一种工业胶片洗片架组装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及射线检测技术领域，更具体地说，涉及一种用于化工工艺管道射线检测的工业胶片洗片架组装置。
【背景技术】
[0002]通常，化工工艺管道射线检测主要过程如下:1.射线机的搬运及固定、2.焊缝清刷透照、3.位置的标记编号、4.底片中号码的编排、5.底片的固定、6.开机拍照、7.暗室处理、8.底片鉴定、9.技术报告。其中暗室处理是射线照相检验的一道重要工艺，被射线曝光的带有潜影的胶片经过暗室处理后变为带有可见影像的底片，底片质量好坏与暗室工作的技术水平及操作正确与否密切相关，以往的单张底片洗片费时费力且可能同一焊口同一透照条件在显定影处理环节不同步导致底片质量不能统一，影响检测效果。
[0003]中国专利号:ZL91224899.8，公开公告日:1992年5月13日，专利名称:感光胶片冲洗篮，该专利采用框架结构保护胶片，多规格多张胶片同时冲洗，显像均匀一致，是一种介于传统感光胶片冲洗方法和感光胶片自动冲洗机之间的新型洗片系统。该专利所属技术领域虽然不是射线检测技术领域，但是其提出的装置也能解决射线检测的工业胶片一张张洗片带来的洗片质量不均的问题，但是该技术方案中抽取底片并不方便，会因操作人员水平参差不齐操作不当而出现划伤片基、底片显影粘贴、手纹损伤底片等的情况。
【实用新型内容】
[0004]1.实用新型要解决的技术问题
[0005]本实用新型的目的在于克服现有技术中工业射线照相检测操作人员水平参差不齐，而导致在暗室手动洗片中有些人操作不当易发生的划伤片基、底片显影粘贴、同一焊口同一透照条件在显定影处理环节不同步导致底片质量不能统一、手纹污染底片等问题，且采用本实用新型的技术方案，同时也解决了洗片效率低下的问题。
[0006]2.技术方案
[0007]为达到上述目的，本实用新型提供的技术方案为:
[0008]本实用新型一种工业胶片洗片架组装置，包括框架、承插座架和升降机构；所述的框架为篮状长方体框架结构，框架内均匀设置有若干组承插座架，承插座架用于垂直插入洗片架；所述的升降机构位于框架内部下方，用于控制胶片共同升降，升降机构包括卡槽、升降平台、杆扣和支撑杆，所述的升降平台位于框架内部洗片架的下方，所述的升降平台底部设有支撑杆用于支撑升降平台，所述的框架与洗片架平行的一侧设有卡槽，所述的支撑杆一端设有杆扣，所述的杆扣延伸出卡槽，杆扣可以卡在卡槽不同位置从而控制支撑杆的升降；所述的洗片架插口下方设有横梁，所述的横梁上设有一荧光层。
[0009]作为本实用新型更进一步的改进，所述的承插座架每两组之间间隔3?10mm。
[0010]作为本实用新型更进一步的改进，还包括提手，所述提手的设置于框架上端两侧。
[0011]作为本实用新型更进一步的改进，所述的升降平台上开有第一排水孔，第一排水孔为长条孔；所述的洗片架上开有第二排水孔和第三排水孔，所述的第二排水孔为方孔，所述的第三排水孔为长条孔。
[0012]3.有益效果
[0013]采用本实用新型提供的技术方案，与现有技术相比，具有如下有益效果:
[0014](I)本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置，洗片架数量可以根据不同工艺管道管径所需不同底片数量来调节，同时洗多张底片，对于同一焊口同一透照条件的底片的处理过程能保持同步，不会过度依赖操作人员的技术水平，能够统一洗片质量，检测结果判断更为准确；也减少因为单张洗片而过多的手续，减少底片污染的机会，在洗片质量提高的同时也能提高效率。
[0015](2)本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置，升降机构位于框架内部洗片架下方，能够批量控制洗片架的同步升降，将洗片架从框架中升出后，手持洗片架外框抽取出胶片，避免直接从框架中抽取洗片架时手与胶片的过多接触，影响胶片质量。
[0016](3)本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置，洗片架插口下方设有横梁，横梁上设有一荧光层，提高操作人员在暗室环境中的作业速度，提高效率。
[0017](4)本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置，承插座架每组之间间隔3?10mm，能保证洗片架与洗片架之间保持距离，防止底片在显影与定影过程中会粘在一起，可以克服底片在显影过程中相互碰撞划伤、粘贴、化学反应不充分等问题。
[0018](5)本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置，第一排水孔、第二排水孔和第三排水孔的设置，不仅减轻了装置的自身重量，同时方便显定影过程中化学残留的快速流出，防止显定影残留影响底片以及参与反应的化学药剂。
[0019](6)本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置，结构设计合理，原理简单，便于推广使用。
【附图说明】
[0020]图1为本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置的结构示意图；
[0021]图2为本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置的俯视图；
[0022]图3为本实用新型的一种工业胶片洗片架组装置的结构简图；
[0023]图4为本实用新型中插入式洗片架的结构示意图。
[0024]不意图中的标号说明:
[0025]1、框架；2、承插座架；3、提手；4、卡槽；5、升降平台；51、杆扣；52、第一排水孔；6、洗片架；61、插口 ；62、横梁；63、第二排水孔；64、第三排水孔；8、支撑杆。
【具体实施方式】
[0026]为进一步了解本实用新型的内容，结合附图及实施例对本实用新型作详细描述。
[0027]实施例1
[0028]如图1、图2、图3、图4所示，本实施例的一种工业胶片洗片架组装置，包括框架1、承插座架2、提手3、洗片架6、支架7和升降机构；所述的框架I为篮状长方体框架结构，框架I内均匀设置有若干组承插座架2，承插座架2为4个槽，分别位于框架的4个长度方向的杆上，每组承插座架2的4个槽对应用于垂直插入洗片架6，承插座架2每组之间间隔3?10mm，具体在本实施例中，两组座架2之间间隔4_，所述的洗片架6插口 61下方设有横梁62，所述的横梁62上设有一荧光层，胶片插入洗片架6的插口 61，洗片架6承插入承插座架2中，能够根据不同工艺管道管径所需不同底片数量同时洗多张底片，保证质量统一，提高洗片效率。
[0029]所述的升降机构位于框架I内部下方，用于控制胶片共同升降，升降机构包括卡槽4、升降平台5、杆扣51和支撑杆8，所述的升降平台5位于框架I内部洗片架6的下方，所述的升降平台5底部设有支撑杆8用于支撑升降平台5，所述的框架I与洗片架6平行的一侧设有卡槽4，所述的支撑杆8 一端设有杆扣51，所述的杆扣51延伸出卡槽4，杆扣51可以卡在卡槽4不同位置从而控制支撑杆8的升降，支撑杆8的升降带动升降平台5的升降使得位于升降平台5上方的洗片架6同时升降，底片被同时升起后再行抽取，避免直接从框架中抽取洗片架手与胶片的过多接触，影响胶片质量。所述的升降平台5上开有第一排水孔52，第一排水孔52为长条孔；所述的洗片架6上开有第二排水孔63和第三排水孔64，所述的第二排水孔63为方孔，所述的第三排水孔64为长条孔，不仅减轻了装置的自身重量，同时方便显定影过程中化学残留的快速流出，防止显定影残留影响底片以及参与反应的化学药剂。
[0030]以上示意性的对本实用新型及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本实用新型的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本实用新型创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种工业胶片洗片架组装置，包括框架(I)，其特征在于:还包括承插座架(2)、洗片架(6)和升降机构；所述的框架(I)为篮状长方体框架结构，框架(I)内均匀设置有若干组承插座架(2)，承插座架(2)用于垂直承插洗片架(6);所述的升降机构位于框架(I)内部下方，用于控制胶片共同升降，升降机构包括卡槽(4)、升降平台(5)、杆扣(51)和支撑杆(8)，所述的升降平台(5)位于框架⑴内部洗片架(6)的下方，所述的升降平台(5)底部设有支撑杆(8)用于支撑升降平台(5)，所述的框架(I)与洗片架(6)平行的一侧设有卡槽(4)，所述的支撑杆⑶一端设有杆扣(51)，所述的杆扣(51)延伸出卡槽(4)，杆扣(51)可以卡在卡槽(4)不同位置从而控制支撑杆(8)的升降；所述的洗片架(6)插口 ￠1)下方设有横梁(62)，所述的横梁￠2)上设有一荧光层。
2.根据权利要求1所述的一种工业胶片洗片架组装置，其特征在于:所述的承插座架(2)每两组之间间隔3?10mm。
3.根据权利要求2所述的一种工业胶片洗片架组装置，其特征在于:还包括提手(3)，所述的提手(3)设置于框架(I)上端两侧。
4.根据权利要求3所述的一种工业胶片洗片架组装置，其特征在于:所述的升降平台(5)上开有第一排水孔(52)，第一排水孔(52)为长条孔；所述的洗片架(6)上开有第二排水孔￠3)和第三排水孔(64)，所述的第二排水孔￠3)为方孔，所述的第三排水孔￠4)为长条孔。
【专利摘要】本实用新型公开了一种工业胶片洗片架组装置，属于射线检测领域。本实用新型的框架为篮状长方体框架结构，框架内均匀设置有若干组承插座架，用于垂直插入洗片架；升降机构位于框架内部洗片架下方的升降平台，设于升降平台底部用于支撑升降平台的支撑杆，设于框架与洗片架平行一侧的卡槽，设于支撑杆一端的杆扣；杆扣延伸出卡槽，可以卡在卡槽不同位置从而控制支撑杆的升降；洗片架插口下方设有横梁，横梁上设有一荧光层。本实用新型可以同时洗多张底片，统一洗片质量，不易发生因技术人员操作不当发生的划伤片基、底片显影粘贴、手纹污染底片等问题，且洗片效率大大提高。
【IPC分类】G03D13-12
【公开号】CN204389873
【申请号】CN201520112135
【发明人】孙树楠, 景卫东, 严恒静, 徐德伟, 马凤毅, 魏民, 缪育, 吴怀明, 黄求军
【申请人】中国化学工程第三建设有限公司, 安徽三兴检测有限公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2015年2月15日