述基板10上相对两侧的两表面分别为第一表面11和第二表面12，通过物理气相沉积工艺在所述基板10的第一表面11上沉积金属材料的保护膜20;
[0032]具体的，所述基板10为玻璃基板。
[0033]具体的，所述保护膜20为双层结构，包括依次形成于所述第一表面11上的第一保护层21、及第二保护层22。
[0034]优选的，所述第一保护层21的材料为铝(Al)，所述第二保护层22的材料为铁(Fe)，即所述保护膜20为铝膜与铁膜的叠加。
[0035]步骤2、如图3所示，将基板10放置于承载台100上，此时，第一表面11面向承载台100，第一表面11上的保护膜20与承载台100相接触，然后在基板10的第二表面12上形成黑色矩阵30、色阻层40、及外敷层(Over Coat,0C)50；
[0036]具体的，所述色阻层40包括红色色阻层、绿色色阻层、及蓝色色阻层。
[0037]具体的，所述步骤2中，还包括在基板10的第二表面12上形成公共电极层、及聚酰亚胺层等制程。
[0038]步骤3、如图4所示，提供酸性溶液，将第一表面11上的保护膜20清除掉；
[0039]具体的，所述酸性溶液为盐酸溶液等其他酸性溶液。
[0040]步骤4、提供薄化液，利用薄化液从基板10的第一表面11对基板10进行薄化，得到彩膜基板。
[0041 ]具体的，所述薄化液为氢氟酸溶液。
[0042]本发明的彩膜基板的制作方法在对较大尺寸显示面板的凹凸点的改善方面，更具竞争力。
[0043]具体的，所述彩膜基板用于尺寸大于8.6寸的显示面板。
[0044]综上所述，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，首先在来料基板的一表面上沉积金属材料的保护膜，然后在后续制程中使该基板上形成有保护膜的表面与承载台相接触，在基板的另一表面上形成黑色矩阵、色阻层、及外敷层等，之后在薄化之前用盐酸等酸性溶液清除基板表面上的保护膜，最后对基板进行薄化，完成彩膜基板的制作，从而得到彩膜基板，该保护膜可有效保护基板的表面，防止制程中各设备对基板表面造成损伤而导致表面凹凸点的产生，从而避免在对基板进行薄化时造成凹凸点不良进一步加重，提升显示面板的良率。
[0045]以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
【主权项】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤: 步骤1、提供基板(10)，设定所述基板(10)上相对两侧的两表面分别为第一表面(11)和第二表面(12)，在所述基板(10)的第一表面(11)上形成金属材料的保护膜(20); 步骤2、将基板(10)放置于承载台(100)上，此时，第一表面(11)面向承载台(100)，第一表面(11)上的保护膜(20)与承载台(100)相接触，在基板(10)的第二表面(12)上形成黑色矩阵(30)、色阻层(40)、及外敷层(50); 步骤3、提供酸性溶液，将第一表面(11)上的保护膜(20)清除掉； 步骤4、提供薄化液，利用薄化液从基板(10)的第一表面(11)对基板(10)进行薄化，得到彩膜基板。2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述保护膜(20)包括依次形成于所述第一表面(11)上的第一保护层(21)、及第二保护层(22)。3.如权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一保护层(21)的材料为铝，所述第二保护层(22)的材料为铁。4.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述保护膜(20)通过物理气相沉积工艺形成。5.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述酸性溶液为盐酸溶液。6.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基板(10)为玻璃基板。7.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述薄化液为氢氟酸溶液。8.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤2中，还包括在基板(10)的第二表面(12)上形成公共电极层、及聚酰亚胺层。9.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述色阻层(40)包括红色色阻层、绿色色阻层、及蓝色色阻层。10.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板用于尺寸大于8.6寸的显不面板。
【专利摘要】本发明提供一种彩膜基板的制作方法，首先在来料基板的一表面上沉积金属材料的保护膜，然后在后续制程中使该基板上形成有保护膜的表面与承载台相接触，在基板的另一表面上形成黑色矩阵、色阻层、及外敷层等，之后在薄化之前用盐酸等酸性溶液清除基板表面上的保护膜，最后对基板进行薄化，完成彩膜基板的制作，从而得到彩膜基板，该保护膜可有效保护基板的表面，防止制程中各设备对基板表面造成损伤而导致表面凹凸点的产生，从而避免在对基板进行薄化时造成凹凸点不良进一步加重，提升显示面板的良率。
【IPC分类】G02F1/1335
【公开号】CN105629559
【申请号】CN201610019265
【发明人】赵国涛
【申请人】武汉华星光电技术有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2016年1月12日