Tft-lcd的显示面板制造方法、显示面板及显示器的制造方法
【专利摘要】本发明涉及领域，公开了一种TFT?LCD的显示面板制造方法，包括：在形成有多个显示区域的阵列母基板上形成取向层，在形成有多个显示区域的彩膜母基板上形成取向层；分别在所述阵列母基板的显示区域的外围设置封框胶，或者分别在所述彩膜母基板的显示区域的外围设置封框胶；滴注液晶，将所述阵列母基板和所述彩膜母基板对盒形成显示母基板；使用激光沿封框胶外围的切割线切割显示母基板，形成多个显示面板。本发明采用激光对显示母基板进行切割，避免显示母基板的表面被划伤，切割形成的显示面板的边缘平整光滑无毛刺，且无应力集中点，不需要对面板进行研磨，简化制造工序，提高面板的良率。
【专利说明】
TFT-LGD的显示面板制造方法、显示面板及显示器
技术领域
[0001]本发明涉及液晶显示器技术领域，特别是涉及一种TFT-LCD的显示面板制造方法、显示面板及显示器。
【背景技术】
[0002]目前，TFT-1XD(薄膜晶体管液晶显示器)制造领域中，现有技术的显示面板的制作方法中，在阵列母基板和彩膜母基板制作出显示区域，在显示区域上涂覆取向液形成取向层，在阵列母基板或者彩膜母基板的显示区域的外围设置封框胶，并滴注液晶，压合形成显示母基板。使用刀轮对显示母基板沿封框胶外围的切割线切割形成预切割刀痕，然后再通过裂片的方式获得面板，这种方法中，刀轮在切割时也时常造成液晶屏损伤、划伤、残胶等问题，并且切割完的面板的边缘粗糙不平滑且形成应力集中，需要进行研磨工序，制作工序复杂，且面板的良率低。
[0003]如图11所示，示出了现有技术制作的显示面板结构，该显示面板，包括阵列基板、彩膜基板、设于阵列基板与彩膜基板之间以实现阵列基板与彩膜基板相压合的封框胶102，在阵列基板上具有绑定区101，在阵列基板与彩膜基板上均形成有取向层103和显示区域104，取向层103小于封框胶102围成的区域，在封框胶102与取向层103之间具有间距，在涂覆时，取向层103的边缘膜质不均且过厚产生Halo(光晕)，有Halo的地方液晶不能正常取向，因此Halo不能在显示区域104内。为解决Halo不在显示区域104内的问题，通常的做法是扩大取向层103的覆盖区域，涂覆区域扩大到封框胶102区域。封框胶102中为保证盒厚的均一性需要掺入I %的S1-Ball (硅球)，由于取向层103的膜质不均且过厚，很容易造成S1-Ball的层叠，造成面板边缘盒厚较大，导致周边发黄。同时又由于超窄边边框(封框胶干胶宽度小于0.6mm)的需求，现有技术的取向液涂覆精度不能满足设计要求，往往超出封框胶102边缘或者小于显示区域104，但是使用现有技术切割显示母基板形成显示面板后，需要对显示面板进行研磨去除应力，研磨的同时需要使用水降温，容易渗入水分，取向层103吸收水分后，导致面板不良，面板的良率大幅降低。
【发明内容】
[0004](一)要解决的技术问题
[0005]本发明的目的是提供一种TFT-LCD的显示面板制造方法，解决现有技术需要研磨，工序复杂，面板良率低的问题;并进一步提供一种显示面板及显示器。
[0006](二)技术方案
[0007]为了解决上述技术问题，本发明提供一种TFT-1XD的显示面板制造方法，包括:
[0008]包括:
[0009]在形成有多个显示区域的阵列母基板上形成取向层，在形成有多个显示区域的彩膜母基板上形成取向层；
[0010]分别在所述阵列母基板的显示区域的外围设置封框胶，或者分别在所述彩膜母基板的显示区域的外围设置封框胶；
[0011 ]滴注液晶，将所述阵列母基板和所述彩膜母基板对盒形成显示母基板；
[0012]使用激光沿封框胶外围的切割线切割显示母基板，形成多个显示面板。
[0013]作为优选的，在形成有多个显示区域的阵列母基板上形成取向层的方式:在所述阵列母基板设有多个阵列基板区域，每个所述阵列基板区域包括涂覆区域和非涂覆区域，所述多个显示区域一一对应地形成于所述多个涂覆区域上，在所述涂覆区域形成覆盖所述显示区域的所述取向层；
[0014]在形成有多个显示区域的彩膜母基板上形成取向层的方式:在所述彩膜母基板设有多个彩膜基板区域，每个所述彩膜基板区域包括涂覆区域和非涂覆区域，所述多个显示区域一一对应地形成于所述多个涂覆区域上，在所述涂覆区域形成覆盖所述显示区域的所述取向层。
[0015]作为优选的，分别在所述阵列母基板的显示区域的外围设置封框胶，或者分别在所述彩膜母基板的显示区域的外围设置封框胶的具体方式为:分别在所述阵列母基板的阵列基板区域上设置封框胶或分别在所述彩膜母基板的彩膜基板区域上设置封框胶，所述封框胶位于所述显示区域的外围，且使得所述封框胶的一部分边框位于取向层上，所述封框胶的另一部分边框位于非涂覆区域上。
[0016]作为优选的，将所述阵列母基板和所述彩膜母基板对盒形成显示母基板的具体方式为:分别将所述阵列母基板的阵列基板区域与所述彩膜母基板的彩膜基板区域相对应，然后对盒形成显示母基板，使所述阵列母基板的显示区域和所述彩膜母基板的显示区域均位于所述封框胶封装的范围内；
[0017]作为优选的，所述切割线为所述阵列基板区域和所述彩膜基板区域的边缘。
[0018]作为优选的，在所述阵列母基板和所述彩膜母基板上形成取向层时，取向层的覆盖范围不超过所述涂覆区域邻近所述非涂覆区域的边缘、且超过其他边缘。
[0019]作为优选的，所述取向层的覆盖的范围超过所述涂覆区域的边缘的水平距离为2?3mm0
[0020]作为优选的，在激光切割显示母基板时，控制切割环境的空气湿度不高于30%。[0021 ] 作为优选的，所述激光的温度为2080?2120度。
[0022]作为优选的，激光与显示母基板的表面具有夹角，所述夹角为70?80度。
[0023]作为优选的，还包括在切割形成的显示面板的阵列基板和彩膜基板形成有取向层的部分的外侧面设置防水层。
[0024]作为优选的，所述在切割形成的显示面板的阵列基板和彩膜基板形成有取向层的部分的外侧面设置防水层的具体方式为:
[0025]防水层设置在显示面板的阵列基板、彩膜基板及封框胶共同限定出的间隙中；
[0026]或者，当切割形成的显示面板的外侧面具有覆盖显示面板的阵列基板、彩膜基板及封框胶共同限定出的间隙的氧化层时，防水层涂覆在氧化层的外侧面。
[0027]本发明还提供一种显示面板，该显示面板由上述所述的制造方法制造而成。
[0028]本发明还提供一种显示器，该显示器包括采用上述所述的显示面板。
[0029](三)有益效果
[0030]本发明提供的TFT-LCD的显示面板制造方法、显示面板和显示器，本发明采用激光对制作完成的显示母基板进行切割，避免显示母基板在切割过程中表面被划伤，切割形成的显示面板的边缘平整光滑无毛刺，且无应力集中点，不需要对面板进行研磨，简化制造工序，提高面板的良率。同时，不需要研磨，有效避免取向层在研磨冷却过程中因吸水导致显示面板不良的风险。
【附图说明】
[0031]图1示出了本发明TFT-LCD的显示面板制造方法实施例1在阵列母基板上制作取向层的步骤；
[0032]图2示出了本发明TFT-LCD的显示面板制造方法实施例1在彩膜母基板上制作取向层的步骤；
[0033]图3示出了本发明TFT-LCD的显示面板制造方法实施例1在阵列母基板上制作封框胶的步骤；
[0034]图4示出了本发明TFT-LCD的显示面板制造方法实施例1在彩膜母基板上滴注液晶的步骤；
[0035]图5示出了本发明TFT-LCD的显示面板制造方法实施例1在阵列母基板与彩膜母基板对盒形成显示母基板的俯视图；
[0036]图6示出了图5所示中A-A方向的剖视图；
[0037]图7示出了本发明TFT-1XD的显示面板制造方法实施例1对显示母基板使用激光切割的步骤的剖视图；
[0038]图8a和8b示出了本发明TFT-LCD的显示面板制造方法实施例1使用激光切割后形成的显示面板的剖视图；
[0039]图9示出了本发明TFT-1XD的显示面板制造方法实施例1对显示面板的左侧、右侧和上侧的外侧面贴覆防水层的步骤(外侧面不具有氧化层)；
[0040]图10示出了本发明TFT-LCD的显示面板制造方法实施例1对显示面板的左侧、右侧和上侧的外侧面贴覆防水层的步骤(外侧面具有氧化层)；
[0041 ]图11为现有技术制造的TFT-1XD的显示面板。
[0042]图中，101:非涂覆区域；102:封框胶；103:取向层；104:显示区域；1:阵列母基板；2:彩膜母基板；11:阵列基板区域；111:涂覆区域；112:非涂覆区域；12:显示区域；13:取向层;21:彩膜基板区域;211:涂覆区域;212:非涂覆区域;22:显示区域;23:取向层；Ia:阵列基板;2a:彩膜基板;3:封框胶;4:液晶；5:切割线;6:激光器;7:防水层;8:氧化层；11:非涂覆区域;71:间隙。
【具体实施方式】
[0043]下面结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0044]在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接;可以是机械连接，也可以是电连接;可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0045]实施例1
[0046]本实施例的TFT-1XD的显示面板制造方法，包括以下步骤:
[0047]制作显示母基板:
[0048]在形成有多个显示区域的阵列母基板上形成取向层。本实施例中，其具体方式是:如图1所示，在阵列母基板I设有多个阵列基板区域11，每个阵列基板区域11包括涂覆区域111和非涂覆区域112，如图所示，涂覆区域111位于上部，非涂覆区域112位于下部，多个显示区域12—一对应地形成于多个涂覆区域111上，即每个涂覆区域111上设置一个显示区域12，在涂覆区域111形成覆盖显示区域12的取向层13，具体的，在涂覆区域111涂覆取向液覆盖显示区域12形成取向层13。本实施例中，阵列母基板I上的阵列基板区域11为3个。
[0049]在形成有多个显示区域的彩膜母基板上形成取向层。本实施例中，其具体方式是:如图2所示，在彩膜母基板2设有多个彩膜基板区域21，每个彩膜基板区域21包括涂覆区域211和非涂覆区域212，如图所示，涂覆区域211位于上部，非涂覆区域212位于下部，多个显示区域22—一对应地形成于多个涂覆区域211上，即每个涂覆区域211上设置一个显示区域22，在涂覆区域211形成覆盖显示区域22的取向层23，具体的，在涂覆区域211涂覆取向液覆盖显示区域22形成取向层23。本实施例中，本实施例中，彩膜母基板2上的彩膜基板区域21为3个。
[0050]进一步的，在阵列母基板I和彩膜母基板2上形成取向层13、23时，取向层13、23的覆盖范围不超过涂覆区域111、211邻近非涂覆区域112、212的边缘、且超过其他边缘，SP取向层13、23的覆盖范围超过除靠近非涂覆区域112、212的边缘之外的其他边缘。如图1和2所示，在涂覆时，涂覆液超出涂覆区域111、211的左侧、右侧和上侧的边缘，优选的，取向层13、23覆盖的范围超过涂覆区域111、211的左侧、右侧及上侧的边缘的水平距离为2?3mm，例如2mm、2.5mm和3mm0
[0051]如图3所示，分别在阵列母基板I的显示区域12的外围设置封框胶3。具体的，在阵列母基板I的阵列基板区域11具有取向层13的一面制作封框胶3，封框胶3位于显示区域12的外围，封框胶3横跨于涂覆区域111与非涂覆区域112之间，且使得封框胶3的一部分边框位于取向层13上，封框胶3的另一部分边框位于非涂覆区域112上。
[0052]如图4所示，分别在彩膜母基板2的显示区域22上滴注液晶4，具体的，分别在显示区域22对应的取向层23上滴注液晶4。
[0053]如图5和6所示，将阵列母基板I和彩膜母基板2对盒形成显示母基板，具体的:分别将阵列母基板I的阵列基板区域11和彩膜母基板2的彩膜基板区域21相对应，然后对盒形成显示母基板，使阵列母基板I的显示区域12和彩膜母基板2的显示区域22均位于封框胶3封装的范围内，液晶4封装在封框腔3、阵列母基板I和彩膜母基板2共同限定出的空间内。
[0054]使用激光沿封框胶外围的切割线切割显示母基板，形成多个显示面板:
[0055]如图7所示，使用激光器6发出的激光沿封框3外围的切割线5对显示母基板进行切割形成显示面板，如图8a和Sb所示，显示面板的结构从下至上分别为阵列基板la、封框胶3和彩膜基板2a。本实施例中，以阵列基板区域11的边缘和彩膜基板区域21的边缘作为切割线5，使用激光沿阵列基板区域11的边缘和彩膜基板区域21的边缘切割形成显示面板，使得阵列基板区域11形成阵列基板la，彩膜基板区域21形成彩膜基板2a。本实施例中，在阵列母基板I具有三个阵列基板区域11，彩膜母基板2具有三个彩膜基板区域21，共形成三个显示面板单位，切割形成3个显示面板。
[0056]优选的，激光器6发出的激光的温度为2080?2120度。优选，当激光的温度设定在2100度时，激光器6的脉冲能量为100微焦左右如8b所示，阵列母基板I和彩膜母基板2—般均采用玻璃制成，由于阵列母基板I和彩膜母基板2之间的间隙只有I?4μπι，而阵列母基板I和彩膜母基板2的厚度在0.3mm以上，相差两个数量级，能够保证足够量的气化玻璃在间隙两侧形成氧化层8，又由于焦点温度高，可以瞬间将玻璃气化，不会产生大量的热，不需要吹入气体冷却。玻璃气化并凝结在氧化层8，氧化层8能够阻隔取向层13、23与空气中水分的接触，同时激光切割的边缘平滑无需研磨处理，减少清洗步骤。在激光切割母板时，调整切割环境的空气湿度，将切割环境的空气湿度控制在不高于30%的条件下。在进行激光切割时，激光器6沿着切割线5与显示母基板相对移动，切割线5与封框胶3的水平距离优选为I?2mm，避免残胶的发生。激光与显示母基板的表面具有夹角α，夹角α为70?80度。优选的，夹角α为75度。激光与显示母基板的表面具有夹角，避免激光在玻璃制成的显示母基板发生反射，进入激光器6本身，能够有效降低激光器损坏的风险。
[0057]本发明的TFT-LCD的显示面板制造方法，采用激光对制作完成的显示母基板进行切割，避免显示母基板的表面在切割过程中被划伤，切割形成的显示面板的边缘平整光滑无毛刺，且无应力集中点，不需要对面板进行研磨，简化制造工序，提高面板的良率。同时，切割完后不需要再进行研磨工序，有效避免取向层在研磨冷却过程中因吸水导致显示面板不良的风险。另外，由于本发明采用激光进行切割，可以将在制作显示母基板的过程中，取向层的涂覆范围超出封框胶的范围，从而实现封框胶内的取向层厚度均一，避免面板的显示区域的边缘发黄风险。
[0058]进一步的，如图9和10所示，本制造方法还包括在切割形成的显示面板的阵列基板Ia和彩膜基板2a形成有取向层的部分的外侧面设置防水7。
[0059]在切割形成的显示面板的阵列基板和彩膜基板形成有取向层的部分的外侧面设置防水层的具体方式为:
[0060]如图9所示，防水层7设置在显示面板的阵列基板la、彩膜基板2a及封框胶3共同限定出的间隙71中。具体的，当切割形成的显示面板的阵列基板Ia和彩膜基板2a形成有取向层的部分的外侧面不具有能够覆盖阵列基板la、彩膜基板2a及封框胶3限定出的间隙71的氧化层时，在阵列基板Ia和彩膜基板2a形成有取向层的部分的外侧面设置防水层7，以避免取向层吸水使显示面板发黄。
[0061]或者，如图10所示，当切割形成的显示面板的阵列基板Ia和彩膜基板2a形成有取向层的部分的外侧面具有覆盖显示面板的阵列基板la、彩膜基板2a及封框胶3共同限定出的间隙71的氧化层8时，防水层7涂覆在氧化层8的外侧面，氧化层8具有防水作用，但是为了避免氧化层损坏引起显示面板发黄的问题，在阵列基板Ia和彩膜基板2a形成有取向层的部分的外侧面设置防水层7。
[0062]需要说明的是，阵列基板Ia的非涂覆区域112用于作为绑定区，对于彩膜基板2a的非涂覆区域212在后续的加工过程中需要部分切除掉形成废片玻璃，该技术手段与本发明的申请内容无关，本发明的描述过程中省略切除废片玻璃的具体描述。
[0063]实施例2
[0064]本实施例与实施例1基本相同，所不同之处在于:本实施例中，分别在彩膜母基板的显示区域的外围设置封框胶，封框胶位于显示区域的外围，封框胶4横跨于涂覆区域与非涂覆区域之间，且使得封框胶的一部分边框位于取向层上，封框胶的另一部分边框位于非涂覆区域上。在阵列母基板的显示区域滴注液晶。将阵列母基板和彩膜母基板对盒形成显示母基板。
[0065]需要说明的是，显示母基板的制作方法不限于实施例1和实施例2所述的方法，显示母基板的也可以采用现有技术的制作方法制作而成。
[0066]本发明还提供一种显示面板，该显示面板为采用上述任一实施例所述的TFT-LCD的显示面板制造方法制造而成。
[0067]本发明还提供一种显示器，该显示器包括上述实施例所述的显示面板。
[0068]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种TFT-1XD的显示面板制造方法，其特征在于:包括: 在形成有多个显示区域的阵列母基板上形成取向层，在形成有多个显示区域的彩膜母基板上形成取向层； 分别在所述阵列母基板的显示区域的外围设置封框胶，或者分别在所述彩膜母基板的显示区域的外围设置封框胶； 滴注液晶，将所述阵列母基板和所述彩膜母基板对盒形成显示母基板； 使用激光沿封框胶外围的切割线切割显示母基板，形成多个显示面板。2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于: 在形成有多个显示区域的阵列母基板上形成取向层的方式:在所述阵列母基板设有多个阵列基板区域，每个所述阵列基板区域包括涂覆区域和非涂覆区域，所述多个显示区域一一对应地形成于所述多个涂覆区域上，在所述涂覆区域形成覆盖所述显示区域的所述取向层； 在形成有多个显示区域的彩膜母基板上形成取向层的方式:在所述彩膜母基板设有多个彩膜基板区域，每个所述彩膜基板区域包括涂覆区域和非涂覆区域，所述多个显示区域一一对应地形成于所述多个涂覆区域，在所述涂覆区域形成覆盖所述显示区域的所述取向层。3.如权利要求2所述的制造方法，其特征在于: 分别在所述阵列母基板的显示区域的外围设置封框胶，或者分别在所述彩膜母基板的显示区域的外围设置封框胶的具体方式为: 分别在所述阵列母基板的阵列基板区域上设置封框胶或分别在所述彩膜母基板的彩膜基板区域上设置封框胶，所述封框胶位于所述显示区域的外围，且使得所述封框胶的一部分边框位于取向层上，所述封框胶的另一部分边框位于非涂覆区域上。4.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于:将所述阵列母基板和所述彩膜母基板对盒形成显示母基板的具体方式为:分别将所述阵列母基板的阵列基板区域与所述彩膜母基板的彩膜基板区域相对应，然后对盒形成显示母基板，使所述阵列母基板的显示区域和所述彩膜母基板的显示区域均位于所述封框胶封装的范围内。5.如权利要求4所述的制造方法，其特征在于: 所述切割线为所述阵列基板区域和所述彩膜基板区域的边缘。6.如权利要求2所述的制造方法，其特征在于:在所述阵列母基板和所述彩膜母基板上形成取向层时，取向层的覆盖范围不超过所述涂覆区域邻近所述非涂覆区域的边缘、且超过其他边缘。7.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于:所述取向层的覆盖范围超过所述涂覆区域的边缘的水平距离为2?3mm。8.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于:在激光切割显示母基板时，控制切割环境的空气湿度不高于30%。9.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于:所述激光的温度为2080?2120度。10.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于:激光与显示母基板的表面具有夹角，所述夹角为70?80度。11.如权利要求1至10任一项所述的制造方法，其特征在于:还包括在切割形成的显示面板的阵列基板和彩膜基板形成有取向层的部分的外侧面设置防水层。12.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于:所述在切割形成的显示面板的的阵列基板和彩膜基板形成有取向层的部分的的外侧面设置防水层的具体方式为: 防水层设置在显示面板的阵列基板、彩膜基板及封框胶共同限定出的间隙中； 或者，当切割形成的显示面板的外侧面具有覆盖显示面板的阵列基板、彩膜基板及封框胶共同限定出的间隙的氧化层时，防水层涂覆在氧化层的外侧面。13.—种显示面板，其特征在于:该显示面板由权利要求1至12任一项所述的制造方法制造而成。14.一种显示器，其特征在于:该显示器包括采用权利要求13所述显示面板。
【文档编号】G02F1/1339GK105892133SQ201610480366
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年6月27日
【发明人】郭兰军, 王建, 李娜, 王春雷, 赵伟, 韩林, 马少武, 张瑞辰, 蒋昆, 宋雪超, 周康迪
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司