专利名称：具有表面纹路的研磨垫的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种具有表面纹路的研磨垫，具体而言，涉及一种具有孔洞以储存研磨 浆液的研磨垫。
背景技术：
抛光一般指化学机械研磨(CMP)制程中，对于初为粗糙表面的磨耗控制，其利用含 研磨粒子的研磨浆液平均分散于一研磨垫的上表面，同时将一待抛光物件抵住所述研磨 垫后以重复规律动作搓磨。所述待抛光物件是诸如半导体、储存媒体基材、集成电路、 LCD平板玻璃、光学玻璃与光电面板等物体。为了维持所述研磨浆液的分布与流动，和 化学机械研磨后的平坦化和研磨效率，所述研磨垫的上表面上通常会开设有复数个沟槽 或形成一表面纹路。因此，所述研磨垫对于所述待抛光物件的抛光效果，易受到所述沟 槽或所述表面纹路的影响。
参考图l，显示中国台湾公告第504429号专利所揭示的具有表面纹路的研磨垫的俯 视示意图。所述研磨垫1的表面纹路包括复数个同心的圆形沟槽U，其中所述圆形沟槽 ll的深度和宽度是根据所需而设计。所述研磨垫l的缺点为研磨过程中所产生的杂质不 易快速地离开所述研磨垫l,因而影响研磨精度和所述研磨垫l的使用寿命。
参考图2，显示中国台湾公告第562716号专利所揭示的具有表面纹路的研磨垫的俯 视示意图。所述研磨垫2的表面纹路包括复数个放射状的沟槽21，其中所述放射状的沟 槽21连接所述研磨垫2的中心22和所述研磨垫2的边缘23。所述研磨垫2的优点为研磨过 程中所产生的杂质容易快速地离开所述研磨垫2，但是其缺点为研磨浆液内的研磨粒子 也快速地离开所述研磨垫2，因而影响研磨精度和所述研磨垫2的使用寿命。
因此，有必要提供一种创新且具进步性的具有表面纹路的研磨垫，以解决上述问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种具有表面纹路的研磨垫，其包括一表面纹路，所述 表面纹路位于所述研磨垫的一抛光面上，所述表面纹路包括至少一第一沟槽、至少一第 二沟槽和复数个孔洞。所述第二沟槽连接到所述研磨垫边缘，且所述第一沟槽和所述第 二沟槽交错而形成复数个交错点。所述孔洞位于所述交错点上，且所述孔洞的深度大于 所述第一沟槽的深度。
藉此，所述第二沟槽可使悬浮于研磨浆液的杂质快速地离开所述研磨垫，而所述孔 洞则可以储存研磨浆液以延长所述研磨浆液内的研磨粒子离开所述研磨垫的时间。
图1显示中国台湾公告第504429号专利所揭示的具有表面纹路的研磨垫的俯视示意
图2显示中国台湾公告第562716号专利所揭示的具有表面纹路的研磨垫的俯视示意
图3显示本发明实例1的研磨垫的俯视示意图； 图4显示本发明实例2的研磨垫的俯视示意图； 图5显示本发明实例3的研磨垫的俯视示意图6显示本发明实例4的研磨垫的俯视示意图； 图7显示本发明实例5的研磨垫的俯视示意图；和
图8显示本发明实例6的研磨垫的俯视示意图。
具体实施例方式
本发明提供一种具有表面纹路的研磨垫，所述研磨垫应用于化学机械研磨(CMP)制 程中对一待抛光物件进行研磨或抛光。所述待抛光物件包括但不限于半导体、储存媒体 基材、集成电路、LCD平板玻璃、光学玻璃与光电面板等物体。
本发明具有表面纹路的研磨垫包括一表面纹路，所述表面纹路位于所述研磨垫的--抛光面上，所述表面纹路包括至少一第一沟槽、至少一第二沟槽和复数个孔洞。在一优 选实施例中，所述第一沟槽由俯视观看为包括复数圈不同半径的圆形沟槽且所述圆形沟 槽为同心，然而所述第一沟槽由俯视观看还可以是复数圈不同边长的方形沟槽且所述方 形沟槽为同心，或是所述第一沟槽还可以是一螺旋状沟槽或是其它形状的沟槽。
所述第二沟槽由所述研磨垫的一中央部延伸到所述研磨垫的一边缘，且所述第一沟 槽和所述第二沟槽交错而形成复数个交错点。优选地，所述第二沟槽由俯视观看为复数 条放射状的沟槽，每一第二沟槽可以是直线状沟槽或是弧状沟槽。所述孔洞位于所述交 错点上，且所述孔洞的深度大于所述第一沟槽和所述第二沟槽的深度。藉此，所述第二 沟槽可使悬浮于研磨浆液的杂质快速地离开所述研磨垫，而所述孔洞则可以储存研磨浆 液以延长所述研磨浆液内的研磨粒子离开所述研磨垫的时间。
现以下列实例予以详细说明本发明，但并不意味本发明仅局限于这些实例所揭示的 内容。
实例l:
参考图3，显示本发明实例l的研磨垫的俯视示意图。本实例的研磨垫3的表面纹路 包括复数个第一沟槽31、复数个第二沟槽32和复数个孔洞33。所述第一沟槽31由俯视观 看为复数圈不同半径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽为同心。所述第二沟槽32为复数条放 射状的沟槽，每一第二沟槽32为直线状沟槽且由所述研磨垫3的一中央部延伸到所述研 磨垫3的边缘34。所述第一沟槽31和所述第二沟槽32交错而形成复数个交错点。所述孔 洞33位于所述交错点上，且所述孔洞33的深度大于所述第一沟槽31和所述第二沟槽32的 深度。
实例2:
参考图4，显示本发明实例2的研磨垫的俯视示意图。本实例的研磨垫4的表面纹路 包括复数个第一沟槽41、复数个第二沟槽42和复数个孔洞43。所述第一沟槽41为复数个 同心圆形沟槽。所述第二沟槽42为复数条放射状的沟槽，每一第二沟槽42为直线状沟槽 且由所述研磨垫4的一中央部延伸到所述研磨垫4的边缘44。所述第一沟槽41和所述第二 沟槽42交错而形成复数个交错点。所述孔洞43位于所述交错点上，且所述孔洞43的深度 大于所述第一沟槽41和所述第二沟槽42的深度。本实例的研磨垫4的表面纹路与所述实 例1的研磨垫3的表面纹路的不同处仅在于，所述研磨垫4最内圈的第一沟槽411并未与所 述第二沟槽42交错。
实例3:
参考图5，显示本发明实例3的研磨垫的俯视示意图。本实例的研磨垫5的表面纹路 包括复数个第一沟槽51、复数个第二沟槽52、复数个第一孔洞53和复数个第二孔洞55。 所述第一沟槽51为复数个同心圆形沟槽。所述第二沟槽52为复数条放射状的沟槽，每一 第二沟槽52为直线状沟槽且由所述研磨垫5的-一中央部延伸到所述研磨垫5的边缘54。所 述第一沟槽51和所述第二沟槽52交错而形成复数个交错点。所述第一孔洞53位于所述交 错点上，且所述第一孔洞53的深度大于所述第一沟槽41和所述第二沟槽42的深度。所述 第二孔洞55位于所述第二沟槽52上但是不在所述交错点的位置，且所述第二孔洞55的深 度与所述第一孔洞53的深度相同。
实例4:
参考图6，显示本发明实例4的研磨垫的俯视示意图。本实例的研磨垫6的表面纹路 包括复数个第一沟槽61、复数个第二沟槽62和复数个孔洞63。所述第一沟槽61以俯视观 看为复数圈不同边长的方形沟槽，且所述方形沟槽为同心。所述第二沟槽62为复数条放 射状的沟槽，每一第二沟槽62为直线状沟槽且由所述研磨垫6的一中央部延伸到所述研
磨垫6的边缘64。所述第一沟槽61和所述第二沟槽62交错而形成复数个交错点。所述孔 洞63位于所述交错点上，且所述孔洞63的深度大于所述第一沟槽61和所述第二沟槽62的深度。
实例5:
参考图7，显示本发明实例5的研磨垫的俯视示意图。本实例的研磨垫7的表面纹路 包括一第-一沟槽71、复数个第二沟槽72和复数个孔洞73。所述第一沟槽71以俯视观看为 一螺旋状沟槽。所述第二沟槽72为复数条放射状的沟槽，每一第二沟槽72为直线状沟槽 且由所述研磨垫7的 一 中央部延伸到所述研磨垫7的边缘74。所述第一沟槽71和所述第二 沟槽72交错而形成复数个交错点。所述孔洞73位于所述交错点上，且所述孔洞73的深度 大于所述第一沟槽71和所述第二沟槽72的深度。
实例6:
参考图8，显示本发明实例6的研磨塾的俯视示意图。本实例的研磨垫8的表面纹路 包括复数个第一沟槽81、复数个第二沟槽82和复数个孔洞83。所述第一沟槽81为复数个 同心圆形沟槽。所述第二沟槽82为复数条放射状的沟槽，每一第二沟槽82为弧状沟槽且 由所述研磨垫8的一中央部延伸到所述研磨垫8的边缘84。所述第一沟槽81和所述第二沟 槽82交错而形成复数个交错点。所述孔洞83位于所述交错点上，且所述孔洞83的深度大 于所述第一沟槽81和所述第二沟槽82的深度。
但上述实施例仅为说明本发明的原理和其功效，而非用以限制本发明。因此，所属 领域的技术人员可在不违背本发明的精神的情况下对上述实施例进行修改和变化。本发 明的权利范围应如所附的权利要求书所列。
权利要求
1.一种具有表面纹路的研磨垫，包括一表面纹路，所述表面纹路包括至少一第一沟槽；至少一第二沟槽，由所述研磨垫的一中央部延伸到所述研磨垫的一边缘，且所述第一沟槽和所述第二沟槽交错而形成复数个交错点；和复数个孔洞，位于所述交错点上，且所述孔洞的深度大于所述第一沟槽的深度。
2. 根据权利要求l所述的研磨垫，其中所述第一沟槽由俯视观看为包括复数圈不同半 径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽为同心。
3. 根据权利要求l所述的研磨垫，其中所述第一沟槽由俯视观看为包括复数圈不同边 长的方形沟槽，且所述方形沟槽为同心。
4. 根据权利要求l所述的研磨垫，其中所述第一沟槽由俯视观看为一螺旋状沟槽。
5. 根据权利要求l所述的研磨垫，其中所述第二沟槽由俯视观看为包括复数条放射状 的沟槽。
6. 根据权利要求5所述的研磨垫，其中每一所述第二沟槽为一直线沟槽。
7. 根据权利要求5所述的研磨垫，其中每一所述第二沟槽为一弧状沟槽。
8. —种具有表面纹路的研磨垫，包括一表面纹路，所述表面纹路包括复数圈不同半径的圆形沟槽，所述圆形沟槽为同心；复数条放射状沟槽，由所述研磨垫的一中央部延伸到所述研磨垫的一边缘，且所述圆形沟槽和所述放射状沟槽交错而形成复数个交错点；和复数个第一孔洞，所述第一孔洞位于所述交错点上，且所述第一孔洞的深度大于所述圆形沟槽的深度。
9. 根据权利要求8所述的研磨垫，
10. 根据权利要求8所述的研磨垫，
11. 根据权利要求8所述的研磨垫， 形沟槽t。其中每--所述放射状沟槽为一直线沟槽。 其中每一 所述放射状沟槽为 一 弧状沟槽。 更包括复数个第二孔洞，所述第二孔洞位于所述圆
全文摘要
本发明涉及一种具有表面纹路的研磨垫，所述表面纹路位于所述研磨垫的一抛光面上，所述表面纹路包括至少一第一沟槽、至少一第二沟槽和复数个孔洞。所述第二沟槽由所述研磨垫的一中央部延伸到所述研磨垫的边缘，且所述第一沟槽和所述第二沟槽交错而形成复数个交错点。所述孔洞位于所述交错点上，且所述孔洞的深度大于所述第一沟槽的深度。藉此，所述第二沟槽可使悬浮于研磨浆液的杂质快速地离开所述研磨垫，而所述孔洞则可以储存研磨浆液以延长所述研磨浆液内的研磨粒子离开所述研磨垫的时间。
文档编号B24B29/00GK101100048SQ20061009017
公开日2008年1月9日 申请日期2006年7月3日 优先权日2006年7月3日
发明者冯崇智, 姚伊蓬, 宋坤政, 赵征祥 申请人:三芳化学工业股份有限公司