一种光学元件激光预处理系统的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及光学材料激光预处理领域，具体而言，涉及一种光学元件激光预处理 系统。
【背景技术】
[0002] 为了提高光学元件的激光损伤性能，通常在元件上架之前，用低于损伤阈值的激 光能量对元件通光区域进行激光预处理，即用激光光束对光学元件进行辐照。通过激光预 处理，元件损伤阈值最高可提升1到2倍，如此大幅度的损伤性能提升对于光学元件的应用 来说具有重要意义，目前，激光预处理已成为高功率激光系统光学元件上架前的必要步骤。
[0003] 预处理过程中，激光脉冲的辐照通量需要从低到高逐渐增加，以避免元件可能出 现的激光损伤。影响激光预处理效果的关键参数有:初始辐照通量、辐照通量增加幅度、每 个通量下对元件的福照发次、最高福照通量。大量研究表明，福照通量增幅（能量台阶）越 小、元件被辐照发次(遍数)越多、最大辐照通量越高(不发生损伤的前提下），预处理效果就 越好。所以，为了获得好的预处理效果，需要用尽可能小的能量台阶对元件进行多发次的辐 照。而激光系统中的元件口径可达几百毫米，要处理完一块元件，需要辐照的发次是相当可 观的。如此多的辐照发次不仅耗时耗力，对于激光器的消耗也会使运行成本增加。
【发明内容】
[0004] 鉴于此，本发明的目的在于提供一种光学元件激光预处理系统，以改善上述问题。
[0005] 为了实现上述目的，本发明实施例采用的技术方案如下：
[0006] 第一方面，本发明实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，包括激光光源、第 一反射装置及第二反射装置，所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面相 互平行。待处理样品设置在所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面之 间，所述第一反射装置与所述第二反射装置组成反射腔。所述激光光源发出的激光光束进 入所述反射腔，经所述反射腔多次反射后对所述待处理样品的多个预设处理点进行辐照， 用以对所述待处理样品进行激光预处理。
[0007]结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第一种可能实施方式，其中，所述第一 反射装置的第一端高度高于所述第二反射装置的第一端高度。
[0008] 结合第一方面的第一种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第二种可能实 施方式，其中，所述第一反射装置与所述第二反射装置相对于所述待处理样品对称设置。
[0009] 结合第一方面的第二种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第三种可能实 施方式，其中，相邻两个所述预设处理点上的激光光斑之间的距离与所述激光光源发出的 激光光束的入射角及所述反射腔的长度成预设关系。
[0010]结合第一方面的第三种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第四种可能实 施方式，其中，相邻两个所述预设处理点上的激光光斑之间的距离为所述激光光斑直径的 预设倍数。
[0011] 结合第一方面的第四种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第五种可能实 -r- 施方式，其中，所述预设倍数为^。 2
[0012] 结合第一方面或第一方面的第一种可能实施方式或第一方面的第二种可能实施 方式或第一方面的第三种可能实施方式或第一方面的第四种可能实施方式或第一方面的 第五种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第六种可能实施方式，其中，所述光学元 件激光预处理系统还包括用于调节所述待处理样品位置的平移台，所述待处理样品设置在 所述平移台上。
[0013] 结合第一方面的第六种可能实施方式，本发明还提供了第一方面的第七种可能实 施方式，其中，所述光学元件激光预处理系统还包括导轨，所述第一反射装置、所述第二反 射装置和所述平移台均设置在所述导轨上，所述第一反射装置、所述第二反射装置和所述 平移台能够沿所述导轨滑动。
[0014] 结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第八种可能实施方式，其中，所述待处 理样品的正面一侧或背面一侧设置有激光光束吸收装置。
[0015] 结合第一方面，本发明还提供了第一方面的第九种可能实施方式，其中，所述第一 反射装置和所述第二反射装置均为激光高反镜。
[0016] 本发明实施例提供的光学元件激光预处理系统中利用反射腔对入射的激光光束 进行多次反射，从而并行地对所述待处理样品的多个预设处理点进行辐照，有效地提高了 光学元件的激光预处理效率，从而降低了光学元件激光预处理的成本。其中，每一个预设处 理点为激光光束透过待处理样品时所经过的区域。
[0017] 本发明的其他特征和优点将在随后的说明书阐述，并且，部分地从说明书中变得 显而易见，或者通过实施本发明实施例而了解。本发明的目的和其他优点可通过在所写的 说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
【附图说明】
[0018] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所 需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施 例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获 得其他的附图。通过附图所示，本发明的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部 附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按实际尺寸等比例缩放绘制附图，重点 在于示出本发明的主旨。
[0019] 图1示出了本发明实施例提供的一种光学元件激光预处理系统的结构示意图；
[0020] 图2示出了本发明实施例提供的预处理激光光斑在待处理样品正面的排布示意 图；
[0021] 图3示出了本发明实施例提供的待处理样品正面的方向示意图。
[0022]其中，附图标记分别为：
[0023]激光光源101;第一反射装置102;第二反射装置103;待处理样品104;待处理样品 正面1041;待处理样品背面1042。
【具体实施方式】
[0024] 为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例 中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是 本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施 例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0025] 因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护 的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通 技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范 围。
[0026] 应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一 个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0027]在本发明的描述中，需要说明的是，术语"上"、"下"、"内"、"外"、"正面"、"背面"、 "顶端"等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使 用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗 示所指的装置